【技术实现步骤摘要】
本技术涉及去离子水排放，尤其涉及一种半导体湿法设备制程工艺去离子水使用控制系统。
技术介绍
1、目前，半导体湿法设备制程工艺中对于去离子水的排放一般有两种情况。第一种情况是直供直排。所谓直供直排，即废水通过手动阀门和废水管道直接排到废水池中，这种方式的不足是如果在半导体湿法设备制程工艺中有比较洁净的水流出，则会导致这些去离子水白白流入废水池中，所以该种方式容易浪费宝贵的水资源。第二种情况是循环排放。所谓循环排放为规定水的使用片数或使用周期，即到达使用片数或者使用周期后直接排放去离子水，这种方式与上面第一种方式相比对水的使用比较节约，但是这种方式的不足是对水质没有管控，在使用周期内如果出现异常水污染没有及时排放，会造成产品污染，从而造成损失。
技术实现思路
1、本技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本技术的一个目的在于提供一种半导体湿法设备制程工艺去离子水使用控制系统，该系统可以实现去离子水最大程度的利用，并可有效降低水质异常对产品的影响。
2、为达到上述...
【技术保护点】
1.一种半导体湿法设备制程工艺去离子水使用控制系统，其特征在于，包括多个工艺池，每一工艺池对外连接有第一管路和第二管路，每一工艺池通过所述第一管路与废水池连接，各工艺池按照装载的去离子水水质进行等级划分，其中，最高级别工艺池装有最高洁净等级去离子水，最低级别工艺池装有最低洁净等级去离子水，各工艺池按照装载的去离子水洁净等级依次通过所述第二管路进行连接；
2.如权利要求1所述的半导体湿法设备制程工艺去离子水使用控制系统，其特征在于，每一工艺池中设置有水阻计，用于监测对应工艺池中的去离子水的水质。
3.如权利要求1所述的半导体湿法设备制程工艺去离子...
【技术特征摘要】
1.一种半导体湿法设备制程工艺去离子水使用控制系统，其特征在于，包括多个工艺池，每一工艺池对外连接有第一管路和第二管路，每一工艺池通过所述第一管路与废水池连接，各工艺池按照装载的去离子水水质进行等级划分，其中，最高级别工艺池装有最高洁净等级去离子水，最低级别工艺池装有最低洁净等级去离子水，各工艺池按照装载的去离子水洁净等级依次通过所述第二管路进行连接；
2.如权利要求1所述的半导体湿法设备制程工艺去离子水使用控制系统，其特征在于，每一工艺池中设置有水阻计，用于监测对应工艺池中的去离子水的水质。
3.如权利要求1所述的半导体湿法设备制程工艺去离子水使用控制系统，其特征在于，每一工艺池对外连接的所述第一管路上设置有第一电磁阀。
4.如权利要求3所述的半导体湿法设备制程工艺去离子水使用控制系统，其特征在于，相邻工艺池连接的所述第二管路上...
【专利技术属性】
技术研发人员：王发强，
申请(专利权)人：紫旸升光电科技淄博有限公司，
类型：新型
国别省市：
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