【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体微污染分析领域，具体涉及无尘棉签的清洁方法。
技术介绍
1、随着半导体行业的快速发展，对半导体器件表面的污染控制和技术工艺的要求也越来越高。
2、为了控制制造环境中的微污染，提高产品良率，对制造设备零部件的表面微污染以及其清洗再生后的表面微污染的检测至关重要。
3、半导体制造设备部件表面微污染物有很大一部分属于金属元素和化合物，需要用到元素定量分析技术。常见的微量元素分析手段中，电感耦合等离子质谱(以下称为“icp-ms”)是较为广泛使用的一种。icp-ms具有低至ppt级别的低检测限和高检测精度的优点，符合半导体制造厂对器件和设备表面微污染控制的检测需求。
4、目前常用的部件表面微污染测试手段为棉签擦拭法，用棉签浸湿萃取液，反复擦拭样品表面，将擦拭后的棉签浸泡在萃取液里，一定时间后回收，通过icp-ms测试，可以得出部件表面微污染含量。
5、棉签擦拭取样前，需要对棉签进行洁验证，以确保它们符合标准。
6、但有以下几个问题的存在：
7、1、大多数无尘棉签的材料组成，擦头为聚酯，棉签杆为有颜色的pp杆，带颜色的pp材料，制作过程中会添加色粉，本身就含有金属离子。
8、2、常规的清洗，多数是使用酸，反复的清洗会导致清洗成本增高。
9、3、清洗的周期长。
技术实现思路
1、针对现有技术存在的问题，本专利技术提供一种半导体制造设备部件擦拭取样用的无尘棉签的清洁方法，已解决上述
2、本专利技术的技术方案是：一种半导体制造设备部件擦拭取样用的无尘棉签的清洁方法，其特征在于，包括如下步骤：
3、步骤一，超纯水初洗；
4、步骤二，初始值检测，获得无尘棉签初始的金属元素成分；
5、步骤三，超声处理：
6、先进行超纯水清洗后，将装有无尘棉签的瓶子加满水，超声清洗；
7、步骤四，加热处理：
8、先进行超纯水清洗后，将装有无尘棉签的瓶子加满水，放入无尘烘箱加热；
9、步骤五，检测获得无尘棉签清洗处理后的金属元素成分。
10、清洗前后结果对比效果，使用该清洗方式，金属析出明显。
11、进一步优选的，步骤一中，将无尘棉签放入已经清洗好的250mlpfa瓶，使用超纯水加满，然后倒掉，重复6～10次，洗去棉签表面的杂质。
12、进一步优选的，步骤二中，将装有无尘棉签的瓶子里加入硝酸，硝酸的质量百分比浓度为0.14％-3.0％，棉签头在下，棉签杆在上，硝酸刚好浸没过棉签头，计时5-10min，取部分浸泡液进行icp-ms分析。
13、进一步优选的，步骤三中的超纯水清洗的方法为将无尘棉签放入已经清洗好的250mlpfa瓶，使用超纯水加满，然后倒掉，重复6～10次，洗去棉签表面的杂质。
14、进一步优选的，步骤三中，超声清洗时间为1～4h，超声清洗功率为60％～100％的最大功率，超声清洗的最大功率为400w，超声清洗的水温为25℃～50℃。
15、进一步优选的，步骤四中的超纯水清洗的方法为将无尘棉签放入已经清洗好的250mlpfa瓶，使用超纯水加满，然后倒掉，重复6～10次，洗去棉签表面的杂质。
16、进一步优选的，步骤四中，无尘烘箱加热温度为20℃～120℃，时间为1h～16h。
17、进一步优选的，步骤五中，将装有无尘棉签的瓶子里加入硝酸，硝酸的质量百分比浓度为0.14％-3.0％，棉签头在下，棉签杆在上，硝酸刚好浸没过棉签头，计时5-10min，取部分浸泡液进行icp-ms分析。
18、进一步优选的，步骤五检测的金属元素成分符合要求时，结束清洗；
19、步骤五检测的金属元素成分不符合要求时，重复步骤四与步骤五。
20、一种半导体制造设备部件擦拭取样用的无尘棉签的清洁方法，其特征在于，包括如下步骤：
21、步骤一，超纯水初洗，将无尘棉签放入已经清洗好的250mlpfa瓶，使用超纯水加满，然后倒掉，重复6～10次，洗去棉签表面的杂质；
22、步骤二，初始值检测，获得无尘棉签初始的金属元素成分；将装有无尘棉签的瓶子里加入硝酸，硝酸的质量百分比浓度为0.14％-3.0％，棉签头在下，棉签杆在上，硝酸刚好浸没过棉签头，计时5-10min，取部分浸泡液进行icp-ms分析；
23、步骤三，超声处理：
24、将无尘棉签放入已经清洗好的250mlpfa瓶，使用超纯水加满，然后倒掉，重复6～10次，洗去棉签表面的杂质；
25、将装有无尘棉签的瓶子加满水，超声清洗，超声清洗时间为1～4h，超声清洗功率为60％～100％的最大功率，超声清洗的最大功率为400w，超声清洗的水温为25℃～50℃；
26、步骤四，加热处理：
27、将无尘棉签放入已经清洗好的250mlpfa瓶，使用超纯水加满，然后倒掉，重复6～10次，洗去棉签表面的杂质；
28、将装有无尘棉签的瓶子加满水，放入无尘烘箱加热；
29、步骤五，检测获得无尘棉签清洗处理后的金属元素成分；
30、将装有无尘棉签的瓶子里加入硝酸，硝酸的质量百分比浓度为0.14％-3.0％，棉签头在下，棉签杆在上，硝酸刚好浸没过棉签头，计时5-10min，取部分浸泡液进行icp-ms分析；
31、步骤五检测的金属元素成分符合要求时，结束清洗；
32、步骤五检测的金属元素成分不符合要求时，重复步骤四与步骤五。
33、有益效果：
34、1)通过超纯水在加热和超声的作用下，能够快速清洁棉签的金属杂质。
35、2)清洗溶剂为超纯水，相对安全，且成本低。
36、3)清洗条件为超声，无尘烘箱加热，简单方便。
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1.一种半导体制造设备部件擦拭取样用的无尘棉签的清洁方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种半导体制造设备部件擦拭取样用的无尘棉签的清洁方法，其特征在于：步骤一中，将无尘棉签放入已经清洗好的250mlPFA瓶，使用超纯水加满，然后倒掉，重复6～10次，洗去棉签表面的杂质。
3.根据权利要求1所述的一种半导体制造设备部件擦拭取样用的无尘棉签的清洁方法，其特征在于：步骤二中，将装有无尘棉签的瓶子里加入硝酸，硝酸的质量百分比浓度为0.14％-3.0％，棉签头在下，棉签杆在上，硝酸刚好浸没过棉签头，计时5-10min，取部分浸泡液进行ICP-MS分析。
4.根据权利要求1所述的一种半导体制造设备部件擦拭取样用的无尘棉签的清洁方法，其特征在于：步骤三中的超纯水清洗的方法为将无尘棉签放入已经清洗好的250mlPFA瓶，使用超纯水加满，然后倒掉，重复6～10次，洗去棉签表面的杂质。
5.根据权利要求1所述的一种半导体制造设备部件擦拭取样用的无尘棉签的清洁方法，其特征在于：步骤三中，超声清洗时间为1～4h，超声清洗功率为60％
6.根据权利要求1所述的一种半导体制造设备部件擦拭取样用的无尘棉签的清洁方法，其特征在于：步骤四中的超纯水清洗的方法为将无尘棉签放入已经清洗好的250mlPFA瓶，使用超纯水加满，然后倒掉，重复6～10次，洗去棉签表面的杂质。
7.根据权利要求1所述的一种半导体制造设备部件擦拭取样用的无尘棉签的清洁方法，其特征在于：步骤四中，无尘烘箱加热温度为20℃～120℃，时间为1h～16h。
8.根据权利要求1所述的一种半导体制造设备部件擦拭取样用的无尘棉签的清洁方法，其特征在于：步骤五中，将装有无尘棉签的瓶子里加入硝酸，硝酸的质量百分比浓度为0.14％-3.0％，棉签头在下，棉签杆在上，硝酸刚好浸没过棉签头，计时5-10min，取部分浸泡液进行ICP-MS分析。
9.根据权利要求1所述的一种半导体制造设备部件擦拭取样用的无尘棉签的清洁方法，其特征在于：步骤五检测的金属元素成分符合要求时，结束清洗；
10.一种半导体制造设备部件擦拭取样用的无尘棉签的清洁方法，其特征在于，包括如下步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种半导体制造设备部件擦拭取样用的无尘棉签的清洁方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种半导体制造设备部件擦拭取样用的无尘棉签的清洁方法，其特征在于：步骤一中，将无尘棉签放入已经清洗好的250mlpfa瓶，使用超纯水加满，然后倒掉，重复6～10次，洗去棉签表面的杂质。
3.根据权利要求1所述的一种半导体制造设备部件擦拭取样用的无尘棉签的清洁方法，其特征在于：步骤二中，将装有无尘棉签的瓶子里加入硝酸，硝酸的质量百分比浓度为0.14％-3.0％，棉签头在下，棉签杆在上，硝酸刚好浸没过棉签头，计时5-10min，取部分浸泡液进行icp-ms分析。
4.根据权利要求1所述的一种半导体制造设备部件擦拭取样用的无尘棉签的清洁方法，其特征在于：步骤三中的超纯水清洗的方法为将无尘棉签放入已经清洗好的250mlpfa瓶，使用超纯水加满，然后倒掉，重复6～10次，洗去棉签表面的杂质。
5.根据权利要求1所述的一种半导体制造设备部件擦拭取样用的无尘棉签的清洁方法，其特征在于：步骤三中，超声清洗时间为1～4h，超声清洗功率为60％～100％的最大功率...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘洋，贺贤汉，管方方，张开新，幸仁华，
申请(专利权)人：上海富乐德智能科技发展有限公司，
类型：发明
国别省市：
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