一种CVD真空镀膜用气缸连接件制造技术

技术编号:40719722 阅读:23 留言:0更新日期:2024-03-22 12:57
本技术公开了一种CVD真空镀膜用气缸连接件,包括镀膜室,所述镀膜室上方内嵌有气缸,且气缸下端设有气压伸缩臂,所述气缸于两侧分别设有连接板,且两组连接板于外端分别螺旋有螺栓,所述镀膜室的上板于内壁对应设有螺旋槽固定块,且螺栓另一端螺旋于螺旋槽固定块内,所述螺栓的后方于连接板上固定设有卡合杆,且卡合杆下端穿插于镀膜室内。该CVD真空镀膜用气缸连接件的连接板下方固定设有隔热箱,从而对镀膜室内部高温进行隔绝,而隔热箱内的橡胶块在第一电动推杆的驱动下通过第一伸缩臂与通孔构成横向水平推动结构,避免隔热箱对气缸的工作造成阻碍。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及cvd真空镀膜,具体为一种cvd真空镀膜用气缸连接件。


技术介绍

1、cvd镀膜技术使一种高科技的表面处理技术,它基于化学气相沉积原理,通过在高温高压下使预先加热的材料表面与气体反应生成新的材料并沉积在表面,从而形成一层均匀、致密、硬度高、化学惰性好的薄膜。在cvd真空镀膜过程中需要将膜料放入真空的镀膜室内进行高温反应,于是使用气缸连接镀膜室,从而使镀膜室处于真空状态。

2、而气缸于安装过程中,通过连接件与镀膜室进行连接,而现有气缸连接件于使用过程中,无法对镀膜室内的气缸部件进行高温隔绝,从而导致气缸长时间处于高温内对其造成损伤,且气缸连接管处若出现漏气现象则会影响镀膜室形成真空环境的速率。为此,提出一种cvd真空镀膜用气缸连接件以解决上述问题。


技术实现思路

1、本技术的目的在于提供一种cvd真空镀膜用气缸连接件,以解决上述
技术介绍
中提出的现有的气缸连接件于使用过程中,无法对镀膜室内的气缸部件进行高温隔绝,从而导致气缸长时间处于高温内对其造成损伤,且气缸连接管处若出现漏气现象则会影响镀本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种CVD真空镀膜用气缸连接件,包括镀膜室(1),所述镀膜室(1)上方内嵌有气缸(2),且气缸(2)下端设有气压伸缩臂(3),其特征在于:所述气缸(2)于两侧分别设有连接板(5),且两组连接板(5)于外端分别螺旋有螺栓(6),所述镀膜室(1)的上板于内壁对应设有螺旋槽固定块,且螺栓(6)另一端螺旋于螺旋槽固定块内,所述螺栓(6)的后方于连接板(5)上固定设有卡合杆(7),且卡合杆(7)下端穿插于镀膜室(1)内;

2.根据权利要求1所述的一种CVD真空镀膜用气缸连接件,其特征在于:所述连接板(5)通过螺栓(6)于螺旋槽固定块内与镀膜室(1)构成螺旋锁紧结构,且连接板(5)通...

【技术特征摘要】

1.一种cvd真空镀膜用气缸连接件,包括镀膜室(1),所述镀膜室(1)上方内嵌有气缸(2),且气缸(2)下端设有气压伸缩臂(3),其特征在于:所述气缸(2)于两侧分别设有连接板(5),且两组连接板(5)于外端分别螺旋有螺栓(6),所述镀膜室(1)的上板于内壁对应设有螺旋槽固定块,且螺栓(6)另一端螺旋于螺旋槽固定块内,所述螺栓(6)的后方于连接板(5)上固定设有卡合杆(7),且卡合杆(7)下端穿插于镀膜室(1)内;

2.根据权利要求1所述的一种cvd真空镀膜用气缸连接件,其特征在于:所述连接板(5)通过螺栓(6)于螺旋槽固定块内与镀膜室(1)构成螺旋锁紧结构,且连接板(5)通过卡合杆(7)与镀膜室(1)构成卡合限位结构。

3.根据权利要求1所述的一种cvd真...

【专利技术属性】
技术研发人员:吴传江
申请(专利权)人:昆山佳旭诚精密机械有限公司
类型:新型
国别省市:

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