【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及粮食加工领域，尤其涉及一种大米抛光参数的控制方法、装置、设备及存储介质。
技术介绍
1、稻谷经脱壳后成为糙米，糙米经过碾白后成为大米。大米米粒的表面还带有少量糠粉，影响大米的外观品质、储存性和制成的米饭的口感，所以需要通过“抛光”工序去掉这部分糠粉。大米抛光的主要作用是去除粘附在大米表面的糠粉，使米粒表面清洁光亮，提高成品的外观色泽，这不仅可以提高成品大米的质量和商业价值，还有利于大米的储藏，保持大米的新鲜度，提高大米的食用品质，然而传统的大米加工工艺在一定程度上影响了大米的品质和营养价值。
2、米抛光研究理论缺乏，对抛光机的参数调控多基于经验控制，这种调节方法主观性强，导致大米在加工过程中易出现参数调整不够精确的问题。
3、上述内容仅用于辅助理解本专利技术的技术方案，并不代表承认上述内容是现有技术。
技术实现思路
1、本专利技术的主要目的在于提供一种大米抛光参数的控制方法、装置、设备及储存介质，旨在解决大米在加工过程中易出现参数调整不够精确的技术问题
2、本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种大米抛光参数的控制方法，其特征在于，所述大米抛光参数的控制方法包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的大米抛光参数的控制方法，其特征在于，所述通过信息采集装置采集大米抛光工序加工参数和大米加工前后的数据，包括：
3.如权利要求1所述的大米抛光参数的控制方法，其特征在于，所述根据所述大米抛光工序加工参数和所述大米加工前后的数据进行分析，剔除异常值，得到初始数据，包括：
4.如权利要求1所述的大米抛光参数的控制方法，其特征在于，所述根据所述初始数据建立初始样本空间，在样本空间中以工序中预设特征点为输入量，以工序完成后预设特征点为输...
【技术特征摘要】
1.一种大米抛光参数的控制方法，其特征在于，所述大米抛光参数的控制方法包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的大米抛光参数的控制方法，其特征在于，所述通过信息采集装置采集大米抛光工序加工参数和大米加工前后的数据，包括：
3.如权利要求1所述的大米抛光参数的控制方法，其特征在于，所述根据所述大米抛光工序加工参数和所述大米加工前后的数据进行分析，剔除异常值，得到初始数据，包括：
4.如权利要求1所述的大米抛光参数的控制方法，其特征在于，所述根据所述初始数据建立初始样本空间，在样本空间中以工序中预设特征点为输入量，以工序完成后预设特征点为输出量构建rbf模型，包括：
5.如权利要求4所述的大米抛光参数的控制方法，其特征在于，所述以抛光加工完成后大米的光洁度和均匀度为输出量构建rbf模型之后，还包括：
6.如权利要求5所述的大米抛光参数的控制方法，其特征在于，所述通过...
【专利技术属性】
技术研发人员：尹强，刘桐萧，张永林，王君，刘晓鹏，魏昕，周劲，苗青，
申请(专利权)人：武汉轻工大学，
类型：发明
国别省市：
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