一种非顶点修饰的四面体框架核酸复合物及其制备方法和促进血管形成用途技术

本发明专利技术提供了一种非顶点修饰的四面体框架核酸复合物，它在DNA四面体框架核酸的非顶点位置连接目的核酸形成的纳米材料。本发明专利技术复合物的目的核酸位于非顶点位置，克服了传统四面体框架核酸顶点携带入胞的缺陷，且进一步制备的复合材料具备缓释药物的作用。本发明专利技术制备的携带了核酸适配体Apt02以及DMOG的材料可以促进血管内皮细胞VEGF生成，进而促进血管形成，在组织工程领域临床应用前景优良展。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于生物医药领域，具体涉及一种非顶点修饰的四面体框架核酸复合物及其制备方法和促进血管形成用途。

技术介绍

1、经典的四面体框架核酸由四条dna序列通过互补配对自组装形成。大量研究证实其自身性质优异，可以促进多种细胞增殖，迁移，其特定的四面体形态具有四个顶点，可以与细胞膜相互作用触发“角攻击”，并最终通过小窝蛋白介导的内吞途径实现“自主”入胞，其还具有易编辑的特性。

2、四面体框架核酸可以作为载体，携载目标物质进入细胞发挥功效，携载的目标物质mirna，sirna，核酸适配体等等等。目前已经报道的技术，是利用黏性末端将mirna，sirna，核酸适配体等目的核酸连接在四面体的顶点上“携带”入胞。但是，随着越来越复杂的修饰方式和对功能的要求越来越高，传统的顶点修饰方式的弊端逐渐凸显：最主要的问题在于可能会减弱四面体顶点“角攻击”所带来的入胞优势；此外，通过黏性末端相连接的方式并非一种绝对稳定的连接方式且对黏性末端的序列，孵育的时间与温度要求高，不满足要求会对影响目标产物的产率有很大影响，例如错配导致的产率降低或者目标核酸结构可能从黏性末端本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种非顶点修饰的四面体框架核酸复合物，其特征在于，它在DNA四面体框架核酸的非顶点位置连接目的核酸形成的纳米材料。

2.如权利要求1所述的复合物，其特征在于，目的核酸连接于DNA四面体框架核酸的边的中点位置前后3bp之间的碱基上；优选目的核酸连接于DNA四面体框架核酸的边的中点位置的碱基或中点位置两侧的碱基上。

3.如权利要求1所述的复合物，其特征在于，目的核酸与DNA四面体框架核酸通过点击化学方法连接；其中，DNA四面体框架核酸的1～3条单链DNA上的非顶点位置的T碱基被叠氮修饰。

4.如权利要求3所述的复合物，其特征在于，按照如下方法制备：...

【技术特征摘要】

1.一种非顶点修饰的四面体框架核酸复合物，其特征在于，它在dna四面体框架核酸的非顶点位置连接目的核酸形成的纳米材料。

2.如权利要求1所述的复合物，其特征在于，目的核酸连接于dna四面体框架核酸的边的中点位置前后3bp之间的碱基上；优选目的核酸连接于dna四面体框架核酸的边的中点位置的碱基或中点位置两侧的碱基上。

3.如权利要求1所述的复合物，其特征在于，目的核酸与dna四面体框架核酸通过点击化学方法连接；其中，dna四面体框架核酸的1～3条单链dna上的非顶点位置的t碱基被叠氮修饰。

4.如权利要求3所述的复合物，其特征在于，按照如下方法制备：

5.如权利要求1～4任意一项所述的复合物，其特征在于，目的核酸与dna四面体框架核酸的摩尔比不低于1:1；优选3：1。

6.如权利要求1～5任意一项所述的复合物，其特征在于，所述目的核酸为mirna、sirna或核酸适配体；和/或，所述目的核酸的长度为10～...

【专利技术属性】
技术研发人员：林云锋，葛奕辰，姚阳雪，秦鑫，蔡潇潇，
申请(专利权)人：四川大学，
类型：发明
国别省市：