【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体制造，具体而言，涉及一种多自由度反射镜调整装置。
技术介绍
1、随着调焦调平传感器广泛应用在半导体加工工艺中，例如在超大集成电路制造的投影光刻技术中，通常使用调焦调平传感器减少硅片表面形貌对投影物镜焦平面的影响，以保证光刻效果。
2、现有技术中，调焦调平传感器通常安装在主基板下方，可以通过螺纹匹配锁紧螺母的方式垂向调节锁紧，来调节调焦调平传感器的反射镜的垂向位置，以保证反射镜和焦平面的重合度，然而随着半导体加工和投影光刻技术的发展，对于反射镜的调节需求也并不仅限于垂向调节，而需要对其多自由度可调，以满足对于调焦调平传感器中反射镜的位置精确的定位，然而现有技术中没有一种机构可以对调焦调平传感器中反射镜多自由度可调的设计，不能满足光刻技术中调焦调平传感器对反射镜多自由度调节需求。因此，亟需一种多自由度反射镜调整装置，以解决上述问题。
技术实现思路
1、本技术提供一种多自由度反射镜调整装置，用以解决现有技术中，反射镜的调节仅限于垂向调节，不能满足光刻技术中调焦调平传感...
【技术保护点】
1.一种多自由度反射镜调整装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的多自由度反射镜调整装置，其特征在于，3个所述第二调节组件呈直角三角形布置，且直角三角形的直角边分别沿所述第一方向和所述第二方向，所述第二调节组件能够驱动所述基座绕所述第一方向的转动以及绕所述第二方向的转动。
3.根据权利要求1或2所述的多自由度反射镜调整装置，其特征在于，所述第一调节组件包括第一调整螺钉(201)和第一弹性件(202)，分别设于所述反射镜座(20)沿第一方向的两端，所述第一调整螺钉(201)连接于所述基座(10)且抵接于所述反射镜座(20)的侧面，用于驱...
【技术特征摘要】
1.一种多自由度反射镜调整装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的多自由度反射镜调整装置，其特征在于，3个所述第二调节组件呈直角三角形布置，且直角三角形的直角边分别沿所述第一方向和所述第二方向，所述第二调节组件能够驱动所述基座绕所述第一方向的转动以及绕所述第二方向的转动。
3.根据权利要求1或2所述的多自由度反射镜调整装置，其特征在于，所述第一调节组件包括第一调整螺钉(201)和第一弹性件(202)，分别设于所述反射镜座(20)沿第一方向的两端，所述第一调整螺钉(201)连接于所述基座(10)且抵接于所述反射镜座(20)的侧面，用于驱动所述反射镜座(20)沿所述第一方向的移动；所述第一弹性件(202)连接于所述基座(10)且抵接于所述反射镜座(20)的侧面，始终具有驱动所述反射镜座(20)沿所述第一方向的反方向移动的趋势；
4.根据权利要求3所述的多自由度反射镜调整装置，其特征在于，所述第一调整螺钉(201)的数量为1个，所述第二调整螺钉(203)的数量为2个，且2个所述第二调整螺钉(203)间隔设置，所述第二弹性件(204)位于所述第二调整螺钉(203)之间；2个所述第二调整螺钉(203)用于驱动所述反射镜座(20)沿所述第二方向的移动或绕所述第三方向的转动。
5.根据权利要求4所述的多自由度反射镜调整装置，其特征在于，所述第一调整螺钉(201)和所述第一弹性件(202)相对设置，且所述第一调整螺钉(201)和所述第一弹性件(202)的中心连线穿过所述反射镜座(20)的中心；所述第二弹性件(204)的数量为1个，所述第二弹性件(204)的中心线穿过所述反射镜座(20)的中心，2个所述第二调整螺钉(203)对称设置于所述第二弹性件(204)的中心线的两侧。
6.根据权利要求1所述的多自由度反射镜调整装置，其特征在于，所述基座(10)设有第一孔(101)，所述反射镜座(20)容纳于所述第一孔(101)，所述反射镜座(20)通过第一锁紧螺钉(206)连接于所述基座(10)。
7.根据权利要求6所述的多自由度反射镜调整装置，其特征在于，所述基座(10)还设有连通于所述第一孔(101)的第二孔(102)，所述第二孔(102)用于容纳所述反射镜(30)，所述第二孔(102)的开口尺寸小于所述第一孔(101)的开口尺寸。
8.根据权利要求6所述的多自由度反射镜调...
【专利技术属性】
技术研发人员：张玉松，牛桂宇，
申请(专利权)人：北京华卓精科科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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