【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体，特别是涉及一种膜片抛光装置。
技术介绍
1、近两年，随着我国半导体产业的崛起，在半导体制成过程的设备中，使用了不同型号、不同用途的阀门，特别是芯片制造中，使用多种有毒气体对晶圆进行蚀刻。对有毒气体输送中，要求气体无泄漏、压力恒定、管道及阀体内流道洁净光滑、无污染。这也是半导体芯片制造过程中对光刻机超精密、超洁净的基本要求。在气体蚀刻过程中最常用的阀是原子沉积ald隔膜阀，其结构如图1所示，原子沉积ald隔膜阀包括阀体101、阀座102、膜片103、阀帽、按钮104、阀帽螺母和低压气动执行器105。
2、其工作原理如下：蚀刻气体(压力)从左阀端进入，当低压气动执行器105不通入控制气体时，由于低压气动执行器105上方的弹簧在弹力作用下，推动中间热隔离连接杆，压下按钮104，使膜片103向下封住阀座102，使原子沉积ald隔膜阀处于常闭状态，当低压气动执行器105通入一定压力的气体，低压气动执行器105中活塞带动中间热隔离连接杆向上运动，此时按钮104向上，由于膜片103的结构如图2所示，使膜片103边在自身的弹力作用下向上离开阀座102，使从左端通入的有毒蚀刻气体通过阀体通道流向右端出口。通过控制低压气动执行器105通入与关闭气体的时间与频率，就可以精确控制蚀刻气体的流量与流速大小。
3、当低压气动执行器通入0.4～0.6mpa气体、通入与关闭时间在每秒2-10次时，膜片下面与阀座的距离就从大到小变化，通过阀座的气体流量得到精确控制。
4、原子沉积ald隔膜阀的氦气检漏参数
5、膜片的材料为带材，带材在制造与运输过程中表面粗糙度只能达到0.8μm。膜片在冲压成型过程中，表面粗糙度还会增加。如果表面粗糙度达不到图纸要求，就会增加氦检泄漏率，影响蚀刻气体的稳定流速与流量，减低原子沉积ald隔膜阀的使用寿命。由于上述原因，成型膜片需要进行抛光后处理。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是提供一种膜片抛光装置，对膜片的凹面和凸面进行抛光，解决了半导体芯片制程中多种控制阀门中膜片表面粗糙度要求较高的难题。
2、为实现上述目的，本专利技术提供了如下方案：
3、本专利技术提供了一种膜片抛光装置，包括送料组件、抛光组件、夹持运动组件、清洗回收组件和上料组件，所述送料组件用于输送待抛光膜片，所述上料组件用于将待抛光膜片放置在所述夹持运动组件上，所述夹持运动组件用于夹持待抛光膜片，所述抛光组件用于对所述夹持运动组件上的待抛光膜片进行抛光，所述夹持运动组件能够带动待抛光膜片转动和摆动，所述上料组件用于将所述抛光组件抛光完的膜片放置在所述清洗回收组件上，所述清洗回收组件用于对膜片清洗和烘干。
4、优选地，所述送料组件包括送料支架、送料驱动结构、第一导轨、送料底板和第一料盘，所述送料驱动结构用于与控制系统电连接，所述送料驱动结构和所述第一导轨均设置在所述送料支架上，所述送料驱动结构的动力输出端设置有第一同步带轮，所述送料支架上设置有第二同步带轮，所述第一同步带轮和所述第二同步带轮通过第一同步带传动连接，所述送料底板设置在所述第一同步带上，且所述送料底板与所述第一导轨滑动连接，各所述第一料盘分别设置在所述送料底板的凹槽上，所述第一料盘上设置有若干用于吸附待抛光膜片的第一吸附槽，所述第一吸附槽的形状与待抛光磨片的凹面或凸面匹配。
5、优选地，所述送料底板上设置有第一位移传感器，所述第一位移传感器用于与控制系统电连接。
6、优选地，所述抛光组件包括抛光驱动结构、中空轴和抛光轮，所述抛光组件抛光驱动结构用于与控制系统电连接，所述中空轴的一端与所述抛光驱动结构的动力输出端连接，所述中空轴的另一端与所述抛光轮连接，所述抛光轮设置有通液孔，所述通液孔与所述中空轴连通，研磨液通过所述中空轴和所述通液孔能够到达膜片的表面，所述抛光轮的抛光面的形状与膜片的凹面或凸面匹配。
7、优选地，所述抛光轮采用羊毛制成。
8、优选地，所述夹持运动组件包括吸盘、回转驱动结构和摆动驱动结构，所述回转驱动结构和摆动驱动结构分别用于与控制系统电连接，所述回转驱动结构设置在所述摆动驱动结构的动力输出端，所述吸盘设置在所述回转驱动结构的动力输出端，所述吸盘用于吸附膜片，所述吸盘的形状与膜片的凹面或凸面匹配，所述摆动驱动结构带动所述吸盘摆动，所述回转驱动结构带动所述吸盘转动。
9、优选地，所述清洗回收组件包括清洗回收支架、清洗回收驱动结构、第二导轨、清洗回收底板、第二料盘和清洁罩，所述清洗回收驱动结构用于与控制系统电连接，所述清洗回收驱动结构和所述第二导轨均设置在所述清洗回收支架上，所述清洗回收驱动结构的动力输出端设置有第三同步带轮，所述清洗回收支架上设置有第四同步带轮，所述第三同步带轮和所述第四同步带轮通过第二同步带传动连接，所述清洗回收底板设置在所述第二同步带上，且所述清洗回收底板与所述第二导轨滑动连接，各所述第二料盘分别设置在所述清洗回收底板的凹槽上，所述第二料盘上设置有若干用于吸附抛光完的膜片的第二吸附槽，所述第二吸附槽的形状与抛光完的膜片的凹面或凸面匹配，所述第二料盘的上方设置有清洁罩，所述清洁罩内设置有清洗喷头和烘干喷头。
10、优选地，所述清洗回收底板上设置有第二位移传感器，所述第二位移传感器用于与控制系统电连接。
11、优选地，所述上料组件包括六轴机械手和吸头，所述六轴机械手用于与控制系统电连接，所述吸头设置在所述六轴机械手上，所述吸头用于吸附待抛光磨片和抛光完的膜片，所述吸头的形状与膜片的凹面或凸面匹配。
12、本专利技术相对于现有技术取得了以下技术效果：
13、本专利技术能够对膜片的凹面和凸面进行精密抛光，使膜片达到图纸规定的粗糙度要求，膜片的锐边同时也进行钝化，生产效率与自动化程度高，采用机械手控制膜片运送与定位，精度高，采用本专利技术得到的膜片应用在原子沉积ald隔膜阀上，阀门氦检验无泄漏，压力恒定、流量可控。
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1.一种膜片抛光装置，其特征在于：包括送料组件、抛光组件、夹持运动组件、清洗回收组件和上料组件，所述送料组件用于输送待抛光膜片，所述上料组件用于将待抛光膜片放置在所述夹持运动组件上，所述夹持运动组件用于夹持待抛光膜片，所述抛光组件用于对所述夹持运动组件上的待抛光膜片进行抛光，所述夹持运动组件能够带动待抛光膜片转动和摆动，所述上料组件用于将所述抛光组件抛光完的膜片放置在所述清洗回收组件上，所述清洗回收组件用于对膜片清洗和烘干。
2.根据权利要求1所述的膜片抛光装置，其特征在于：所述送料组件包括送料支架、送料驱动结构、第一导轨、送料底板和第一料盘，所述送料驱动结构用于与控制系统电连接，所述送料驱动结构和所述第一导轨均设置在所述送料支架上，所述送料驱动结构的动力输出端设置有第一同步带轮，所述送料支架上设置有第二同步带轮，所述第一同步带轮和所述第二同步带轮通过第一同步带传动连接，所述送料底板设置在所述第一同步带上，且所述送料底板与所述第一导轨滑动连接，各所述第一料盘分别设置在所述送料底板的凹槽上，所述第一料盘上设置有若干用于吸附待抛光膜片的第一吸附槽，所述第一吸附槽的形状与待
3.根据权利要求2所述的膜片抛光装置，其特征在于：所述送料底板上设置有第一位移传感器，所述第一位移传感器用于与控制系统电连接。
4.根据权利要求1所述的膜片抛光装置，其特征在于：所述抛光组件包括抛光驱动结构、中空轴和抛光轮，所述抛光组件抛光驱动结构用于与控制系统电连接，所述中空轴的一端与所述抛光驱动结构的动力输出端连接，所述中空轴的另一端与所述抛光轮连接，所述抛光轮设置有通液孔，所述通液孔与所述中空轴连通，研磨液通过所述中空轴和所述通液孔能够到达膜片的表面，所述抛光轮的抛光面的形状与膜片的凹面或凸面匹配。
5.根据权利要求4所述的膜片抛光装置，其特征在于：所述抛光轮采用羊毛制成。
6.根据权利要求1所述的膜片抛光装置，其特征在于：所述夹持运动组件包括吸盘、回转驱动结构和摆动驱动结构，所述回转驱动结构和摆动驱动结构分别用于与控制系统电连接，所述回转驱动结构设置在所述摆动驱动结构的动力输出端，所述吸盘设置在所述回转驱动结构的动力输出端，所述吸盘用于吸附膜片，所述吸盘的形状与膜片的凹面或凸面匹配，所述摆动驱动结构带动所述吸盘摆动，所述回转驱动结构带动所述吸盘转动。
7.根据权利要求1所述的膜片抛光装置，其特征在于：所述清洗回收组件包括清洗回收支架、清洗回收驱动结构、第二导轨、清洗回收底板、第二料盘和清洁罩，所述清洗回收驱动结构用于与控制系统电连接，所述清洗回收驱动结构和所述第二导轨均设置在所述清洗回收支架上，所述清洗回收驱动结构的动力输出端设置有第三同步带轮，所述清洗回收支架上设置有第四同步带轮，所述第三同步带轮和所述第四同步带轮通过第二同步带传动连接，所述清洗回收底板设置在所述第二同步带上，且所述清洗回收底板与所述第二导轨滑动连接，各所述第二料盘分别设置在所述清洗回收底板的凹槽上，所述第二料盘上设置有若干用于吸附抛光完的膜片的第二吸附槽，所述第二吸附槽的形状与抛光完的膜片的凹面或凸面匹配，所述第二料盘的上方设置有清洁罩，所述清洁罩内设置有清洗喷头和烘干喷头。
8.根据权利要求7所述的膜片抛光装置，其特征在于：所述清洗回收底板上设置有第二位移传感器，所述第二位移传感器用于与控制系统电连接。
9.根据权利要求1所述的膜片抛光装置，其特征在于：所述上料组件包括六轴机械手和吸头，所述六轴机械手用于与控制系统电连接，所述吸头设置在所述六轴机械手上，所述吸头用于吸附待抛光磨片和抛光完的膜片，所述吸头的形状与膜片的凹面或凸面匹配。
...【技术特征摘要】
1.一种膜片抛光装置，其特征在于：包括送料组件、抛光组件、夹持运动组件、清洗回收组件和上料组件，所述送料组件用于输送待抛光膜片，所述上料组件用于将待抛光膜片放置在所述夹持运动组件上，所述夹持运动组件用于夹持待抛光膜片，所述抛光组件用于对所述夹持运动组件上的待抛光膜片进行抛光，所述夹持运动组件能够带动待抛光膜片转动和摆动，所述上料组件用于将所述抛光组件抛光完的膜片放置在所述清洗回收组件上，所述清洗回收组件用于对膜片清洗和烘干。
2.根据权利要求1所述的膜片抛光装置，其特征在于：所述送料组件包括送料支架、送料驱动结构、第一导轨、送料底板和第一料盘，所述送料驱动结构用于与控制系统电连接，所述送料驱动结构和所述第一导轨均设置在所述送料支架上，所述送料驱动结构的动力输出端设置有第一同步带轮，所述送料支架上设置有第二同步带轮，所述第一同步带轮和所述第二同步带轮通过第一同步带传动连接，所述送料底板设置在所述第一同步带上，且所述送料底板与所述第一导轨滑动连接，各所述第一料盘分别设置在所述送料底板的凹槽上，所述第一料盘上设置有若干用于吸附待抛光膜片的第一吸附槽，所述第一吸附槽的形状与待抛光磨片的凹面或凸面匹配。
3.根据权利要求2所述的膜片抛光装置，其特征在于：所述送料底板上设置有第一位移传感器，所述第一位移传感器用于与控制系统电连接。
4.根据权利要求1所述的膜片抛光装置，其特征在于：所述抛光组件包括抛光驱动结构、中空轴和抛光轮，所述抛光组件抛光驱动结构用于与控制系统电连接，所述中空轴的一端与所述抛光驱动结构的动力输出端连接，所述中空轴的另一端与所述抛光轮连接，所述抛光轮设置有通液孔，所述通液孔与所述中空轴连通，研磨液通过所述中空轴和所述通液孔能够到达膜片的表面，所述抛光轮的抛光面的形状与膜片的凹面或凸面匹配。
5.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴其尧，唐洪波，
申请(专利权)人：江苏科维仪表控制工程有限公司，
类型：发明
国别省市：
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