【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及水处理领域，特别是一种沉淀池清洗装置。
技术介绍
1、参阅图1，自来水厂沉淀池1中设有隔水墙11和集水槽12。隔水墙11的侧壁以及集水槽12内壁和外壁都易生长青苔水藻，集水槽12如果生长大青苔水藻则会堵塞溢流口。同时水藻青苔死亡后对水质有一定影响，在感官上也很不美观。为了保证平流沉淀池1的清洁，保证供水设施的稳定运行，每年要组织大量人力进行水藻青苔的清洗，另外集水槽12内部有青苔水藻的情况下十分光滑，人员站立不稳存在一定安全风险，冬季寒冷无法进行下水清理，夏季在水温光照适宜的情况下水藻青苔生长十分迅速往往刚刚清理过的表面在几天后又会生长起来，每年投入的人工成本很高。
2、目前，市面上已经存在一些自动对沉淀池进行清洗的装置。例如专利cn108273290b，公开了一种沉淀池清洗系统，该专利中将清洗机器人设置于集水槽12中来对集水槽12内壁进行清洗。但是，这种清洗方法，参阅图1，需要提前将集水槽12中的横杆121拆卸下来才能够实现清洗，仍然需要人力资源的投入。此外，该专利无法对集水槽12的外壁以及隔水墙11的侧壁进行清洗。
3、因此，现急需一款能够同时对隔水墙11外壁、集水槽12外壁和集水槽12内壁进行清洗的装置。
技术实现思路
1、本专利技术第一方面提供一种沉淀池清洗装置，用于清洗沉淀池中的隔水墙和集水槽。沉淀池清洗装置包括龙门桁架和悬臂移动机构。所述龙门桁架包括设于沉淀池左侧上方的左固定支架、设于沉淀池右侧上方的右固定支架和行走桁架，所述行走桁
2、在一具体实施方式中，所述横移机构包括沿所述行走桁架延伸方向设置的横向支架和可移动设于所述横向支架上的横移板。所述横向支架包括由上至下依次平行设置的第一横轴、第二横轴和第三横轴。所述横移板上设有横移电机、多个上从动轮和多个下从动轮。所述第二横轴一侧设有横移齿条，所述横移电机的驱动轴上设有与所述横移齿条相匹配的齿轮，所述横移电机与所述横移齿条齿轮配合。各所述上从动轮抵持住所述第一横轴上表面并与所述第一横轴上表面可移动连接。各所述下从动轮抵持住所述第三横轴下表面并与所述第三横轴下表面可移动连接。所述横向支架上还设有多个垂直于所述横向支架的连接筋，各所述连接筋之间平行均匀设置。所述连接筋一端与所述行走桁架连接，另一端与所述第三横轴连接。相邻各所述连接筋之间还设有多个固定筋，所述固定筋一端与所述第一横轴连接，另一端与所述第三横轴连接。
3、在一具体实施方式中，所述横移板上还包括多组中间从动轮组，各组所述中间从动轮均包括两个相对设置的中间从动轮。其中一组的两个相对设置的中间从动轮抵持所述第一横轴的两侧，且中间从动轮所述第一横轴的两侧可移动连接。其中一组两个相对设置的中间从动轮抵持所述第三横轴的两侧且中间从动轮与所述第三横轴的两侧可移动连接。
4、在一具体实施方式中，所述纵移机构包括设于所述横移板上的纵向支架和可移动设于所述纵向支架上的纵移板。所述纵向支架上设有纵移齿条、左滑轨和右滑轨。所述左滑轨和所述右滑轨沿所述纵向支架延伸方向平行设置。所述纵移板上设有纵移电机和多个左滑块和多个右滑块。所述纵移电机的驱动轴上设有与所述纵移齿条相匹配的齿轮，所述纵移电机与所述纵移齿条齿轮配合。各所述左滑块可移动设于所述左滑轨中，各所述右滑块可移动设于所述右滑轨中。所述左滑轨和所述右滑轨上均设有上限位块和下限位块，所述纵向支架上还设有防尘罩，所述纵移板上还设有保护罩。所述纵向支架一侧还设有拖链，所述拖链一端与所述纵移板连接，另一端与所述纵向支架连接。
5、在一具体实施方式中，所述纵移板上还设有转接板。所述悬臂包括第一悬臂组和第二悬臂组。所述第一悬臂组包括第一悬臂和第一悬臂电机，所述第一悬臂电机设于所述转接板上，所述第一悬臂电机的驱动轴与所述第一悬臂的一端连接，用于驱动所述第一悬臂转动。所述第二悬臂组包括第二悬臂和第二悬臂电机，所述第二悬臂电机设于第一悬臂的另一端，所述第二悬臂电机的驱动轴与所述第二悬臂的一端连接，用于驱动所述第二悬臂转动。所述第二悬臂的另一端上设有旋转电机，所述旋转电机与所述清洗毛刷连接，用于驱动所述清洗毛刷转动。
6、在一具体实施方式中，所述行走桁架包括左行走电机和右行走电机。所述左行走电机设于所述行走桁架左端，且所述左行走电机的驱动轴与所述左固定支架连接。所述右行走电机设于所述行走桁架右端，且所述右行走电机的驱动轴与所述右固定支架连接。所述左行走电机和所述右行走电机均为伺服电机。
7、在一具体实施方式中，还包括多个用于清除沉淀池底部沉淀物的沉淀物清除机构。各所述沉淀物清除机构均匀设置于所述行走桁架下方；各所述沉淀物清除机构均包括管道和泵体。所述管道一端与所述泵体连接，另一端被设置于所述沉淀池中；所述泵体与所述行走桁架连接。
8、本专利技术第二方面提供一种沉淀池清洗系统，包括如本专利技术第一方面所述的沉淀池清洗装置、plc和上位机。所述左行走电机、所述右行走电机、所述横移电机、所述纵移电机、所述第一悬臂电机、所述第二悬臂电机和所述旋转电机上均设有编码器。所述编码器、所述左行走电机、所述右行走电机、所述第一悬臂电机、所述第二悬臂电机、所述旋转电机、所述升降管道和所述泵体均与所述plc电连接，所述plc与所述上位机电连接。所述上位机中安装有用于控制plc的软件。
9、本专利技术第三方面提供一种对隔水墙和集水槽进行清洗的方法，该方法运用本专利技术第二方面提供的沉淀池清洗系统实现。沉淀池中设有多个平行设置的隔水墙和多个平行设置的集水槽，集水槽中设有多个横杆，各所述横杆将所述集水槽分割为多个集水槽段，清洗方法包括如下步骤：
10、对隔水墙清洗的方法：1）行走桁架移动至隔水墙所在位置。2）横移机构将悬臂移动至隔水墙侧壁的上方。3）纵移机构将悬臂下降至沉淀池中。4）悬臂调整位置，使清洗毛刷与隔水墙侧壁接触。5）旋转电机开启，清洗毛刷旋转，对隔水墙进行清洗。
11、对集水槽外壁清洗的方法：1）行走桁架移动至集水槽所在位置。2）横移机构将悬臂移动至集水槽外壁的上方。3）纵移机构将悬臂下降至沉淀池中。4）悬臂调整位置，使清洗毛刷与隔水墙外壁接触。5）旋转电机开启，清洗毛刷旋转，对集水槽外壁进行清洗。
12、对集水槽内壁清洗的方法：1）行走桁架移动至集水槽段所在位置。2）横移机构将悬臂移动至集水槽段内壁的上方。3）纵移机构将悬臂下降至沉淀池中。4）悬臂调整位置，使清洗毛刷与隔水墙内壁接触。5）旋转电机开启，清洗毛刷旋转，对集水槽段内壁进行清洗。
13、本专利技术第三方面提供一种清洗路径，该路径运用如本专利技术第三方面提供的清洗方法来实现，清洗路径包括如下路径：
14、路径一：1）先清洗隔水墙的一侧外壁，再清洗同一隔水墙的另一本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种沉淀池清洗装置，用于清洗沉淀池（1）中的隔水墙（11）和集水槽（12），其特征在于：包括龙门桁架（2）和悬臂移动机构（3）；
2.根据权利要求1所述的沉淀池清洗装置，其特征在于：所述横移板（314）上还包括多组中间从动轮组，各组所述中间从动轮组均包括两个相对设置的中间从动轮（314.4）；
3.根据权利要求2所述的沉淀池清洗装置，其特征在于：所述纵移机构（32）包括设于所述横移板（314）上的纵向支架（320）和可移动设于所述纵向支架（320）上的纵移板（321）；
4.根据权利要求3所述的沉淀池清洗装置，其特征在于：所述纵移板（321）上还设有转接板（321.4）；所述悬臂（33）包括第一悬臂组（35）和第二悬臂组（36）；
5.根据权利要求4所述的沉淀池清洗装置，其特征在于：所述行走桁架（23）包括左行走电机和右行走电机；
6.根据权利要求5所述的沉淀池清洗装置，其特征在于：还包括多个用于清除沉淀池（1）底部沉淀物的沉淀物清除机构；
7.一种沉淀池清洗系统，其特征在于：包括如权利要求6所述的沉淀池
8.一种运用如权利要求7所述的沉淀池清洗系统对隔水墙和集水槽进行清洗的方法，沉淀池（1）中设有多个平行设置的隔水墙（11）和多个平行设置的集水槽（12），集水槽（12）中设有多个横杆（121），各所述横杆（121）将所述集水槽（12）分割为多个集水槽段（122），其特征在于，包括如下步骤：
9.一种如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述方法包括以下清洗路径：
...【技术特征摘要】
1.一种沉淀池清洗装置，用于清洗沉淀池（1）中的隔水墙（11）和集水槽（12），其特征在于：包括龙门桁架（2）和悬臂移动机构（3）；
2.根据权利要求1所述的沉淀池清洗装置，其特征在于：所述横移板（314）上还包括多组中间从动轮组，各组所述中间从动轮组均包括两个相对设置的中间从动轮（314.4）；
3.根据权利要求2所述的沉淀池清洗装置，其特征在于：所述纵移机构（32）包括设于所述横移板（314）上的纵向支架（320）和可移动设于所述纵向支架（320）上的纵移板（321）；
4.根据权利要求3所述的沉淀池清洗装置，其特征在于：所述纵移板（321）上还设有转接板（321.4）；所述悬臂（33）包括第一悬臂组（35）和第二悬臂组（36）；
5.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵军，薛江宁，程尧，李雷，林光荣，张亮，王尧，吴阳，陈甜甜，郭荣荣，
申请(专利权)人：上海博瑞思环境科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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