【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学元件测量和激光光束测量，特别是一种光场波前测量装置和测量方法。
技术介绍
1、光束相位往往能够比振幅反映出更多的细节信息，因此相位测量在光学检测中具有重要意义，传统的光学相位测量仪器主要有zygo干涉仪和哈特曼传感器。zygo干涉仪仪器化程度高，在低频区域测量精度高，能够对大口径光学元件进行精密测量，但其造价高、体积大、对环境要求苛刻、不能在线测量、不能测量待测光束，而且在测量大梯度变化相位时精度有限。哈特曼传感器体积小、测量速度快、抗干扰能量强、可以在线测量光束和元件的相位分布，但是其测量精度受限于微透镜阵列的个数和单个测量单元的尺寸，空间分辨率较低，在测量大梯度变化的相位时会出现信号串扰，影响测量精度。针对传统测量仪器的局限性，研究人员在计算光学领域开发出多种测量方法，比如相干衍射成像(cdi)技术，叠层成像(pie)技术等，实现了大口径、大梯度相位变化光学元件和待测激光束的高精度测量，但是这类技术都需要移动探测光或者待测物体来记录多幅衍射光斑，数据采集时间长，不适用于单发次激光系统中的在线测量。
【技术保护点】
1.一种光场波前测量装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光场波前测量装置，其特征在于，还包括设置于所述第一分束器和待测元件之间的准直透镜，用于将光源调整为平行的探测光，并对所述探测光或待测光束聚焦。
3.根据权利要求1所述的光场波前测量装置，其特征在于，还包括设置于所述第二分束器和第一成像系统之间的衰减器，用于对所述取样光束进行衰减，使所述第一成像系统采集到的光斑不饱和。
4.根据权利要求1-3任一所述的光场波前测量装置，其特征在于，所述反射镜为高精度平面反射镜，所述待测元件为透射式光学元件或者反射式光学元件。
...【技术特征摘要】
1.一种光场波前测量装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光场波前测量装置，其特征在于，还包括设置于所述第一分束器和待测元件之间的准直透镜，用于将光源调整为平行的探测光，并对所述探测光或待测光束聚焦。
3.根据权利要求1所述的光场波前测量装置，其特征在于，还包括设置于所述第二分束器和第一成像系统之间的衰减器，用于对所述取样光束进行衰减，使所述第一成像系统采集到的光斑不饱和。
4.根据权利要求1-3任一所述的光场波前测量装置，其特征在于，所述反射镜为高精度平面反射镜，所述待测元件为透射式光学元件或者反射式光学元件。<...
【专利技术属性】
技术研发人员：昌成成，陶华，刘诚，朱健强，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：
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