【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及导电金属薄膜生产，具体而言，涉及一种溶铜装置及导电金属薄膜生产设备。
技术介绍
1、导电金属薄膜是一类具有多种良好性能的材料，现已广泛应用于电池中作为正极集流体或者负极集流体。溶铜是导电金属薄膜生产的一道工序，为铜箔生产提供硫酸铜溶液，是十分关键的一道工序。
2、现有技术中通常采用溶铜罐进行硫酸铜溶液的制备，制备过程中，需要不断将溶铜罐底部的溶液泵送经溶铜罐顶部回送到溶铜罐内并混合空气与金属铜反应生成硫酸铜。整个过程中需要随时控制溶铜罐内的反应速度，以保证硫酸铜的浓度在设定范围内。现有的溶铜装置，金属铜与空气的接触时间比较短，金属铜与硫酸的反应速度比较慢，硫酸铜溶液的浓度难于控制。
技术实现思路
1、本专利技术的主要目的在于提供一种溶铜装置及导电金属薄膜生产设备，以至少解决现有技术中的溶铜装置内的金属铜与硫酸的反应速度比较慢的问题。
2、根据本专利技术的一个方面，提供了一种溶铜装置，包括：
3、溶铜罐，所述溶铜罐设置有反应腔，所述反应腔的顶部设置有回流口；
4、过滤板，所述过滤板设置于所述反应腔并将所述反应腔分隔为上腔室和下腔室；
5、反射罩，所述反射罩包括凹弧部，所述凹弧部朝向远离背离所述过滤板的方向凹陷；
6、扩散管，所述扩散管设置于所述反应腔并沿所述反应腔的上下方向延伸，所述扩散管的顶端与所述回流口连接，所述扩散管的底端穿过所述过滤板并深入所述凹弧部内；以及
7、泵液组件，所述泵
8、进一步地，所述反射罩上设置有多根支撑筋，多根所述支撑筋沿所述反射罩的外周间隔设置并支撑在所述下腔室的内侧壁上，且相邻两根所述支撑筋之间具有过流间隙。
9、进一步地，所述下腔室包括锥台段，沿远离所述上腔室的方向，所述锥台段的横截面逐渐变小，所述支撑筋支撑在所述锥台段靠近所述上腔室的一侧的边缘处。
10、进一步地，所述扩散管包括扩散段，沿靠近所述下腔室的方向，所述扩散段的横截面逐渐变大。
11、进一步地，所述溶铜装置还包括射流器，所述射流器设置于所述溶铜罐的顶端并与所述回流口连通。
12、进一步地，所述泵液组件包括：
13、抽液泵，所述抽液泵设置于所述溶铜罐的外部；
14、抽液管道，所述抽液管道的一端与所述下腔室连通，所述抽液管道另一端与所述抽液泵的入口端连通；
15、回流管道，所述回流管道的一端与所述抽液泵的出口端连通，所述回流管道的另一端与所述回流口连通；
16、控制电机，所述控制电机与所述抽液泵电连接。
17、进一步地，所述抽液管道包括汇集管和至少两根支路管，所述汇集管的第一端与所述入口端连接，各所述支路管的第一端均与所述汇集管的第二端连接，至少两根所述支路管的第二端沿所述反应腔的外周布置并与所述反应腔连通，以在所述抽液泵工作时使所述反应腔的液体形成漩涡。
18、进一步地，各所述支路管均具有伸入所述下腔室内的伸入段，在所述溶铜罐上下方向的投影内，所述伸入段沿顺时针或者逆时针方向延伸布置。
19、进一步地，至少两个所述伸入段沿所述下腔室的第一圆周的周向间隔均匀布置，且所述伸入段的轴线处于同一平面内。
20、进一步地，各所述伸入段的端口至所述第一圆周的圆心的距离为所述第一圆周的半径的2/3至5/6。
21、进一步地，各所述伸入段的长度相同；和/或，各所述支路管的长度相同。
22、进一步地，所述溶铜装置还包括冷却组件，所述冷却组件包括：
23、冷却水箱，所述冷却水箱呈环形贴靠设置在所述溶铜罐的外周面，所述冷却水箱包括入口管道和出口管道；
24、冷却循环泵，所述冷却循环泵的入口与所述出口管道连通，所述冷却循环泵的出口与所述入口管道连通；
25、散热器，所述散热器设置于所述冷却水箱上。
26、进一步地，所述散热器包括换热管，所述换热管沿所述冷却水箱的壁面往复弯折设置。
27、进一步地，所述冷却组件至少为两个，至少两个所述冷却组件沿所述溶铜罐的高度方向间隔设置。
28、另一方面，本专利技术还提供了一种导电金属薄膜生产设备，所述导电金属薄膜生产设备包括上述的溶铜装置。
29、相对于现有技术而言，本专利技术的技术方案至少具备如下技术效果：
30、在本专利技术中，溶铜罐的反应腔用于进行硫酸铜溶液的制备，实际制备时，反应腔内盛放有硫酸，然后将铜块或者铜球等投放在反应腔的过滤板上，此时，反应腔的硫酸、金属铜与空气混合反应后即可进行硫酸铜溶液的制备。反应过程中，泵液组件可以根据需要将反应腔底部的硫酸和硫酸铜溶液泵送至回流口，此时，硫酸和硫酸铜溶液可以沿扩散管流动至扩散管的底端并喷射至反射罩的凹弧部内。此过程中，从扩散管底部喷出的硫酸、硫酸铜溶液以及空气混合朝向过滤板的方向反射，进而可以与过滤板上金属铜充分接触反应，能够在一定程度上提高反应腔内的硫酸铜溶液的制备速率。
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1.一种溶铜装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的溶铜装置，其特征在于，所述反射罩(60)上设置有多根支撑筋(62)，多根所述支撑筋(62)沿所述反射罩(60)的外周间隔设置并支撑在所述下腔室(1012)的内侧壁上，且相邻两根所述支撑筋(62)之间具有过流间隙(80)。
3.根据权利要求2所述的溶铜装置，其特征在于，所述下腔室(1012)包括锥台段(1012a)，沿远离所述上腔室(1011)的方向，所述锥台段(1012a)的横截面逐渐变小，所述支撑筋(62)支撑在所述锥台段(1012a)靠近所述上腔室(1011)的一侧的边缘处。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的溶铜装置，其特征在于，所述扩散管(70)包括扩散段(71)，沿靠近所述下腔室(1012)的方向，所述扩散段(71)的横截面逐渐变大。
5.根据权利要求4所述的溶铜装置，其特征在于，所述溶铜装置还包括射流器(40)，所述射流器(40)设置于所述溶铜罐(10)的顶端并与所述回流口(11)连通。
6.根据权利要求1至3、5中任一项所述的溶铜装置，其特征在
7.根据权利要求6所述的溶铜装置，其特征在于，所述抽液管道(32)包括汇集管(321)和至少两根支路管(322)，所述汇集管(321)的第一端与所述入口端(311)连接，各所述支路管(322)的第一端均与所述汇集管(321)的第二端连接，至少两根所述支路管(322)的第二端沿所述反应腔(101)的外周布置并与所述反应腔(101)连通，以在所述抽液泵(31)工作时使所述反应腔(101)的液体形成漩涡。
8.根据权利要求7所述的溶铜装置，其特征在于，各所述支路管(322)均具有伸入所述下腔室(1012)内的伸入段(3221)，在所述溶铜罐(10)上下方向的投影内，所述伸入段(3221)沿顺时针或者逆时针方向延伸布置。
9.根据权利要求8所述的溶铜装置，其特征在于，至少两个所述伸入段(3221)沿所述下腔室(1012)的第一圆周的周向间隔均匀布置，且所述伸入段(3221)的轴线处于同一平面内。
10.根据权利要求9所述的溶铜装置，其特征在于，各所述伸入段(3221)的端口(3222)至所述第一圆周的圆心的距离为所述第一圆周的半径的2/3至5/6。
11.根据权利要求8-10中任一项所述的溶铜装置，其特征在于，各所述伸入段(3221)的长度相同；和/或，各所述支路管(322)的长度相同。
12.根据权利要求1-3、5、7-10任一项所述的溶铜装置，其特征在于，所述溶铜装置还包括冷却组件(20)，所述冷却组件(20)包括：
13.根据权利要求12所述的溶铜装置，其特征在于，所述散热器包括换热管(22)，所述换热管(22)沿所述冷却水箱(21)的壁面往复弯折设置。
14.根据权利要求12所述的溶铜装置，其特征在于，所述冷却组件(20)至少为两个，至少两个所述冷却组件(20)沿所述溶铜罐(10)的高度方向间隔设置。
15.一种导电金属薄膜生产设备，其特征在于，所述导电金属薄膜生产设备包括权利要求1至14中任一项所述的溶铜装置。
...【技术特征摘要】
1.一种溶铜装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的溶铜装置，其特征在于，所述反射罩(60)上设置有多根支撑筋(62)，多根所述支撑筋(62)沿所述反射罩(60)的外周间隔设置并支撑在所述下腔室(1012)的内侧壁上，且相邻两根所述支撑筋(62)之间具有过流间隙(80)。
3.根据权利要求2所述的溶铜装置，其特征在于，所述下腔室(1012)包括锥台段(1012a)，沿远离所述上腔室(1011)的方向，所述锥台段(1012a)的横截面逐渐变小，所述支撑筋(62)支撑在所述锥台段(1012a)靠近所述上腔室(1011)的一侧的边缘处。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的溶铜装置，其特征在于，所述扩散管(70)包括扩散段(71)，沿靠近所述下腔室(1012)的方向，所述扩散段(71)的横截面逐渐变大。
5.根据权利要求4所述的溶铜装置，其特征在于，所述溶铜装置还包括射流器(40)，所述射流器(40)设置于所述溶铜罐(10)的顶端并与所述回流口(11)连通。
6.根据权利要求1至3、5中任一项所述的溶铜装置，其特征在于，所述泵液组件(30)包括：
7.根据权利要求6所述的溶铜装置，其特征在于，所述抽液管道(32)包括汇集管(321)和至少两根支路管(322)，所述汇集管(321)的第一端与所述入口端(311)连接，各所述支路管(322)的第一端均与所述汇集管(321)的第二端连接，至少两根所述支路管(322)的第二端沿所述反应腔(101)的外周布置并与所述反应腔(101)连通，以在所述抽液泵...
【专利技术属性】
技术研发人员：臧世伟，请求不公布姓名，
申请(专利权)人：重庆金美新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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