【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于溅射操作的功率源和系统。
技术介绍
镀膜基片的用途十分广泛，它对于当今的消费产品，太阳能产品，和玻璃是至关重 要的。例如，利用镀膜基片的典型消费产品包括移动电话显示器，平板计算机显示器，平板 电视，个人数字辅助器，和数字钟表。这些镀膜基片通常是通过沉积薄层材料到特定基片上 制成的。通常，这种沉积材料是透明导电氧化物(TCO)，它发射光并能够传导电流。典型的 TCO包括铟锡氧化物(ITO)和铝锌氧化物(AZO)，但是，专业人员还知道其他的TC0。制造商利用称之为“溅射操作”的过程沉积TCO和其他薄膜到基片上。溅射操作 涉及利用离子轰击靶得到靶原子。从靶上溅射出的原子沉积在基片上，该基片通常是在溅 射过程时移动通过该靶。溅射的原子聚集在基片上并形成晶体，而最终形成薄膜。高密度 和高质量晶体对于高质量薄膜是重要的。图1至图4表示溅射过程的实施方案。例如，图1表示称之为“可转动磁控管”的 溅射系统。这个系统通常用于涂敷玻璃。基本的可转动磁控管包括可转动的阴极10和靶 15，它们放置在真空室20内。真空室20包括气体入口 25和气体出口 30，分别用于...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
US 2005-6-14 11/152,469一种在溅射系统中用于控制离子密度和溅射速率的方法，该方法包括加高频功率信号到阴极，从而产生第一离子浓度；减小加到阴极上的功率信号的频率，从而增大溅射速率和减小阴极周围的第一离子浓度；加高频功率信号到阴极，从而产生第二离子浓度；和减小加到阴极上的功率信号的频率，从而增大溅射速率和减小阴极周围的第二离子浓度。2.根据权利要求1所述的方法，还包括 在阴极周围叠加射频功率信号。3.一种在溅射系统中用于控制离子密度和溅射速率的方法，该方法包括 加第一脉冲宽度功率信号到阴极，从而产生第一离子浓度；减小加到阴极上的第一脉冲宽度功率信号的脉冲宽度，从而增大...
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