一种抛光方法可调式高效抛光装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种抛光方法可调式高效抛光装置，力加载装置模块设置在整个装置最上方，椭圆超声振动模块设置在力加载装置模块下方，其超声波换能器连接外界超声波发生器，通过两个超声波变幅杆上下移动，合成为一个二维椭圆运动轨迹，进而使铜制连接片获得椭圆超声波轨迹，从而适应不同工件的不同平面位置抛光；外接电场模块设置在椭圆超声振动模块下方；抛光装置模块置于整个装置最下方，为整个装置提供抛光时所需要的动力。该装置由于具有阵列式可摆动抛光头，所以可进行批量加工，且可以根据工件所需的加工条件，更换研抛盘上所需的抛光垫，从而实现包含固结磨料抛光、化学机械抛光、电化学抛光以及磁性复合流体抛光在内的多种形式的抛光。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种抛光装置，尤其涉及一种抛光方法可调式高效抛光装置。

技术介绍

1、随着现代航天航空业和光学的发展，对各种元器件的形状、材料以及处理方式越来越复杂，对加工精度、加工效率和加工缺陷控制的要求越来越高。而抛光可以有效改善产品的光洁度、表面质量，在光学系统、半导体、导航、航空航天、能源、医疗设备等众多领域发挥着重要作用。其中比较常见的抛光方式有固结磨粒抛光、化学机械抛光、电化学抛光、磁性复合流体抛光等。固结抛光耐用性好，抛光时间短、效率高。(详见林魁.固结磨料研磨抛光垫的性能评价及自修整机理的研究[d].南京航空航天大学,2010.)，但是可能会造成表面损伤和热损伤。化学机械抛光精度高，应用范围广，但是会造成亚表面损伤，抛光后表面会有化学物质残留难以清除，而且抛光液易对环境产生污染。电化学抛光平整度高可控性好，但是前处理时间长。磁性复合流体加工几乎不造成亚表面损伤，抛光效果优良。(详见高继博.磁性复合流体抛光机理及其使用寿命研究[d].兰州理工大学，2022.doi:10.27206/d.cnki.ggsgu.2022.000849.)，但是抛光本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种抛光方法可调式高效抛光装置，其特征在于：包括力加载装置模块、椭圆超声振动模块、外接电场模块以及抛光装置模块，力加载装置模块设置在整个装置最上方，用于实现调节抛光间隙和在化学机械抛光中的加载；椭圆超声振动模块设置在力加载装置模块下方，其超声波换能器连接外界超声波发生器，通过其上的两个超声波变幅杆上下移动，一个方向上存在两个相互平行且频率相同但具有一定相位差的简谐运动，合成为一个二维椭圆运动轨迹，从而实现铜制连接片获得椭圆超声波轨迹，从而适应不同工件的不同平面位置抛光；外接电场模块设置在椭圆超声振动模块下方，用于电化学抛光时连接所需要的外接直流电场，构成闭合回路；抛光装置模块置于整个...

【技术特征摘要】

1.一种抛光方法可调式高效抛光装置，其特征在于：包括力加载装置模块、椭圆超声振动模块、外接电场模块以及抛光装置模块，力加载装置模块设置在整个装置最上方，用于实现调节抛光间隙和在化学机械抛光中的加载；椭圆超声振动模块设置在力加载装置模块下方，其超声波换能器连接外界超声波发生器，通过其上的两个超声波变幅杆上下移动，一个方向上存在两个相互平行且频率相同但具有一定相位差的简谐运动，合成为一个二维椭圆运动轨迹，从而实现铜制连接片获得椭圆超声波轨迹，从而适应不同工件的不同平面位置抛光；外接电场模块设置在椭圆超声振动模块下方，用于电化学抛光时连接所需要的外接直流电场，构成闭合回路；抛光装置模块置于整个装置最下方，为整个装置提供抛光时所需要的动力，其研抛盘上方粘结各种抛光方式所对应的抛光垫，抛光垫上置有抛光液；通过更换塑料承接盘上研抛盘上抛光垫、抛光液以及抛光材料，从而适应不同条件下的不同方式抛光。

2.根据权利要求1所述的抛光方法可调式高效抛光装置，其特征在于：所述力加载装置模块包括手柄、丝杠、丝杠螺母，丝杠通过丝杠螺母连接，丝杠螺母固定于下方顶板上，丝杠穿过丝杠螺母和顶板，利用螺纹连接下方双向推力球轴承支撑座，双向推力球轴承支撑座固定于导轨板，支撑立柱用螺栓固定于导轨板正下方，支撑立柱通过螺栓与下方支撑板相连。

3.根据权利要求1所述的抛光方法可调式高效抛光装置，其特征在于：所述椭圆超声振动模块包括超声波换能器、固定板、支撑立柱、支撑板、膜片平台以及超声波变幅杆，支撑立柱通过螺纹固定于导轨板上，并通过螺栓与下方支撑板相连，超声波换能器安装在超声波变幅杆上，超声波变幅杆穿过固定板和支撑板后,与膜片平台连接固定。

4.根据权利要求1所述的抛光方法可调式高效抛光装置，其特征在于：所述外接电场模块包括高导电铜制螺栓、支撑架、抛光头移动导轨以及阵列式可摆动抛光头，所述每个阵列式可摆动抛光头包括力传感器、塑料法兰、导...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶卉，王健，孙来喜，李壮，邹蕊矫，姜晨，
申请(专利权)人：上海理工大学，
类型：发明
国别省市：