【技术实现步骤摘要】
本申请涉及激光对焦，特别是涉及一种目标位移量的确定方法、装置、激光检测设备、存储介质和计算机程序产品。
技术介绍
1、在半导体领域中，由于对样品的成像精度要求较高，通常会采用携带高倍率物镜的激光检测设备进行成像。然而，由于高倍率物镜的景深较小，当采用激光检测设备进行样品位移整体采集图像时，经常会出现部分区间图像虚焦的情况。因此，经常需要对激光检测设备进行对焦。
2、在传统的图像处理技术中，可以通过提取激光成像的样品图像中的梯度信息、频率信息或相位信息来计算对样品图像的清晰度评价参数，从而分析激光检测设备的聚焦情况，确定激光检测设备移动至聚焦位置所需的位移。
3、但是，由于样品图像中的信息量较大，当采用传统的图像处理技术时，会耗费大量的时间进行运算处理，从而导致处理效率较低。
技术实现思路
1、基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种高效率的目标位移量的确定方法、装置、激光检测设备、计算机可读存储介质和计算机程序产品。
2、第一方面，本申请提供了一种目标位...
【技术保护点】
1.一种目标位移量的确定方法，其特征在于，应用于激光检测设备，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述原始激光形态包括非线性形态；
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述预设阶次是从多个阶次中选择出的任意一个阶次；
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述原始激光形态包括线性形态；
5.根据权利要求4中所述的方法，其特征在于，所述根据预设的线宽差值与位移量之间的关系，确定与所述目标线宽差值对应的目标位移量，包括：
6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其特征在于，所述确...
【技术特征摘要】
1.一种目标位移量的确定方法，其特征在于，应用于激光检测设备，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述原始激光形态包括非线性形态；
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述预设阶次是从多个阶次中选择出的任意一个阶次；
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述原始激光形态包括线性形态；
5.根据权利要求4中所述的方法，其特征在于，所述根据预设的线宽差值与位移量之间的关系，确定与所述目标线宽差值对应的目标位移量，包括：
6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其特征在于，所述确定所述样品图像中的激...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱婧，王雯，熊星，
申请(专利权)人：苏州华兴源创科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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