【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体，尤其涉及一种对射传感器电路、对射传感器控制方法和传输机。
技术介绍
1、半导体晶圆在制造过程中需要在生产线上不同的工艺模块之间进行高效的传输和定位，晶圆传输机(wafer sorter)是完成该任务的关键装备，能够使晶圆在不受污染的条件下被准确的传输。
2、晶圆传输机至少包括用于存储晶圆的晶圆盒(front opening unifiedpod，简称foup)、用于承载晶圆盒的装载端口(load port)以及用于将晶圆从晶圆盒内取出和收纳至晶圆盒内的操作机械手，该装载端口包括开门器和设置在开门器上的承载机构，当半导体生产线上的运输小车将晶圆盒移至装载端口前，通过人工或机械手将晶圆盒放置到装载端口的承载机构上，然后由开门器执行晶圆盒的开盒动作，装载端口在对晶圆盒开盒后首先要通过对射传感器(mapping传感器)对盒内进行晶圆的扫描，判断盒内的晶圆片是否有叠片、斜片、摆放突出等问题，进而由操作机械手取出晶圆盒内的晶圆并在不同的装载端口之间进行相互传输。
3、现有对射传感器大多包括一对水平设置的发射光纤和接收光纤，发射光纤和接收光纤随机械部件移动，对晶圆片进行扫描，判断晶圆是否有叠片、斜片，若需对晶圆进行突出检测，则需垂直设置一对发射光纤和接收光纤，无法识别晶圆突出的具体位置，且成本较高。
技术实现思路
1、本专利技术提供一种对射传感器电路、对射传感器控制方法和传输机，用以解决现有技术中无法高效识别晶圆位置信息，放置错误，摆放突出的具体位置
2、第一方面，本专利技术提供一种对射传感器电路，包括对射杆、对射杆发射端、对射杆接收端、位置传感器和控制电路，所述对射杆发射端和所述对射杆接收端均固定在所述对射杆上，待检测目标设在所述对射杆发射端和所述对射杆接收端之间；所述对射杆发射端、所述对射杆接收端和所述位置传感器分别与所述控制电路电连接；
3、所述位置传感器用于获取所述对射杆的位移，所述对射发射端包括预设波长的光源；所述对射杆接收端包括第一接收电路和至少一第二接收电路，所述第一接收电路和所述第二接收电路均用于获取所述光源经所述待检测目标遮挡和未经所述待检测目标遮挡的光通量变化值，得到第一光通量变化信号和第二光通量变化信号；所述控制电路用于根据所述第一光通量变化信号、所述第二光通量变化信号和所述位移，确定所述待检测目标的检测结果。
4、根据本专利技术提供的一种对射传感器电路，所述第二接收电路和所述光源之间的连接线与所述待检测目标的外切线重合，对应的，根据所述第一光通量变化信号、所述第二光通量变化信号和所述位移，确定所述待检测目标的检测结果，包括：
5、根据所述第一光通量变化信号和所述位移，确定所述待检测目标的上表面位置、下表面位置、厚度信息、叠片信息、斜片信息和斜片位置中的至少一个；
6、根据所述第二光通量变化信号和所述位移，确定所述待检测目标的外表面突出信息和外表面突出位置；
7、将所述外表面突出信息、所述外表面突出位置以及所述上表面位置、所述下表面位置、所述厚度信息、叠片信息、斜片信息和斜片位置中的至少一个作为所述待检测目标的检测结果。
8、根据本专利技术提供的一种对射传感器电路，所述控制电路包括发射端控制单元、接收端控制单元和数据处理单元；
9、所述发射端控制单元分别与所述光源和所述数据处理单元连接，用于根据所述数据处理单元发送的控制信号控制所述光源工作；
10、所述接收端控制单元包括放大电路和反相器，所述放大电路用于对所述第一光通量变化信号和所述第二光通量变化信号进行放大，所述反相器用于对所述第一光通量变化信号和所述第二光通量变化信号进行边沿整形，并将放大整形后的所述第一光通量变化信号和所述第二光通量变化信号发送至所述数据处理单元。
11、根据本专利技术提供的一种对射传感器电路，所述位置传感器包括编码器，对应的，所述数据处理单元还用于获取所述编码器输出的脉冲信号，并对所述脉冲信号进行锁存处理，还用于对所述第一光通量变化信号和所述第二光通量变化信号的异常边沿进行采样处理，得到边沿采样信号，并剔除所述边沿采样信号中的异常信号。
12、根据本专利技术提供的一种对射传感器电路，所述发射端控制单元和所述接收端控制单元均设有静电放电防护电路。
13、根据本专利技术提供的一种对射传感器电路，所述发射端控制单元设有电源开关以控制所述对射杆、所述对射杆发射端、所述对射杆接收端、所述位置传感器和所述控制电路的工作电源。
14、根据本专利技术提供的一种对射传感器电路，所述光源为红外光源，对应的，所述第一接收电路和所述第二接收电路均包括敏感度与所述红外光源的波长范围内的光敏器件。
15、根据本专利技术提供的一种对射传感器电路，所述光源、所述第一接收电路和所述第二接收电路均采用高柔导线与所述控制电路连接。
16、第二方面，本专利技术提供一种对射传感器控制方法，包括：
17、基于对射杆带动对射杆发射端和对射杆接收端，并基于位置传感器获取所述对射杆的位移，所述对射发射端上设有预设波长的光源；
18、基于所述对射杆接收端上的第一接收电路和至少一第二接收电路分别获取所述光源经待检测目标遮挡和未经所述待检测目标遮挡的光通量变化值，得到第一光通量变化信号和第二光通量变化信号；
19、根据所述第一光通量变化信号、所述第二光通量变化信号和所述位移，确定所述待检测目标的检测结果。
20、第三方面，本专利技术还提供一种传输机，包括任一项所述的对射传感器电路。
21、本专利技术提供的对射传感器电路、对射传感器控制方法和传输机，包括对射杆、对射杆发射端、对射杆接收端、位置传感器和控制电路，所述对射杆发射端和所述对射杆接收端均固定在所述对射杆上，待检测目标设在所述对射杆发射端和所述对射杆接收端之间；所述对射杆发射端、所述对射杆接收端和所述位置传感器分别与所述控制电路电连接；所述位置传感器用于获取所述对射杆的位移，所述对射发射端包括预设波长的光源；所述对射杆接收端包括第一接收电路和第二接收电路，所述第一接收电路和所述第二接收电路均用于获取所述光源经所述待检测目标遮挡和未经所述待检测目标遮挡的光通量变化值，得到第一光通量变化信号和第二光通量变化信号；所述控制电路用于根据所述第一光通量变化信号、所述第二光通量变化信号和所述位移，确定所述待检测目标的检测结果。本专利技术通过光源、第二接收电路和位置传感器配合可实现晶圆突出检测功能，可精确定位发生问题的位置，第一接收电路和第二接收电路对应同一个光源，降低了成本。
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1.一种对射传感器电路，其特征在于，包括对射杆、对射杆发射端、对射杆接收端、位置传感器和控制电路，所述对射杆发射端和所述对射杆接收端均固定在所述对射杆上，待检测目标设在所述对射杆发射端和所述对射杆接收端之间；所述对射杆发射端、所述对射杆接收端和所述位置传感器分别与所述控制电路电连接；
2.根据权利要求1所述的对射传感器电路，其特征在于，所述第二接收电路和所述光源之间的连接线与所述待检测目标的外切线重合，对应的，根据所述第一光通量变化信号、所述第二光通量变化信号和所述位移，确定所述待检测目标的检测结果，包括：
3.根据权利要求1所述的对射传感器电路，其特征在于，所述控制电路包括发射端控制单元、接收端控制单元和数据处理单元；
4.根据权利要求3所述的对射传感器电路，其特征在于，所述位置传感器包括编码器，对应的，所述数据处理单元还用于获取所述编码器输出的脉冲信号，并对所述脉冲信号进行锁存处理，还用于对所述第一光通量变化信号和所述第二光通量变化信号的异常边沿进行采样处理，得到边沿采样信号，并剔除所述边沿采样信号中的异常信号。
5.根据权利要
6.根据权利要求3所述的对射传感器电路，其特征在于，所述发射端控制单元设有电源开关以控制所述对射杆、所述对射杆发射端、所述对射杆接收端、所述位置传感器和所述控制电路的工作电源。
7.根据权利要求1所述的对射传感器电路，其特征在于，所述光源为红外光源，对应的，所述第一接收电路和所述第二接收电路均包括敏感度与所述红外光源的波长范围内的光敏器件。
8.根据权利要求1所述的对射传感器电路，其特征在于，所述光源、所述第一接收电路和所述第二接收电路均采用高柔导线与所述控制电路连接。
9.一种对射传感器控制方法，其特征在于，包括：
10.一种传输机，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的对射传感器电路。
...【技术特征摘要】
1.一种对射传感器电路，其特征在于，包括对射杆、对射杆发射端、对射杆接收端、位置传感器和控制电路，所述对射杆发射端和所述对射杆接收端均固定在所述对射杆上，待检测目标设在所述对射杆发射端和所述对射杆接收端之间；所述对射杆发射端、所述对射杆接收端和所述位置传感器分别与所述控制电路电连接；
2.根据权利要求1所述的对射传感器电路，其特征在于，所述第二接收电路和所述光源之间的连接线与所述待检测目标的外切线重合，对应的，根据所述第一光通量变化信号、所述第二光通量变化信号和所述位移，确定所述待检测目标的检测结果，包括：
3.根据权利要求1所述的对射传感器电路，其特征在于，所述控制电路包括发射端控制单元、接收端控制单元和数据处理单元；
4.根据权利要求3所述的对射传感器电路，其特征在于，所述位置传感器包括编码器，对应的，所述数据处理单元还用于获取所述编码器输出的脉冲信号，并对所述脉冲信号进行锁存处理，还用于对所述第一光通量变化信号和所述第二光通...
【专利技术属性】
技术研发人员：丁金龙，陈杰，杨子臣，毛焕，邓博雅，吕维迪，周亮，廖博轩，
申请(专利权)人：北京京仪自动化装备技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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