System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 红色荧光的荧光陶瓷、制备方法及使用方法技术_技高网

红色荧光的荧光陶瓷、制备方法及使用方法技术

技术编号:40800265 阅读:4 留言:0更新日期:2024-03-28 19:26
本发明专利技术公开红色荧光的荧光陶瓷、制备方法及使用方法。所述荧光陶瓷是以LuAG作为基质材料,以Mn<supgt;4+</supgt;离子作为发光离子。所述Mn<supgt;4+</supgt;离子的摩尔浓度范围在0<y≤2at.%。所述荧光陶瓷的分子式为Mn<subgt;x</subgt;:Lu<subgt;3</subgt;Al<subgt;5‑x</subgt;O<subgt;12</subgt;,其中,x的取值范围:0<x≤0.1。本发明专利技术的有益效果在于:具备高热导率及优异的机械性能,可直接利用现有高亮度投影仪中的蓝色激发光源,生成红色光源,解决高亮度激光照明及投影产品中红色荧光陶瓷的缺失问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及荧光陶瓷,特别地是,红色荧光的荧光陶瓷、制备方法及使用方法


技术介绍

1、激光照明是以半导体激光器为核心光源,采用激光激发荧光体或纯激光混光等技术,产生高亮白光的照明技术。利用蓝色激光激发黄色荧光体ce:yag合成白光的激光照明方式光源结构简单,成本较低,适合批量生产,是目前激光照明研究的主流技术方向。显色指数为光源显色性评价系数,是照明中三大重要指数之一。然而ce:yag荧光陶瓷与蓝光ld芯片组成的白光光谱中缺少红光成分,显色指数较低,极大地限制了其在高显色领域中的应用。目前yag基荧光陶瓷显色指数提升方式包括:涂覆红光荧光粉或荧光薄膜、样品发光光谱整体红移。


技术实现思路

1、本专利技术目的是解决现有技术中ce:yag荧光陶瓷与蓝光ld芯片组成的白光光谱中缺少红光成分的问题,而提供一种新型的红色荧光的荧光陶瓷、制备方法及使用方法。

2、为了实现这一目的,本专利技术的技术方案如下:红色荧光的荧光陶瓷是以luag作为基质材料,以mn4+离子作为发光离子。

3、作为红色荧光的荧光陶瓷的优选方案,所述mn4+离子的摩尔浓度范围在0<y≤2at.%。

4、作为红色荧光的荧光陶瓷的优选方案,所述荧光陶瓷的分子式为mnx:lu3al5-xo12,其中,x的取值范围:0<x≤0.1。

5、本专利技术还公开红色荧光的荧光陶瓷的制备方法,用于制备所述的红色荧光的荧光陶瓷,其特征在于,包括以下步骤并且依次执行:

6、步骤s1,称取mno2、lu2o3、al2o3并且利用无水乙醇作为球磨介质进行球磨,球磨后得到浆料经过干燥过筛装入模具中压制成型,形成素坯;

7、步骤s2,将步骤s1的素坯放入真空钨丝烧结炉中真空烧结;

8、步骤s3,将步骤s2烧结后的素坯放入管式气氛炉中氧气热处理烧结;以及,

9、步骤s4,对素坯进行后处理,得到陶瓷成品。

10、作为红色荧光的荧光陶瓷的制备方法的优选方案,步骤s1中,称取mno2、lu2o3、al2o3,使得所述mn4+离子的摩尔浓度范围在0<y≤2at.%。

11、作为红色荧光的荧光陶瓷的制备方法的优选方案,步骤s2中,真空度范围在10-3pa以下,加热温度范围在1500-1800℃,保温时间范围在5-20h。

12、作为红色荧光的荧光陶瓷的制备方法的优选方案,步骤s2中,经过真空烧结后的素坯的致密度≥85%。

13、作为红色荧光的荧光陶瓷的制备方法的优选方案,步骤s3中,氧气气氛下,加热温度范围在1350-1700℃,保温时间在10-30h。

14、作为红色荧光的荧光陶瓷的制备方法的优选方案,步骤s4中,后处理包括:抛光加工处理。

15、本专利技术公开红色荧光的荧光陶瓷的使用方法,包括:所述的荧光陶瓷在ld或led的出射光的的直接激发下获得红光区域宽峰发射;较佳地,出射光的波长范围在440-460nm。

16、与现有技术相比,本专利技术的有益效果至少在于:1.制备得到的荧光陶瓷具有高热导率及优异的机械性能,可直接利用现有高亮度投影仪中的蓝色激发光源,生成红色光源,解决高亮度激光照明及投影产品中红色荧光陶瓷的缺失问题;2.利用真空烧结加氧气氛热处理烧结两步法进行制备,实现高光学质量陶瓷制备的同时将mn元素的离子价态完全氧化调控至正四价,实现mn4+离子在455nm附近蓝光的激发下发射600-750nm红光;3.无需添加锰离子价态调控离子,减少荧光陶瓷缺陷中心数量,提升荧光陶瓷耐辐照性能及光学性能。

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【技术保护点】

1.红色荧光的荧光陶瓷,其特征在于,所述荧光陶瓷是以LuAG作为基质材料,以Mn4+离子作为发光离子。

2.根据权利要求1所述的红色荧光的荧光陶瓷,其特征在于,所述Mn4+离子的摩尔浓度范围在0<y≤2at.%。

3.根据权利要求1所述的红色荧光的荧光陶瓷,其特征在于,所述荧光陶瓷的分子式为Mnx:Lu3Al5-xO12,其中,x的取值范围:0<x≤0.1。

4.红色荧光的荧光陶瓷的制备方法,用于制备权利要求1至3中任意一项所述的红色荧光的荧光陶瓷,其特征在于,包括以下步骤并且依次执行:

5.根据权利要求4所述的红色荧光的荧光陶瓷的制备方法,其特征在于,步骤S1中,称取MnO2、Lu2O3、Al2O3,使得所述Mn4+离子的摩尔浓度范围在0<y≤2at.%。

6.根据权利要求4所述的红色荧光的荧光陶瓷的制备方法,其特征在于,步骤S2中,真空度范围在10-3Pa以下,加热温度范围在1500-1800℃,保温时间范围在5-20h。

7.根据权利要求4所述的红色荧光的荧光陶瓷的制备方法,其特征在于,步骤S2中,经过真空烧结后的素坯的致密度≥85%。

8.根据权利要求4所述的红色荧光的荧光陶瓷的制备方法,其特征在于,步骤S3中,氧气气氛下,加热温度范围在1350-1700℃,保温时间在10-30h。

9.根据权利要求4所述的红色荧光的荧光陶瓷的制备方法,其特征在于,步骤S4中,后处理包括:抛光加工处理。

10.红色荧光的荧光陶瓷的使用方法,其特征在于,包括:

...

【技术特征摘要】

1.红色荧光的荧光陶瓷,其特征在于,所述荧光陶瓷是以luag作为基质材料,以mn4+离子作为发光离子。

2.根据权利要求1所述的红色荧光的荧光陶瓷,其特征在于,所述mn4+离子的摩尔浓度范围在0<y≤2at.%。

3.根据权利要求1所述的红色荧光的荧光陶瓷,其特征在于,所述荧光陶瓷的分子式为mnx:lu3al5-xo12,其中,x的取值范围:0<x≤0.1。

4.红色荧光的荧光陶瓷的制备方法,用于制备权利要求1至3中任意一项所述的红色荧光的荧光陶瓷,其特征在于,包括以下步骤并且依次执行:

5.根据权利要求4所述的红色荧光的荧光陶瓷的制备方法,其特征在于,步骤s1中,称取mno2、lu2o3、al2o3,使得所述mn4+离子的摩尔浓度范...

【专利技术属性】
技术研发人员:张攀德王红叶勇李东升曾庆兵
申请(专利权)人:上海航空电器有限公司
类型:发明
国别省市:

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