用于产生经涂覆的主体的方法以及根据所述方法可获得的经涂覆的主体技术

本发明专利技术涉及一种用于产生经涂覆的主体(10)的方法，所述经涂覆的主体具有衬底(12)和布置在所述衬底(12)上的涂层(11)，所述涂层包括施加于所述衬底(12)的至少一个基础层(16)和布置在所述基础层(16)上方的至少一个含金属碳化物的层(14)，所述层通过磁控溅射施加。此外，本发明专利技术涉及根据所述方法产生的经涂覆的主体。

【技术实现步骤摘要】

技术介绍

技术实现思路

【技术保护点】

1.一种用于产生经涂覆的主体(10)的方法，其中所述主体包括衬底(12)和布置在所述衬底(12)上的涂层(11)，所述涂层包括施加于所述衬底(12)的至少一个基础层(16)和布置在所述基础层(16)上方的至少一个含金属碳化物的层(14)，

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述基础层(16)的所述施加期间，将所述衬底(12)保持在-50至-150V，优选地-90至-120V的范围内。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在施加所述基础层(16)时施加于所述衬底(12)的所述脉冲电压的频率在1至6kHz，优选地3至5kHz的范围内，并且脉冲长度在...

【技术特征摘要】

1.一种用于产生经涂覆的主体(10)的方法，其中所述主体包括衬底(12)和布置在所述衬底(12)上的涂层(11)，所述涂层包括施加于所述衬底(12)的至少一个基础层(16)和布置在所述基础层(16)上方的至少一个含金属碳化物的层(14)，

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述基础层(16)的所述施加期间，将所述衬底(12)保持在-50至-150v，优选地-90至-120v的范围内。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在施加所述基础层(16)时施加于所述衬底(12)的所述脉冲电压的频率在1至6khz，优选地3至5khz的范围内，并且脉冲长度在30至100微秒，优选地50至80的范围内。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，在所述含金属碳化物的层(14)的所述施加期间，将所述衬底(12)保持在-80至-200v，特别优选地-100至-150v的范围内的恒定电压下。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述金属靶是钛靶。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，含碳化钛的层(14)的施加以脉冲模式发生，其中所述模式分别用频率在0.1-5khz，优选地-0.5-2khz的范围内的电脉冲来致动所述石墨靶和所述钛靶。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述含碳化钛的层(14)的所述施加以脉冲模式发生，其中所述脉冲模式的脉冲的脉冲长度在20-200微秒，优选地40-100微秒的范围内。

8.根据权利要求5至7中任一项所述的方法，其特征在于，在所述含碳化钛的层(14)的所述施加期间，所述石墨靶和所述钛靶各自以在2至8kw，优选地4至6kw的范围内的阴极能量操作。

9.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，磁控溅射方法是高功率脉冲磁控溅射(hipims)方法。

10.一种经涂覆的主体(10)，其具有衬底(12)和布置在所述衬底(12)上的涂层(11)，所述涂层包括施加于所述衬底(12)的至少一个基础层(16)和布置在所述基础层(16)上方的至少一个含金属碳化物的层(14)，

11.根据权利要求10所述的经涂覆的主体(10)，其特征在于，在所述含金属碳化物的层(14)与所述基础层(16)之间提供中间层(18)，其中所述中间层(18)由铝和至少一种另外的金属的碳氮化物形成，其中所述另外的金属选自由以下组成的组：ti、cr、si、zr以及其组合。

12.根据权利要求11所述的经涂覆的主体(10)，其特征在于，所述中间层(18)由alticn形成。

13.根据权利要求11所述的经涂覆的主体(10)，其特征在于，所述中间层(18)包括碳氮化物层(22)和布置在所述碳氮化物层(22)上方的氮化物层(24)的至少一个交换层(20)，其中所述碳氮化物层(22)由铝和至少一种另外的金属的碳氮化物形成，所述至少一种另外的金属选自由以下组成的组：ti、cr、si、zr以及其组...

【专利技术属性】
技术研发人员：C·巴雷斯，C·热伊，H·杰格，J·科尔希恩，P·库勒曼，
申请(专利权)人：肯纳金属公司，
类型：发明
国别省市：