System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind()
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及密封设备,特别地涉及一种疏水图案化胶带及其制作方法。
技术介绍
1、目前,胶带通常设置成平带结构,其作为密封件,能够用于密封待密封部件中的孔洞或缝隙。然而,当胶带密封存在高度差的两个待密封部件上表面之间的缝隙时,其密封效果较差。
2、以上也就是说,针对存在高度差的两个待密封部件之间的缝隙,相关技术中的胶带存在对其密封效果较差的问题。
技术实现思路
1、针对上述现有技术中的问题,本申请提出了一种疏水图案化胶带及其制作方法,解决了胶带存在的对存在高度差的两个待密封部件之间的缝隙密封效果较差的问题。
2、本专利技术的疏水图案化胶带,包括:图案化层,具有上表面和下表面,图案化层为阶梯结构;以及疏水膜层,设置在图案化层的上表面上;以及胶层,设置在图案化层的下表面上;以及离型膜层,设置在胶层上;以及疏水保护层,设置在疏水膜层上。
3、在一个实施方式中,图案化层包括图案化主体层。通过本实施方式,图案化主体层既能够使得设置在其下表面上的胶层粘接密封相邻的两个待密封部件上存在高度差的上端面之间的缝隙,又能够增强疏水图案化胶带的整体强度。从而确保疏水图案化胶带具有较好的适用性和较强的密封能力。
4、在一个实施方式中,图案化层包括平面主体层和设置在平面主体层上的图案化膜层。通过本实施方式,平面主体层和图案化膜层既能够使得设置在其下表面上的胶层粘接密封相邻的两个待密封部件上存在高度差的上端面之间的缝隙,又能够增强疏水图案化胶带的整体强度。从而确
5、在一个实施方式中,疏水图案化胶带上设置有第一定位孔,第一定位孔贯穿疏水保护层,第一定位孔用于疏水图案化胶带与待密封部件的粘接定位。通过本实施方式,疏水膜层上设置的第一定位孔能够与待密封部件上的定位结构对准,从而确保设置在图案化层上的胶层能够覆盖待密封部件上形成的阶梯面,从而确保疏水图案化胶带能够密封粘接密封相邻的两个待密封部件上存在高度差的上端面之间的缝隙。
6、在一个实施方式中,胶层为阶梯板结构,阶梯板结构包括:第一板体;以及第二板体,一端与第一板体弯折连接;以及第三板体,与第二板体的另一端弯折连;其中,第一板体与第三板体平行设置,且分别位于第二板体的相对设置的两侧。
7、在一个实施方式中,胶层为阶梯板结构,阶梯板结构包括:第一板体;以及第二板体,与第一板体平行设置,第二板体与第一板体在第一方向上错开设置。
8、本专利技术还提供了一种胶带制作方法,胶带制作方法用于制作上述的疏水图案化胶带,胶带制作方法包括:制作图案化层;
9、图案化层的双面粗糙化;
10、图案化层的上表面疏水化处理,以形成疏水膜层;
11、疏水膜层的疏水表面附上一层疏水保护层;
12、图案化层的下表面附胶,以形成胶层;
13、胶层的胶面上附离型膜,以形成离型膜层。
14、在一个实施方式中,制作图案化层包括以下步骤:
15、在主体层表面涂覆光刻胶层;
16、将制备好的掩膜板,放在遮挡区进行第一次紫外曝光;
17、第一次显影后留下图形化的光刻胶层;
18、对图形化的光刻胶层实施第二次紫外曝光;
19、在经过第二次紫外曝光后的图形化的光刻胶层和主体层表面上沉积一层膜层;
20、第二次显影后留下主体层和图案化膜层。
21、在一个实施方式中,在经过第二次紫外曝光后的图形化的光刻胶层和主体层表面上沉积一层膜层的步骤中,采用真空镀膜的方法沉积一层膜层。
22、在一个实施方式中,制作图案化层包括以下步骤:
23、在硅片上涂覆一层光刻胶层;
24、将制备好的掩膜板放在遮挡区进行紫外曝光;
25、显影后硅片上留下图案化的光刻胶层;
26、将模板溶液倒置在图案化的光刻胶层上,并进行紫外曝光;
27、模板溶液交联固化形成模板;
28、撕下模板,将图案化主体层的溶液涂敷在模板上;
29、图案化主体层的溶液固化后再去除模板,得到图案化主体层。
30、上述技术特征可以各种适合的方式组合或由等效的技术特征来替代,只要能够达到本专利技术的目的。
31、本专利技术提供的一种疏水图案化胶带及其胶带制作方法,与现有技术相比,至少具备有以下有益效果:
32、由于图案化层为阶梯结构,这样设置在其下表面上的胶层能够粘接覆盖待密封部件上存在高度差的粘接表面,从而密封相邻的两个待密封部件上存在高度差的上端面之间的缝隙。进而扩大了疏水图案化胶带的适用范围。同时解决了相关技术中平带结构的胶带对存在高度差的两个待密封部件之间的缝隙密封效果较差的问题。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种疏水图案化胶带,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的疏水图案化胶带,其特征在于,所述图案化层包括图案化主体层。
3.根据权利要求1所述的疏水图案化胶带,其特征在于,所述图案化层包括平面主体层和设置在所述平面主体层上的图案化膜层。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的疏水图案化胶带,其特征在于,所述疏水图案化胶带上设置有第一定位孔,所述第一定位孔贯穿所述疏水保护层,所述第一定位孔用于所述疏水图案化胶带与待密封部件的粘接定位。
5.根据权利要求2所述的疏水图案化胶带,其特征在于,所述胶层为阶梯板结构,所述阶梯板结构包括:
6.根据权利要求2所述的疏水图案化胶带,其特征在于,所述胶层为阶梯板结构,所述阶梯板结构包括:
7.一种胶带制作方法,其特征在于,所述胶带制作方法用于制作疏水图案化胶带,所述胶带制作方法包括:
8.根据权利要求7所述的胶带制作方法,其特征在于,制作图案化层包括以下步骤:
9.根据权利要求8所述的胶带制作方法,其特征在于,在经过第二次紫外曝光后的所述图形化的
10.根据权利要求7所述的胶带制作方法,其特征在于,制作图案化层包括以下步骤:
...【技术特征摘要】
1.一种疏水图案化胶带,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的疏水图案化胶带,其特征在于,所述图案化层包括图案化主体层。
3.根据权利要求1所述的疏水图案化胶带,其特征在于,所述图案化层包括平面主体层和设置在所述平面主体层上的图案化膜层。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的疏水图案化胶带,其特征在于,所述疏水图案化胶带上设置有第一定位孔,所述第一定位孔贯穿所述疏水保护层,所述第一定位孔用于所述疏水图案化胶带与待密封部件的粘接定位。
5.根据权利要求2所述的疏水图案化胶带,其特征在于,所述胶层为阶梯板结构,所述阶梯板结构包...
【专利技术属性】
技术研发人员:高晓宇,李硕,
申请(专利权)人:北京华卓精科科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。