晶圆修边处理设备及晶圆修边处理方法技术

技术编号:40577491 阅读:47 留言:0更新日期:2024-03-06 17:19
本发明专利技术属于半导体加工技术领域,公开了一种晶圆修边处理设备及晶圆修边处理方法。该晶圆修边处理设备包括圆心校准单元、刀轮检测单元、晶圆厚度检测单元、清洗单元以及直线运动单元;圆心校准单元用于检测晶圆与晶圆载台的同心度;刀轮检测单元用于检测刀轮的磨损量;晶圆厚度检测单元设置在龙门架上,晶圆厚度检测单元用于检测晶圆的边缘弧段的厚度;清洗单元用于对切削后的晶圆进行清洗;晶圆载台设置在Y轴运动模组上,Y轴运动模组能够带动晶圆载台沿Y轴移动,以调节晶圆相对于龙门架的位置;Z轴运动模组能够带动刀轮沿Z轴移动,以调节刀轮相对于晶圆的位置。该晶圆修边处理设备工艺集成度高,极大提高了处理效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体加工,尤其涉及一种晶圆修边处理设备及晶圆修边处理方法


技术介绍

1、随着3d ic(3d堆叠芯片)技术的不断发展,需要堆叠的晶圆数量越来越多。相邻两片晶圆进行堆叠时,如果边缘不平整易导致晶圆合并不够紧密,后续晶圆研磨减薄(grinding)工序中容易产生裂纹或碎片,严重影响品质及良率。为避免上述情况的发生,在两片晶圆进行合并之前先对其中一片晶圆进行修边(trim)处理,即用特殊的研磨刀轮将晶圆的边缘磨削凹陷处理,形成台阶槽。

2、晶圆在修边处理时,需要使用刀轮对晶圆的外缘进行切削,现有的晶圆修边设备的刀轮在切削晶圆的过程中会被不断磨损,导致刀轮的外径逐渐减小,同时在切削开始之前,现有的晶圆修边设备需要对晶圆进行多次试切削并检测切削深度,以保证晶圆与旋转平台是否同心;此外,由于受晶圆制造工艺水平的限制,晶圆也存在各处厚度不均的情况,现有的晶圆修边设备无法精准调,容易造成台阶槽厚度不一致的情况,严重影响了晶圆的修边质量和加工良率。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种晶本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.晶圆修边处理设备,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的晶圆修边处理设备,其特征在于,所述晶圆载台(2)上开设有吸附孔,所述吸附孔内能够形成负压,以使所述晶圆(100)贴紧在所述晶圆载台(2)上。

3.根据权利要求1所述的晶圆修边处理设备,其特征在于,所述刀轮检测单元(5)包括对射传感器(51),所述对射传感器(51)用于检测所述刀轮(3)的遮光率。

4.根据权利要求3所述的晶圆修边处理设备,其特征在于,所述刀轮检测单元(5)还包括冲洗组件(52),所述冲洗组件(52)用于向所述对射传感器(51)喷洒冲洗水流。

>5.根据权利要求1...

【技术特征摘要】

1.晶圆修边处理设备,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的晶圆修边处理设备,其特征在于,所述晶圆载台(2)上开设有吸附孔,所述吸附孔内能够形成负压,以使所述晶圆(100)贴紧在所述晶圆载台(2)上。

3.根据权利要求1所述的晶圆修边处理设备,其特征在于,所述刀轮检测单元(5)包括对射传感器(51),所述对射传感器(51)用于检测所述刀轮(3)的遮光率。

4.根据权利要求3所述的晶圆修边处理设备,其特征在于,所述刀轮检测单元(5)还包括冲洗组件(52),所述冲洗组件(52)用于向所述对射传感器(51)喷洒冲洗水流。

5.根据权利要求1所述的晶圆修边处理设备,其特征在于,所述直线运动单元还包括x轴运动模组(10),所述x轴运动模组(10)设置在所述龙门架(1)上,所述z轴运动模组(9)设置在所述x轴运动模组(10)上,所述x轴运动模组(10)能够带动所述z轴运动模组(9)沿x轴移动。

6.根据权利要求5所述的晶圆修边处理设备,其特征在于,所述晶圆厚度检测单元(6)包括测距传感器(61),所述测距传感器(61)设置在所述x轴运动模组(10)...

【专利技术属性】
技术研发人员:朱松万先进田鑫谢亚楠钱宇强梁志远张怀东杨磊边逸军
申请(专利权)人:宁波芯丰精密科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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