System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种半导体用自动萃取装置及使用方法制造方法及图纸_技高网

一种半导体用自动萃取装置及使用方法制造方法及图纸

技术编号:40292794 阅读:13 留言:0更新日期:2024-02-07 20:42
本发明专利技术提供一种半导体用自动萃取装置及使用方法,包括以下步骤:步骤一,实验材料准备:将自动萃取装置置于至少100等级洁净室中,枪头架中装满移液器枪头,移液器枪头使用23%HNO<subgt;3</subgt;溶液浸泡至少2周后,超纯水清洗6次;试液及废液架中第一个位置放入废液瓶,第二个位置放入超纯水,其余位置放入0.1%‑5%HNO<subgt;3</subgt;溶液为萃取液;打开取瓶窗口,在试管架及旋转气缸9中放入干净聚四氟乙烯(PTFE)或聚乙烯(PE)或聚丙烯(PP)离心管用于回收萃取液;聚四氟乙烯(PTFE)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)离心管和全氟烷氧基树脂(PFA)空瓶用23%HN0<subgt;3</subgt;溶液浸泡至少2周后,用超纯水清洗6次,用高压气枪吹干并上机测试验证合格后作为超净容器备用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体材料微污染检测领域,具体涉及一种半导体用自动萃取装置及使用方法


技术介绍

1、随着半导体行业的快速发展,半导体材料生产工艺复杂,对其纯度和制造精度要求高,因此半导体材料的微污染控制是半导体行业中最受关注的问题之一。目前微污染检测前处理一般采用人工表面萃取,利用不同浓度酸溶液进行萃取,经过一定时间回收此溶液,通过电感耦合等离子体质谱(icp-ms)测定元素含量。人工表面萃取能满足半导体材料微污染检测前处理的基本需求,但有以下几个问题的存在,使其渐渐的不能适应快速发展的半导体行业。1、因人员操作能力差异,操作过程中易引入污染,导致结果不准确;2、大批量样品检测前处理需要耗费大量时间,增加人工成本;3、人工萃取无法同时完成萃取过程和计算萃取面积过程,萃取流程复杂。


技术实现思路

1、针对现有技术存在的问题,本专利技术提供一种半导体用自动萃取装置及使用方法,已解决上述至少一个技术问题。

2、本专利技术的技术方案是:一种半导体用自动萃取装置及使用方法,其特征在于,包括以下步骤:

3、步骤一,实验材料准备,将自动萃取装置置于至少100等级洁净室中,枪头架中装满移液器枪头,移液器枪头使用23%hno3溶液浸泡至少2周后,超纯水清洗6次;试液及废液架中放入废液瓶、超纯水和萃取液;打开取瓶窗口,在试管架及旋转气缸中放入干净聚四氟乙烯(ptfe)或聚乙烯(pe)或聚丙烯(pp)离心管用于回收萃取液;聚四氟乙烯(ptfe)、聚乙烯(pe)、聚丙烯(pp)离心管和全氟烷氧基树脂(pfa)空瓶用23%hno3溶液浸泡至少2周后,用超纯水清洗6次,用高压气枪吹干并上机测试验证合格后作为超净容器备用;

4、步骤二,放入物料,打开双开门观测口,将物料置于萃取台面上,物料中心位于红色激光十字光标位置;

5、步骤三,设置萃取流程参数,设备开机后人机界面显示用户登录,自动画面,手动画面,参数设定,报警画面,i/0监视,登录后进入自动画面,包括工作台面状态,运行周期,系统位置及状态,进入设置界面设置产品高度,在参数设定界面设置公共参数和机种参数;

6、步骤四,设置萃取面积采集软件参数,打开显示器中软件aoi,启动软件,选择物料模式,等待采集数据;

7、步骤五,运行程序,转换至自动模式下,在自动画面界面中点击系统启动,设备开始运行,开始萃取,获得物料萃取液;

8、步骤六,萃取面积计算,设备运行完成静置步骤后,拍摄及定位组件运行至物料萃取液上方,拍摄萃取照片并传送至显示器,采用软件aoi计算萃取面积;

9、步骤七,空白萃取液制备,按照上述步骤制备空白萃取液,其中步骤二萃取台面上放入干净的全氟烷氧基树脂(pfa)空瓶,其余步骤保持一致;

10、步骤八,采集数据,空白萃取液和物料萃取液采用电感耦合等离子体质谱(icp-ms)测定元素含量。

11、本专利技术提供的半导体材料自动萃取装置,通过酸溶液萃取半导体材料表面的元素含量。通过固定萃取流程,避免人工操作的不稳定性,实现萃取过程和萃取面积计算同时进行,提高萃取效率,可实现同类型材料连续萃取,减少人工成本。

12、进一步优选,所述自动萃取装置包括萃取运动控制组件、工作台面组件和处理腔组件,所述萃取运动控制组件包含萃取组件和拍摄及定位组件,还包含用于驱动萃取组件和拍摄及定位组件的三维运动机构,三维运动机构的运动端安装有萃取枪、相机和定位装置,萃取枪由驱动萃取枪移取液体速率的第一电机和控制萃取枪更换枪头的第二电机来驱动。

13、进一步优选,所述工作台面组件包括一萃取台面,所述萃取台面的上部安装有枪头架和试液及废液架、右部安装有试管架及旋转气缸。

14、进一步优选,所述处理腔组件的上部安装有空气过滤器,处理腔组件的侧壁上安装有双开门观测口和取瓶窗口,且处理腔组件的外壁安装人机界面和显示器,用于操作萃取流程。

15、进一步优选,所述工作台面组件位于所述处理腔组件的中间位置。

16、有益效果:

17、1、减少前处理操作污染:自动萃取操作简单,统一萃取步骤,减少引入al、fe、ca、k等元素;

18、2、减少人工成本:相同材质样品可连续萃取,减少人员操作时间;

19、3、提高萃取效率:自动萃取装置萃取过程中可计算萃取液体面积,萃取流程在15min内可完成。

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【技术保护点】

1.一种半导体用自动萃取装置及使用方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种半导体用自动萃取装置及使用方法,其特征在于:所述自动萃取装置包括萃取运动控制组件、工作台面组件和处理腔组件,所述萃取运动控制组件包含萃取组件和拍摄及定位组件,还包含用于驱动萃取组件和拍摄及定位组件的三维运动机构,三维运动机构的运动端安装有萃取枪、相机和定位装置,萃取枪由驱动萃取枪移取液体速率的第一电机和控制萃取枪更换枪头的第二电机来驱动。

3.根据权利要求2所述的一种半导体用自动萃取装置及使用方法,其特征在于:所述工作台面组件包括一萃取台面,所述萃取台面的上部安装有枪头架和试液及废液架、右部安装有试管架及旋转气缸。

4.根据权利要求2述的一种半导体用自动萃取装置及使用方法,其特征在于:所述处理腔组件的上部安装有空气过滤器,处理腔组件的侧壁上安装有双开门观测口和取瓶窗口,且处理腔组件的外壁安装人机界面和显示器,用于操作萃取流程。

5.根据权利要求2所述的一种半导体用自动萃取装置及使用方法,其特征在于:所述工作台面组件位于所述处理腔组件的中间位置。

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【技术特征摘要】

1.一种半导体用自动萃取装置及使用方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种半导体用自动萃取装置及使用方法,其特征在于:所述自动萃取装置包括萃取运动控制组件、工作台面组件和处理腔组件,所述萃取运动控制组件包含萃取组件和拍摄及定位组件,还包含用于驱动萃取组件和拍摄及定位组件的三维运动机构,三维运动机构的运动端安装有萃取枪、相机和定位装置,萃取枪由驱动萃取枪移取液体速率的第一电机和控制萃取枪更换枪头的第二电机来驱动。

3.根据权利要求2所述的一种半导体用自...

【专利技术属性】
技术研发人员:周斌贺贤汉刘斌刘淑晗岳小懂张正伟
申请(专利权)人:上海富乐德智能科技发展有限公司
类型:发明
国别省市:

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