【技术实现步骤摘要】
本专利技术光学检测,尤其涉及一种光学检测设备和光学检测方法。
技术介绍
1、光学成像设备广泛应用于生物医学、半导体生产检测、精密加工等多个领域,设备基本原理为,通过光源照明待测物,经过光学系统将待测物成像在探测器上。基于不同应用场景,探测器的形状尺寸多种多样。光学系统通常为中心对称系统,即理想视场是圆形。图1为现有技术中的一种光学系统在探测器上的成像视场示意图,参考图1,当探测器30’形状非中心对称时,会导致基于探测器30’长边尺寸来设计的光学系统,在探测器短边方向有范很大围成像视场103’内的光都被探测器30’边缘拦截掉(图1中圆形视场内部图案填充区域)。从而导致光能量利用率的下降。探测器探测检出基于信噪比,其他条件不变时,光能量利用率下降会导致探测器接收光能量下降,从而导致信号降低,影响探测检出效果。
技术实现思路
1、有鉴于此,本专利技术实施例提供了一种光学检测设备和光学检测方法,使得光学系统视场与探测器的尺寸匹配,提高光能量利用率,兼顾光学检测效率以及光学系统设计简易化。
< ...【技术保护点】
1.一种光学检测设备,其特征在于,包括光源、光学系统和探测器;
2.根据权利要求1所述的光学检测设备,其特征在于,所述探测光束经所述光学系统在所述待测物体表面形成照明视场,所述照明视场在第一方向的长度为a,所述照明视场在第二方向的长度为b;所述成像面在所述第一方向的长度为m,所述成像面在所述第二方向的长度为n;
3.根据权利要求2所述的光学检测设备,其特征在于,所述照明视场在所述第一方向的长度小于所述成像面在所述第一方向的长度;和/或,所述照明视场在所述第二方向的长度小于所述成像面在所述第二方向的长度;
4.根据权利要求2所述的光学
...【技术特征摘要】
1.一种光学检测设备,其特征在于,包括光源、光学系统和探测器;
2.根据权利要求1所述的光学检测设备,其特征在于,所述探测光束经所述光学系统在所述待测物体表面形成照明视场,所述照明视场在第一方向的长度为a,所述照明视场在第二方向的长度为b;所述成像面在所述第一方向的长度为m,所述成像面在所述第二方向的长度为n;
3.根据权利要求2所述的光学检测设备,其特征在于,所述照明视场在所述第一方向的长度小于所述成像面在所述第一方向的长度;和/或,所述照明视场在所述第二方向的长度小于所述成像面在所述第二方向的长度;
4.根据权利要求2所述的光学检测设备,其特征在于,所述视场调整组件包括多个透镜,多个透镜沿所述光学系统的光轴方向排列。
5.根据权利要求4所述的光学检测设备,其特征在于,多个所述透镜包括第一透镜组和第二透镜组,所述第一透镜组和所述第二透镜组沿所述光轴方向排列;
6.根据权利要求2所述的光学检测设备,其特征在于,所述光学系统还包括探测光束调整组件,用于使所述探测光束在所述待...
【专利技术属性】
技术研发人员:孔寒夫,孙刚,
申请(专利权)人:上海御微半导体技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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