【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及单晶硅片烘干，具体为一种单晶硅片的清洗烘干装置。
技术介绍
1、单晶硅片：硅的单晶体，是一种具有基本完整的点阵结构的晶体。不同的方向具有不同的性质，是一种良好的半导材料。纯度要求达到99.9999％，甚至达到99.9999999％以上，用于制造半导体器件、太阳能电池等，用高纯度的多晶硅在单晶炉内拉制而成，单晶硅片在生产加工过程中，需要进行清洗，并利用清洗烘干装置对单晶硅片进行烘干。
2、例如公开号为cn217423867u的专利文件公开了一种单晶硅片烘干装置，包括机体，所述机体的顶部固定连接有电机，所述电机的输出端贯穿延伸至机体的内部固定连接有转轴，所述机体的内部转动连接有转杆，所述转杆和转轴之间设置有传动机构，所述转杆的外部套设有两个转盘，其中一个所述转盘与转杆为固定连接，另外一个所述转盘的表面上安装有锁紧螺栓。本技术中，在进行对单晶硅片清洗后烘干时，利用鼓风机工作进行吹风，通过喷嘴可对单晶硅片的表面进行烘干，相比与采用加热管进行烘干时，避免在对烘干后的单晶硅片拿取时对操作人员造成烫伤，安全性得到了保障，实用
【技术保护点】
1.一种单晶硅片的清洗烘干装置，包括工作台(1)，其特征在于：所述工作台(1)上端设置有用于对单晶硅片进行限位的限位机构，所述限位机构包括放置块(12)，所述放置块(12)中部通过销轴转动连接有滚轮(19)，所述工作台(1)上还设置有用于在烘干过程中对单晶硅片进行转动的圆周推动机构；
2.根据权利要求1所述的一种单晶硅片的清洗烘干装置，其特征在于：所述工作台(1)上端面四角均固定连接有支撑杆(27)，所述支撑杆(27)上端固定连接有固定环(32)，所述固定环(32)内侧转动连接有齿圈(33)，所述固定环(32)下端面固定连接有多个连接块(35)，所述连接块...
【技术特征摘要】
1.一种单晶硅片的清洗烘干装置，包括工作台(1)，其特征在于：所述工作台(1)上端设置有用于对单晶硅片进行限位的限位机构，所述限位机构包括放置块(12)，所述放置块(12)中部通过销轴转动连接有滚轮(19)，所述工作台(1)上还设置有用于在烘干过程中对单晶硅片进行转动的圆周推动机构；
2.根据权利要求1所述的一种单晶硅片的清洗烘干装置，其特征在于：所述工作台(1)上端面四角均固定连接有支撑杆(27)，所述支撑杆(27)上端固定连接有固定环(32)，所述固定环(32)内侧转动连接有齿圈(33)，所述固定环(32)下端面固定连接有多个连接块(35)，所述连接块(35)两端均通过销轴转动连接有第三连杆(37)，任意一端所述第三连杆(37)与连接块(35)的连接处通过销轴固定连接有齿轮(34)，所述齿轮(34)与齿圈(33)相互啮合，所述第三连杆(37)远离连接块(35)的一端通过销轴转动连接有第二连杆(36)，所述第二连杆(36)远离第三连杆(37)的一端通过销轴与放置块(12)转动相连。
3.根据权利要求2所述的一种单晶硅片的清洗烘干装置，其特征在于：所述齿圈(33)前端中部固定连接有滑槽杆(25)，所述滑槽杆(25)嵌入有第二导向柱(21)并与其滑动相连，所述第二导向柱(21)下端固定连接有螺纹块(22)，所述螺纹块(22)下端滑动连接于工作台(1)，所述螺纹块(22)螺纹连接有第一螺纹杆(23)，所述第一螺纹杆(23)左右两端均转动连接于工作台(1)。
4.根据权利要求2所述的一种单晶硅片的清洗烘干装置，其特征在于：所述放置块(12)中部滑动连接有压紧块(24)，所述压紧块(24)螺纹连接有...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈锋，沈国君，汪征，傅兴群，陆勇，
申请(专利权)人：浙江众晶电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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