异形密封装置及真空腔体密封阀门制造方法及图纸

本技术公开了一种异形密封装置及真空腔体密封阀门，异形密封装置包括密封条以及密封沟槽；密封沟槽包括开设于顶端的顶端开口；密封条包括位于底端且内嵌于密封沟槽内的嵌套部，以及自密封沟槽的顶端开口突出的密封部；密封沟槽的内部底面的宽度大于密封沟槽的顶端开口的宽度；密封部与嵌套部的相接处的宽度与密封沟槽的顶端开口的宽度相等；密封部的顶端的宽度小于密封沟槽的顶端开口的宽度；嵌套部的底端的宽度大于密封沟槽的顶端开口的宽度；密封条可发生弹性形变。密封条受到压力后能够发生形变并增大与真空腔体法兰的接触面积，且受到侧向力作用时不容易发生侧弯等变形，保证了真空密闭腔体的可靠密封性，进而提升了镀膜质量。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及真空镀膜，尤其涉及一种异形密封装置及真空腔体密封阀门。

技术介绍

1、溅射真空镀膜装置是一种在真空环境中填充氩气后，对溅射阴极通电以使得氩气电离产生等离子体并轰击靶材，进而使得靶材原子从靶材表面逸出并被溅射到待镀膜的物体上，沉积形成镀膜的装置。为了实现氩气的充填，该真空环境需要在密闭腔体内部形成，该密闭腔体具备真空腔体密封阀门，使得该密闭腔体可以从真空腔体密封阀门处被开启或者关闭。因此，需要在该密闭腔体的真空腔体密封阀门处安装密封结构，以防止气体经由该真空腔体密封阀门进入或者涌出密闭腔体，影响内部的真空环境或者影响氩气的填充效果。现有的密封结构一般采用密封条的形式，但是现有的密封条容易从安装处发生脱落，或者在经受多次挤压后发生变形，进而降低对密闭腔体的密封效果，导致镀膜过程受到干扰，镀膜成品质量下降。

技术实现思路

1、本技术实施例提供了一种异形密封装置及真空腔体密封阀门，旨在解决现有技术方法中真空镀膜装置中的真空腔体密封阀门的密封条容易从安装处脱落，且容易在受挤压后变形，进而导致密封效果以及镀膜质本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种异形密封装置，应用于真空镀膜装置中的真空腔体密封阀门，其特征在于，包括密封条以及密封沟槽；所述密封沟槽开设于密封阀板上；所述密封沟槽包括开设于顶端的顶端开口；所述密封条包括位于底端且内嵌于所述密封沟槽内的嵌套部，以及位于顶端且自所述密封沟槽的顶端开口突出的密封部；所述嵌套部的底端抵接至所述密封沟槽的内部底面；所述密封沟槽的内部底面的宽度大于所述密封沟槽的顶端开口的宽度；所述密封部与所述嵌套部的相接处的宽度与所述密封沟槽的顶端开口的宽度相等；所述密封部的顶端的宽度小于所述密封沟槽的顶端开口的宽度；所述嵌套部的底端的宽度大于所述密封沟槽的顶端开口的宽度；所述密封条受到外力作用时发生弹...

【技术特征摘要】

1.一种异形密封装置，应用于真空镀膜装置中的真空腔体密封阀门，其特征在于，包括密封条以及密封沟槽；所述密封沟槽开设于密封阀板上；所述密封沟槽包括开设于顶端的顶端开口；所述密封条包括位于底端且内嵌于所述密封沟槽内的嵌套部，以及位于顶端且自所述密封沟槽的顶端开口突出的密封部；所述嵌套部的底端抵接至所述密封沟槽的内部底面；所述密封沟槽的内部底面的宽度大于所述密封沟槽的顶端开口的宽度；所述密封部与所述嵌套部的相接处的宽度与所述密封沟槽的顶端开口的宽度相等；所述密封部的顶端的宽度小于所述密封沟槽的顶端开口的宽度；所述嵌套部的底端的宽度大于所述密封沟槽的顶端开口的宽度；所述密封条受到外力作用时发生弹性形变。

2.根据权利要求1所述的异形密封装置，其特征在于，所述密封部的截面以及所述嵌套部的截面均设置为等腰梯形截面；所述密封部的截面设置为第一梯形截面，所述嵌套部的截面设置为第二梯形截面；所述第一梯形截面的下底与所述第二梯形截面的上底重合，且所述第一梯形截面的下底与所述第二梯形截面的上底长度相同；所述第一梯形截面的腰与所述第一梯形截面的下底的第一夹角小于所述第二梯形截面的腰与所述第二梯形截面的下底的第二夹角。

3.根据权利要求1所述的异形密封装置，其特征在于，所述密封部的顶端设置为缓冲部；所述缓冲部设置为圆弧状。

4.根据权利要求3所述的异形密封装置，其特征在于，所述缓冲部的圆弧半径为3-5毫米。

5.根据权利要求1所述的异形密封装置，其特征在于，所述密封部与所述嵌套部的相接处设置为固定部；所述固定部对称设置于所述密封条的两侧侧壁，且所述固定部抵接至所述密封沟槽的顶端开口的...

【专利技术属性】
技术研发人员：邵海平，刘莉云，曹英朝，
申请(专利权)人：广东谛思纳为新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：