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一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺制造技术

技术编号:40528291 阅读:8 留言:0更新日期:2024-03-01 13:48
本发明专利技术公开了一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺,涉及覆晶薄膜制备技术领域,包括S1、基板固定;S2、排列线路;S3、线路合并增宽;S4、基板翻转;S5、涂层增厚。该提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺,通过排线组件对线路端部进行夹持固定,将每三个线路构成一组并整齐排列基板顶部后进行封装,相较于传统的单一线路封装,成组封装线路使得线路得以增宽,从而提升了覆晶薄膜成品的提高抗挠折性,喷涂组件在未安装线路的一面形成均匀的保护膜,不仅起到了抗磨、保护基板的作用,更增加了基板整体厚度,进一步提升了覆晶薄膜成品的提高抗挠折性,另外,喷涂产生的废料可沿漏斗落入集料屉内,通过对废漆进行收集,以便其处理和回收。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及覆晶薄膜制备,具体为一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺


技术介绍

1、随着柔性oled在手机市场中应用越来越广泛,它的制备技术也越来越趋于稳定。柔性oled屏幕封装工艺可以选择cof、cop等方式进行芯片封装。cof,即覆晶薄膜,英文全称为:chip on film,这种屏幕封装工艺是将屏幕的ic芯片集成在柔性材质的pcb电路板上,然后弯折至屏幕下方,可以进一步缩小边框,提升屏占比。相较于其他封装方式,cof封装更具经济效益,此特点使得cof将逐渐成为手机显示屏驱动芯片的主流封装方式,如今绝大多数中高端全面屏和刘海屏手机都采用了cof封装的屏幕。

2、在实际工业化生产中,随着覆晶薄膜需求的日益增加,其制备工艺逐渐受到重视,但目前的制备工艺依然存在以下不足:

3、目前,制备工艺制备出的覆晶薄膜抗挠折性较差,容易因弯折、屈挠等外力原因导致破裂损坏,且一旦损坏难以修复,严重影响了覆晶薄膜成品的使用寿命,该局限性也使得覆晶薄膜的使用场景受到了较大限制,不利于覆晶薄膜的推广使用。

4、因此,急需对此缺点进行改进,本专利技术则是针对现有的结构及不足予以研究改良,提供有一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。

2、为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺,包括以下步骤:

3、s1、基板固定:将基板置于吸盘的顶部,并通过固定组件将基板吸附固定,然后启动电控滑块沿吊顶轨道滑动,带动伸缩吊杆和排线组件移动至适宜位置;

4、s2、排列线路:将需要封装的线路端部依次放置进下限位座内,通过排线组件对线路端部进行固定,使得线路整齐排列基板顶部;

5、s3、线路合并增宽:通过控制设备控制封装机头对基板顶部的线路进行封装,将每三个线路合并构成一组,实现线路增宽;

6、s4、基板翻转:解除排线组件对线路端部的固定效果,然后排线组件回到初始位置,再通过控制电机带动固定组件翻转,将基板翻转进箱壳内;

7、s5、涂层增厚:通过喷涂组件将储料桶内的sr防焊油墨均匀喷涂到基板未安装线路的一面,形成均匀的保护膜,并增加基板整体厚度。

8、进一步的,所述箱壳的底部固定连接有废料腔,且废料腔的内侧活动连接有集料屉,并且箱壳的内部固定安装有漏斗,而且漏斗的底部与箱壳的底部贯通相连。

9、进一步的,所述箱壳的内部固定有分隔板,且箱壳的内部设置有储料桶,并且储料桶限制在箱壳和分隔板之间,所述储料桶的顶部固定连接有加料斗,且储料桶的外壁与喷涂组件固定连接。

10、进一步的,所述喷涂组件包括有导向滑槽和电控滑架,且导向滑槽开设在箱壳的内壁,并且电控滑架通过导向滑槽活动安装在箱壳的内部。

11、进一步的,所述喷涂组件还包括有喷嘴、泵体和伸缩管,且喷嘴固定在电控滑架的顶部,并且电控滑架的底部固定连接有泵体,所述喷嘴的底部贯穿电控滑架的顶部并延伸至电控滑架的底部,且喷嘴的底部与泵体的出口侧相连,并且泵体的进口侧固定连接有伸缩管,而且伸缩管与储料桶的外壁固定连接。

12、进一步的,所述控制电机的输出轴通过联轴器固定连接有中心旋柱,且中心旋柱通过轴承与箱壳的内壁活动连接,并且中心旋柱的一端与固定组件的外壁固定连接。

13、进一步的,所述固定组件包括有气室、真空泵、金属管和吸盘,且气室的外侧固定安装有真空泵,并且气室的外壁贯通连接有金属管,而且金属管的端部固定连接有吸盘。

14、进一步的,所述排线组件包括有置线座、挂耳、下限位座和限轨杆,且置线座的两侧固定连接有挂耳,并且挂耳的顶部与伸缩吊杆的底端固定连接,所述置线座的内侧固定安装有下限位座,且置线座的顶部焊接有限轨杆。

15、进一步的,所述排线组件还包括有金属丝杆、升降架和上限位座,且金属丝杆的底端通过轴承与置线座的顶部活动连接,并且金属丝杆的外壁螺纹连接有升降架,所述升降架的底部固定连接有上限位座,且上限位座与下限位座一一对应设置,并且上限位座位于下限位座的正上方。

16、进一步的,所述排线组件还包括有导向滑轨、滑行架和伺服电机,且导向滑轨固定在升降架的顶部,且导向滑轨的内壁设置有滑行架,并且滑行架的内侧固定连接有伺服电机,而且伺服电机通过滑行架与导向滑轨构成滑动结构。

17、本专利技术提供了一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺,具备以下有益效果:

18、1、本专利技术设置有排线组件,排线组件由置线座、挂耳、下限位座、限轨杆、金属丝杆、升降架、上限位座、导向滑轨、滑行架和伺服电机共同组成,通过伺服电机带动金属丝杆旋转,配合导向滑轨和滑行架对伺服电机运动轨迹的限制,以及限轨杆对升降架运动轨迹的限制,使得升降架可在金属丝杆的旋转驱动下逐渐下移,利用下限位座和上限位座对线路端部进行夹持固定,将每三个线路构成一组并整齐排列基板顶部后进行封装,相较于传统的单一线路封装,成组封装线路使得线路得以增宽,从而提升了覆晶薄膜成品的提高抗挠折性。

19、2、本专利技术设置有喷涂组件,喷涂组件由导向滑槽、电控滑架、喷嘴、泵体和伸缩管共同组成,通过电控滑架带动喷嘴沿导向滑槽轨迹往复移动,同时泵体通过伸缩管抽取储料桶内的sr防焊油墨,并供给给喷嘴,利用喷嘴将sr防焊油墨均匀喷涂到基板未安装线路的一面,通过在未安装线路的一面形成均匀的保护膜,利用sr防焊油墨的优良特性,不仅起到了抗磨、保护基板的作用,更增加了基板整体厚度,进一步提升了覆晶薄膜成品的提高抗挠折性。

20、3、本专利技术设置有控制电机,通过控制电机带动固定组件翻转,从而带动基板翻转进箱壳内,直接对基板进行翻转,且使得喷涂加工可在箱壳内进行,避免喷涂造成sr防焊油墨四处飞溅,另外,设置有集料屉和漏斗,喷涂产生的废料可沿漏斗落入集料屉内,通过对废漆进行收集,以便其处理和回收。

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【技术保护点】

1.一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺,其特征在于,所述箱壳(1)的底部固定连接有废料腔(2),且废料腔(2)的内侧活动连接有集料屉(3),并且箱壳(1)的内部固定安装有漏斗(4),而且漏斗(4)的底部与箱壳(1)的底部贯通相连。

3.根据权利要求1所述的一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺,其特征在于,所述箱壳(1)的内部固定有分隔板(5),且箱壳(1)的内部设置有储料桶(6),并且储料桶(6)限制在箱壳(1)和分隔板(5)之间,所述储料桶(6)的顶部固定连接有加料斗(7),且储料桶(6)的外壁与喷涂组件(8)固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺,其特征在于,所述喷涂组件(8)包括有导向滑槽(81)和电控滑架(82),且导向滑槽(81)开设在箱壳(1)的内壁,并且电控滑架(82)通过导向滑槽(81)活动安装在箱壳(1)的内部。

5.根据权利要求4所述的一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺,其特征在于,所述喷涂组件(8)还包括有喷嘴(83)、泵体(84)和伸缩管(85),且喷嘴(83)固定在电控滑架(82)的顶部,并且电控滑架(82)的底部固定连接有泵体(84),所述喷嘴(83)的底部贯穿电控滑架(82)的顶部并延伸至电控滑架(82)的底部,且喷嘴(83)的底部与泵体(84)的出口侧相连,并且泵体(84)的进口侧固定连接有伸缩管(85),而且伸缩管(85)与储料桶(6)的外壁固定连接。

6.根据权利要求1所述的一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺,其特征在于,所述控制电机(9)的输出轴通过联轴器固定连接有中心旋柱(10),且中心旋柱(10)通过轴承与箱壳(1)的内壁活动连接,并且中心旋柱(10)的一端与固定组件(11)的外壁固定连接。

7.根据权利要求1所述的一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺,其特征在于,所述固定组件(11)包括有气室(111)、真空泵(112)、金属管(113)和吸盘(114),且气室(111)的外侧固定安装有真空泵(112),并且气室(111)的外壁贯通连接有金属管(113),而且金属管(113)的端部固定连接有吸盘(114)。

8.根据权利要求1所述的一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺,其特征在于,所述排线组件(17)包括有置线座(171)、挂耳(172)、下限位座(173)和限轨杆(174),且置线座(171)的两侧固定连接有挂耳(172),并且挂耳(172)的顶部与伸缩吊杆(16)的底端固定连接,所述置线座(171)的内侧固定安装有下限位座(173),且置线座(171)的顶部焊接有限轨杆(174)。

9.根据权利要求8所述的一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺,其特征在于,所述排线组件(17)还包括有金属丝杆(175)、升降架(176)和上限位座(177),且金属丝杆(175)的底端通过轴承与置线座(171)的顶部活动连接,并且金属丝杆(175)的外壁螺纹连接有升降架(176),所述升降架(176)的底部固定连接有上限位座(177),且上限位座(177)与下限位座(173)一一对应设置,并且上限位座(177)位于下限位座(173)的正上方。

10.根据权利要求9所述的一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺,其特征在于,所述排线组件(17)还包括有导向滑轨(178)、滑行架(179)和伺服电机(1710),且导向滑轨(178)固定在升降架(176)的顶部,且导向滑轨(178)的内壁设置有滑行架(179),并且滑行架(179)的内侧固定连接有伺服电机(1710),而且伺服电机(1710)通过滑行架(179)与导向滑轨(178)构成滑动结构。

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【技术特征摘要】

1.一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺,其特征在于,所述箱壳(1)的底部固定连接有废料腔(2),且废料腔(2)的内侧活动连接有集料屉(3),并且箱壳(1)的内部固定安装有漏斗(4),而且漏斗(4)的底部与箱壳(1)的底部贯通相连。

3.根据权利要求1所述的一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺,其特征在于,所述箱壳(1)的内部固定有分隔板(5),且箱壳(1)的内部设置有储料桶(6),并且储料桶(6)限制在箱壳(1)和分隔板(5)之间,所述储料桶(6)的顶部固定连接有加料斗(7),且储料桶(6)的外壁与喷涂组件(8)固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺,其特征在于,所述喷涂组件(8)包括有导向滑槽(81)和电控滑架(82),且导向滑槽(81)开设在箱壳(1)的内壁,并且电控滑架(82)通过导向滑槽(81)活动安装在箱壳(1)的内部。

5.根据权利要求4所述的一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺,其特征在于,所述喷涂组件(8)还包括有喷嘴(83)、泵体(84)和伸缩管(85),且喷嘴(83)固定在电控滑架(82)的顶部,并且电控滑架(82)的底部固定连接有泵体(84),所述喷嘴(83)的底部贯穿电控滑架(82)的顶部并延伸至电控滑架(82)的底部,且喷嘴(83)的底部与泵体(84)的出口侧相连,并且泵体(84)的进口侧固定连接有伸缩管(85),而且伸缩管(85)与储料桶(6)的外壁固定连接。

6.根据权利要求1所述的一种提高抗挠折性的覆晶薄膜制备工艺,其特征在于,所述控制电机(9)的输出轴通过联轴器固定连接有中心旋柱(10),且中心旋柱(10)通过轴承与箱壳(1)的内壁活动连接,并且中心旋柱(10)的一端与固定组件(11)...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙嫚徽江祖平王宏庆
申请(专利权)人:浙江晶引电子科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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