【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体制造领域,具体涉及一种光学观察窗口结构。
技术介绍
1、在刻蚀机台中,一般都设置有光学观察窗口,用于供外接的光学分析设备采集刻蚀过程中,设备腔体内等离子体辉放电产生的oes光谱。
2、一方面,随着零件加工量的累积,位于光学观察窗口内的镜片的内表面容易堆积聚合物,另一方面,由于光学观察窗口的通道较长,日常的wac清洗(waferless autoclean,无晶圆自动清洗)时,堆积在镜片表面的聚合物难以得到去除,从而造成镜片的透光性变差,导致光学分析设备采集到的光强信号变差,光学分析设备的分析结果出错。
技术实现思路
1、为了解决相关技术中的问题,本申请提供了一种光学观察窗口结构。该技术方案如下:
2、本申请实施例提供了一种光学观察窗口结构,包括:
3、光学观察窗口,所述光学观察窗口形成在设备腔体的腔体侧墙上;
4、安装基台,所述安装基台连接于所述腔体侧墙的外侧壁,所述安装基台靠近所述腔体侧墙的一侧开设有连通于所述光学观察窗口的光通道,另一侧开设有连通于所述光通道的卡槽,所述卡槽内设置有透镜,远离腔体侧墙的安装基台的一侧连接有光缆支架,所述光缆支架遮挡所述卡槽,所述光缆支架上开设有连通于所述卡槽的通孔;所述光缆支架上连接有配套于外置的光学分析设备的光学接收件,所述光学接收件的接收面朝向所述光通道;
5、所述光学观察窗口内安装有延长件,所述延长件遮挡所述光学观察窗口靠近所述设备腔体的端面,所述设备腔体中的光线经
6、可选的,所述延长件的一端与所述腔体侧墙的内表面平齐。
7、可选的,所述延长件远离所述腔体侧壁的一端中空设置。
8、可选的,所述延长件可拆卸安装在所述光学观察窗口内。
9、可选的,所述延长件上套设有o型圈。
10、可选的,所述延长件的材质为石英或者蓝宝石。
11、可选的,所述延长件的材质为带孔陶瓷,所述延长件靠近设备腔体侧壁的一端开设有沿延长件轴向设置的透光孔。
12、本申请技术方案,至少包括如下优点:
13、1.通过在光学观察窗口内设置延长件,在光线能够正常被光学接收件接收到的同时,延长件还能减小聚合物进入光学观察窗口内的可能性,从而减小了光学观察窗口内以及透镜表面聚合物累积的可能性;
14、2.延长件的一端与腔体侧墙的内表面平齐,使得延长件能够在腔体的日常wac清洗过程中得到清洗;
15、3.由于延长件的一端采用了中空设计,减小了延长件所带来的光强衰减。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种光学观察窗口结构,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的结构,其特征在于,所述延长件(6)的一端与所述腔体侧墙(1)的内表面平齐。
3.根据权利要求2所述的结构,其特征在于,所述延长件(6)远离所述腔体侧壁的一端中空设置。
4.根据权利要求1所述的结构,其特征在于,所述延长件(6)可拆卸安装在所述光学观察窗口(11)内。
5.根据权利要求4所述的结构,其特征在于,所述延长件(6)上套设有O型圈(7)。
6.根据权利要求1所述的结构,其特征在于,所述延长件(6)的材质为石英或者蓝宝石。
7.根据权利要求1所述的结构,其特征在于,所述延长件(6)的材质为带孔陶瓷,所述延长件(6)靠近设备腔体侧壁的一端开设有沿延长件(6)轴向设置的透光孔(61)。
【技术特征摘要】
1.一种光学观察窗口结构,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的结构,其特征在于,所述延长件(6)的一端与所述腔体侧墙(1)的内表面平齐。
3.根据权利要求2所述的结构,其特征在于,所述延长件(6)远离所述腔体侧壁的一端中空设置。
4.根据权利要求1所述的结构,其特征在于,所述延长件(6)可拆卸安装在所述光学观察窗口(11)...
【专利技术属性】
技术研发人员:李世鹏,曹春生,栾剑峰,
申请(专利权)人:华虹半导体无锡有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。