一种晶圆进给料输送系统技术方案

技术编号:40638107 阅读:22 留言:0更新日期:2024-03-13 21:21
本发明专利技术公开一种晶圆进给料输送系统,涉及常压化学沉积技术领域,包括设备本体,设备本体内设置有晶圆搭载平台、机器人、晶圆冷却旋转平台、晶圆提升系统、主支撑板、第一直线导轨、第一驱动电机、晶圆加热组件、晶圆加热组件支撑和真空发生系统。本发明专利技术中的系统,通过设置高纯石英、Si或SiC的非金属材料层,防止晶圆受到污染;晶圆通过晶圆提升系统和第一直线导轨移出后,在晶圆加热组件下单独进行沉积;每块晶圆的沉积面一次性完成薄膜沉积,摆脱气体扩散和传输的限制,沉积薄膜的厚度和质量均匀性表现更好。采用高纯石英、机器人等运输措施,处于封闭系统中,隔绝人员对晶圆的污染,提高晶圆镀膜效率和设备集成度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及常压化学沉积,特别是涉及一种晶圆进给料输送系统


技术介绍

1、常压化学气相沉积是指在压力接近大气压力的环境下,将气态反应源匀速喷射至加热的固体衬底表面,使反应源在衬底表面发生化学反应,反应产物在衬底表面沉积形成薄膜。

2、如图4所示,通常实现晶圆运输和沉积是通过将晶圆基板放置在柔性传送带05上持续移动实现的,并通过滚轮装载和卸载晶圆,传送带05上石墨基板06,工艺气体01从传送带05的上方通入,传送带05底部设置有皮带清洁器02并设置排气03排放工艺气体01;传送带05下方设置有加热器05。常规运输方式由于气体扩散和传输的限制,沉积薄膜的厚度和质量在衬底表面上容易出现一定的非均匀性,导致器件性能的变异性和不一致性。


技术实现思路

1、为解决以上技术问题,本专利技术提供一种晶圆进给料输送系统,采用高纯石英、机器人等运输措施,隔绝人员对晶圆的污染,提高晶圆镀膜效率。

2、为实现上述目的,本专利技术提供了如下方案:

3、本专利技术提供一种晶圆进给料输送系统,包括设本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种晶圆进给料输送系统,其特征在于,包括设备本体,所述设备本体内设置有晶圆搭载平台、机器人、晶圆冷却旋转平台、晶圆提升系统、主支撑板、第一直线导轨、第一驱动电机、晶圆加热组件、晶圆加热组件支撑和真空发生系统;所述机器人设置于所述晶圆搭载平台和所述主支撑板之间;所述晶圆搭载平台用于承载晶圆盒,所述晶圆盒用于放置晶圆;所述主支撑板靠近所述机器人的一端设置有晶圆冷却旋转平台;所述主支撑板上设置有第一直线导轨,所述晶圆加热组件支撑滑动的设置于所述第一直线导轨上,所述晶圆加热组件设置于所述晶圆加热组件支撑上;所述第一驱动电机用于驱动所述晶圆加热组件支撑在所述第一直线导轨上滑动;所述晶圆加热组件...

【技术特征摘要】

1.一种晶圆进给料输送系统,其特征在于,包括设备本体,所述设备本体内设置有晶圆搭载平台、机器人、晶圆冷却旋转平台、晶圆提升系统、主支撑板、第一直线导轨、第一驱动电机、晶圆加热组件、晶圆加热组件支撑和真空发生系统;所述机器人设置于所述晶圆搭载平台和所述主支撑板之间;所述晶圆搭载平台用于承载晶圆盒,所述晶圆盒用于放置晶圆;所述主支撑板靠近所述机器人的一端设置有晶圆冷却旋转平台;所述主支撑板上设置有第一直线导轨,所述晶圆加热组件支撑滑动的设置于所述第一直线导轨上,所述晶圆加热组件设置于所述晶圆加热组件支撑上;所述第一驱动电机用于驱动所述晶圆加热组件支撑在所述第一直线导轨上滑动;所述晶圆加热组件与所述真空发生系统相连通;所述晶圆提升系统设置于所述晶圆冷却旋转平台靠近所述晶圆加热组件支撑的一侧。

2.根据权利要求1所述的晶圆进给料输送系统,其特征在于,所述晶圆冷却旋转平台包括晶圆托台、晶圆支撑件、旋转平板、中间旋转轴、第三驱动电机和托板支撑件;所述中间旋转轴贯穿所述主支撑板;所述第三驱动电机与所述中间旋转轴传动连接,所述第三驱动电机用于驱动所述中间旋转轴旋转;所述中间旋转轴的顶部与所述旋转平板的中部相连接;所述旋转平板的两端分别设置有一所述晶圆托台,所述晶圆托台上设置有晶圆支撑件。

3.根据权利要求2所述的晶圆进给料输送系统,其特征在于,所述晶圆支撑件采用高纯非金属材料制作。

4.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘鹏徐文立潘建栋何程程
申请(专利权)人:宁波恒普技术股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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