【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及真空镀膜，尤其涉及一种可旋转双面靶材真空镀膜装置。
技术介绍
1、溅射真空镀膜装置是一种在真空环境中填充氩气后，对溅射阴极通电以使得氩气电离产生等离子体并轰击靶材，进而使得靶材原子从靶材表面逸出并被溅射到待镀膜的物体上，沉积形成镀膜的装置。在一个常规的镀膜流程中，靶材会被不断地消耗，因此每隔一段时间就要对靶材进行补充更换，现有的溅射真空镀膜装置往往只能安装一块靶材，在该靶材使用完成后就需要手动进行更换。同时，根据需要形成的镀膜的种类的不同，在溅射阴极的表面贴合安装的靶材的种类也不同，如果需要对同一物体进行不同种类的镀膜操作，就需要频繁更换靶材的种类。因此，现有的建设真空镀膜装置存在靶材消耗速度快，靶材种类单一，需要手动频繁更换靶材的问题，进而导致镀膜作业效率较低的问题。
技术实现思路
1、本专利技术实施例提供了一种可旋转双面靶材真空镀膜装置，旨在解决现有技术方法中溅射真空镀膜装置受限于靶材的数量和种类，需要频繁更换靶材，进而导致镀膜作业效率较低的问题。
2、本专利...
【技术保护点】
1.一种可旋转双面靶材真空镀膜装置，其特征在于，包括旋转筒、靶门框、旋转组件以及中频电源；所述旋转筒可旋转地连接至所述靶门框的内部；所述旋转组件连接至所述靶门框；所述旋转组件与所述旋转筒传动连接；所述旋转筒的顶端和底端均设置有溅射阴极组件；各所述溅射阴极组件上均贴合设置有靶材；所述中频电源设置于所述靶门框的外部；各所述溅射阴极组件分别与所述中频电源电连接；所述靶门框的底端开设有与所述旋转筒相正对的喷镀出口；所述旋转组件可带动所述旋转筒轴向旋转并使位于所述旋转筒顶端的靶材或位于所述旋转筒底端的靶材与所述喷镀出口相正对。
2.根据权利要求1所述的可旋转双面靶材...
【技术特征摘要】
1.一种可旋转双面靶材真空镀膜装置，其特征在于，包括旋转筒、靶门框、旋转组件以及中频电源；所述旋转筒可旋转地连接至所述靶门框的内部；所述旋转组件连接至所述靶门框；所述旋转组件与所述旋转筒传动连接；所述旋转筒的顶端和底端均设置有溅射阴极组件；各所述溅射阴极组件上均贴合设置有靶材；所述中频电源设置于所述靶门框的外部；各所述溅射阴极组件分别与所述中频电源电连接；所述靶门框的底端开设有与所述旋转筒相正对的喷镀出口；所述旋转组件可带动所述旋转筒轴向旋转并使位于所述旋转筒顶端的靶材或位于所述旋转筒底端的靶材与所述喷镀出口相正对。
2.根据权利要求1所述的可旋转双面靶材真空镀膜装置，其特征在于，位于所述旋转筒的顶端的溅射阴极组件包括并列设置的第一溅射阴极组件以及第二溅射阴极组件；位于所述旋转筒的底端的溅射阴极组件包括并列设置的第三溅射阴极组件以及第四溅射阴极组件；所述第一溅射阴极组件、所述第二溅射阴极组件、所述第三溅射阴极组件以及所述第四溅射阴极组件上贴合设置的所述靶材分别为第一靶材、第二靶材、第三靶材以及第四靶材；所述中频电源包括与所述第一溅射阴极组件以及所述第二溅射阴极组件均电连接的第一中频电源以及与所述第三溅射阴极组件以及所述第四溅射阴极组件均电连接的第二中频电源。
3.根据权利要求1或2所述的可旋转双面靶材真空镀膜装置，其特征在于，所述溅射阴极组件包括阴极座以及固定背板；所述旋转筒的顶端以及底端均凹陷开设有阴极槽；所述阴极座嵌设于所述阴极槽中；所述旋转筒的内部开设有与所述靶门框外部的大气连通的管道腔；所述管道腔设置于位于所述旋转筒顶端的所述阴极槽与位于所述旋转筒底端的所述阴极槽之间；所述阴极座中朝向所述管道腔的一端突出设置有电源接口；所述电源接口贯穿所述旋转筒并突出至所述管道腔内部；所述电源接口与所述中频电源电连接；所述固定背板连接至所述阴极座中远离所述管道腔中的一端，且所述靶材贴合连接至所述固定背板中远离所述阴极座的一端。
4.根据权利要求3所述的可旋转双面靶材真空镀膜装置，其特征在于，所述溅射阴极组件还包括绝缘板；所述绝缘板设置于所述阴极座与所述旋转筒之间；所述绝缘板的一端贴合连接至所述阴极座中朝向所述管道腔的一端，所述绝缘板的另一端贴合连...
【专利技术属性】
技术研发人员：邵海平，刘莉云，曹英朝，
申请(专利权)人：广东谛思纳为新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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