【技术实现步骤摘要】
本技术涉及芯片烘干，具体的说是一种芯片烘干用可调式摆放架。
技术介绍
1、目前，芯片刻蚀方式中湿法刻蚀因其相对于干法刻蚀具有工艺简单、成本较低、产率高和刻蚀副产品易排除等特点，而被广泛应用。芯片采用刻蚀液对芯片表面金属氧化物膜进行刻蚀，然后经去离子水浸泡清洗，清洗后由于芯片表面张力的作用，其表面会残留一层水珠，因此需要对芯片进行静置初步除水和烘干的二次除水。
2、但是芯片除水过程中，芯片放置架的使用存在以下问题：1、静置初步水分沥干和烘干二次除水两个过程使用不同的芯片摆放架，而产生了繁琐的芯片转移流程，加大了外界环境对芯片的污染；2、在这两个过程中，芯片摆放架通常仅针对几类尺寸相近的芯片进行设计，芯片对应的限位支架间距固定，使得摆放架的应用需要单独设计、适用范围有限；3、烘干时，芯片存在表面落尘，受到污染的风险。
技术实现思路
1、本技术的目的在于：为了解决芯片烘干时摆放架交替使用需要进行芯片转移而产生的芯片污染、摆放架限位结构间距固定使用范围有限和芯片烘干时表面落尘的问题，而...
【技术保护点】
1.一种芯片烘干用可调式摆放架，其特征在于，包括底座(1)和上盖(2)，所述底座(1)通过多个连接杆(3)固定在所述上盖(2)上，所述底座(1)内部设置成对的限位支架(7)，所述限位支架(7)上端设置弧形限位件(10)，所述弧形限位件(10)两侧设置限位块(11)，芯片放置在所述限位支架(7)上。
2.根据权利要求1所述的一种芯片烘干用可调式摆放架，其特征在于，所述底座(1)内底部设置排水倾斜块(4)。
3.根据权利要求2所述的一种芯片烘干用可调式摆放架，其特征在于，所述排水倾斜块(4)两侧设置多个第一滑槽(5)，所述第一滑槽(5)上设置第二滑
<...【技术特征摘要】
1.一种芯片烘干用可调式摆放架，其特征在于，包括底座(1)和上盖(2)，所述底座(1)通过多个连接杆(3)固定在所述上盖(2)上，所述底座(1)内部设置成对的限位支架(7)，所述限位支架(7)上端设置弧形限位件(10)，所述弧形限位件(10)两侧设置限位块(11)，芯片放置在所述限位支架(7)上。
2.根据权利要求1所述的一种芯片烘干用可调式摆放架，其特征在于，所述底座(1)内底部设置排水倾斜块(4)。
3.根据权利要求2所述的一种芯片烘干用可调式摆放架，其特征在于，所述排水倾斜块(4)两侧设置多个第一滑槽(5)，所述第一滑槽(5)上设置第二滑槽(6)。
4.根据权利要求3所述的一种芯片烘干用可调式摆放架，其特征在于，所述限位支架(7)底部设置第一滑块(8)，...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨杰，王天宇，李大伟，
申请(专利权)人：太仓天宇电子有限公司，
类型：新型
国别省市：
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