三波长干涉测量装置和方法制造方法及图纸

本公开内容涉及一种用于测量物体(1)的表面(2，4)或轮廓的干涉测量装置(10)，测量装置(10)包括：‑光束生成单元(20)，能操作为生成具有波长小于550nm的频谱分量的测量光束(BM)，‑分束器(55)，用于从测量光束(BM)分出物体光束(BO)与参考光束(BR)，‑测量探针(50)，连接至光束生成单元(20)且被配置为将物体光束(BO)引导到表面(2，4)上以及捕获从表面(2，4)所反射的物体光束的一部分作为信号光束(BS)，‑信号分析器(80)，连接至检测器单元(70)且能操作为基于从第一检测器和第二检测器(71，72)所获得的信号来导出测量探针(50)与表面(2，4)之间的距离(D)，所述第一检测器和第二检测器(71，72)能操作为检测来自分析光束(BA)的第一部分光束和第二部分光束(BP1，BP2)，所述分析光束(BA)是对信号光束(BS)与参考光束(BR)的重组。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本公开内容涉及一种用于测量物体(例如，光学元件)的表面或轮廓的干涉测量装置。在另一方面，本公开内容涉及一种测量物体的表面或轮廓的方法。在又一方面，本公开内容涉及用于测量物体的表面或轮廓的干涉测量装置及对应的方法，其中对应的表面设置有涂层或被涂层覆盖。

技术介绍

1、对物体(例如光学元件，诸如透镜)的表面或轮廓进行非接触式测量在现有技术中是众所周知且已确立的。对于干涉测量设置，测量光束被划分成参考光束以及物体光束，其中物体光束被引导到物体的表面上且作为信号光束从物体的表面被反射。在重组信号光束和参考光束时，能够观察到光学干涉，所述光学干涉指示参考光束与信号之间的运行时间差，从而指示参考光束与信号之间的路径差。

2、信号光束与参考光束之间的可测量的相移仅在限定的半波长范围内明确。当信号光束与参考光束之间的路径差大于测量光束的半波长时，信号光束与参考光束重组所生成的对应干涉图案重复。因此，这种干涉设置的绝对距离范围通常相当有限。为了增加空间测量范围，可以使用更长的波长，例如使用红外光谱范围内的波长。

3、此外，当物体(例如，光学元件)在待本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于测量物体(1)的表面(2,4)或轮廓的干涉测量装置(10)，所述测量装置(10)包括：

2.根据权利要求1所述的测量装置(10)，其中所述光束生成单元(20)包括第二光源(22)，所述第二光源(22)能操作为发射包括第二中心波长λ2的频谱分量的电磁辐射。

3.根据权利要求1或2所述的测量装置(10)，其中所述光束分配器单元(60)能操作为从所述分析光束(BA)提取第三中心波长λ3的第三部分光束(BP3)，其中所述第三中心波长λ3不同于所述第一中心波长λ1且不同于所述第二中心波长λ2，且其中所述检测器单元(70)包括用于检测所述第三部分光束(BP3)的第...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于测量物体(1)的表面(2,4)或轮廓的干涉测量装置(10)，所述测量装置(10)包括：

2.根据权利要求1所述的测量装置(10)，其中所述光束生成单元(20)包括第二光源(22)，所述第二光源(22)能操作为发射包括第二中心波长λ2的频谱分量的电磁辐射。

3.根据权利要求1或2所述的测量装置(10)，其中所述光束分配器单元(60)能操作为从所述分析光束(ba)提取第三中心波长λ3的第三部分光束(bp3)，其中所述第三中心波长λ3不同于所述第一中心波长λ1且不同于所述第二中心波长λ2，且其中所述检测器单元(70)包括用于检测所述第三部分光束(bp3)的第三检测器(73)。

4.根据权利要求3所述的测量装置(10)，其中所述光束生成单元(20)包括第三光源(23)，所述第三光源(23)能操作为发射包括第三中心波长λ3的频谱分量的电磁辐射。

5.根据前述权利要求中的任一项所述的测量装置(10)，其中所述第一光源(21)包括激光器(27)和超发光二极管sld(26)中的一个。

6.根据前述权利要求中的任一项所述的测量装置(10)，其中至少一个光源(21,22,23)包括超发光二极管(27)，且其中所述测量装置(10)还包括光学延迟单元(30)，所述光学延迟单元(30)被耦合至所述至少一个光源(21,22,23)，所述光学延迟单元(30)能操作为将可变且可调节大小的相移施加到所述测量光束(bm)、所述信号光束(bs)、所述物体光束(bo)和所述参考光束(br)中的至少一个上。

7.根据前述权利要求中的任一项所述的测量装置(10)，其中所述第一中心波长λ1和所述第二中心波长λ...

【专利技术属性】
技术研发人员：P·德拉百克，C·艾姆韦格，P·伊思沃特，T·梅，
申请(专利权)人：泰勒·霍布森有限公司，
类型：发明
国别省市：