【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于等离子镀膜，尤其涉及一种用于镜片防雾的微波等离子处理工艺。
技术介绍
1、镜片在有温差的环境里特别容易产生结雾，镜片起雾是指在温差环境中空气中的水蒸汽达到饱和状态，在镜片表面凝结形成微小的液滴形成雾气，这些液滴对光线进行折射和散射，改变了镜片表面的光学性质，影响了透光性，造成镜片的不透明现象，从而影响到佩戴者的视线，极大地影响了镜片的使用。
2、现有技术中常使用浸泡防雾药水的镜布擦拭镜片以起到防雾作用，此方法存在一些缺陷，例如，在使用过程中会产生有害物质，并且防雾效果持续时间短。
3、有鉴于此，本专利技术旨在提供一种用于镜片防雾的微波等离子处理工艺，其能够解决现有技术中存在的产生有害物质、持续时间短的问题，实现防雾效果好、无有害物质生成且持续时间长的目的。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于：针对现有技术的不足，而提供一种用于镜片防雾的微波等离子处理工艺，其能够解决现有技术中存在的产生有害物质、持续时间短的问题，实现防雾效果好、无有害物质生成且持续时间长的目的。
2、为了达到上述目的，本专利技术采用如下技术方案：
3、一种用于镜片防雾的微波等离子处理工艺，至少包括如下步骤：
4、第一步，将镜片置于真空腔体内，将药水置于加药机构中，将真空腔体分别与加药机构和微波系统连通；
5、第二步，从加药机构向真空腔体通入药水蒸汽，其中，药水蒸汽的主要成分为硅氧化合物单体；微波系统向真空腔体馈入微波将药水蒸汽
6、第三步，等离子硅氧化合物活性单体在镜片表面发生聚合反应，聚合产物均匀地沉积在镜片表面形成硅氧聚合物纳米膜层，从而实现防雾效果。
7、作为本专利技术用于镜片防雾的微波等离子处理工艺的一种改进，所述硅氧化合物单体为c6h18osi2或hosi。
8、作为本专利技术用于镜片防雾的微波等离子处理工艺的一种改进，第三步得到的镜片表面的水滴角低于8度。
9、作为本专利技术用于镜片防雾的微波等离子处理工艺的一种改进，在通入药水蒸汽之前，先从微波系统通入工艺气体，工艺气体被微波电离后对镜片表面进行活化处理，提升镀膜附着力。
10、作为本专利技术用于镜片防雾的微波等离子处理工艺的一种改进，所述工艺气体为ar、o2和n2中的至少一种。
11、作为本专利技术用于镜片防雾的微波等离子处理工艺的一种改进，所述微波系统包括依次连接的微波发生器、隔离器、环形水负载、三销钉阻抗匹配器、离子激励腔、馈口模块和匀气盘，微波发生器启动产生微波，经过隔离器、环形水负载、三销钉阻抗匹配器器、离子激励腔和馈口模块，并从匀气盘馈入到真空腔体内。
12、作为本专利技术用于镜片防雾的微波等离子处理工艺的一种改进，所述馈口模块上设置有短路器和工艺进气口。
13、作为本专利技术用于镜片防雾的微波等离子处理工艺的一种改进，所述加药机构包括药罐、注液口、电磁控制阀、输送泵和药水输出管，所述药罐内设置有加热结构，药水从注液口注入之后，在药罐中被加热，然后在电磁控制阀处于打开的状态下，由输送泵从药水输出管输入到真空腔体内。
14、作为本专利技术用于镜片防雾的微波等离子处理工艺的一种改进，所述药水输出管上设置有高温流量计。
15、作为本专利技术用于镜片防雾的微波等离子处理工艺的一种改进，所述药罐的底部设置有排液口，所述药罐上还设置有液位计。
16、作为本专利技术用于镜片防雾的微波等离子处理工艺的一种改进，所述注液口上设置有真空计。
17、作为本专利技术用于镜片防雾的微波等离子处理工艺的一种改进，硅氧聚合物纳米膜层的厚度为5～3000nm，微波系统中微波功率为0～3000w，处理时间为0～3600s。
18、相对于现有技术，本专利技术提供的用于镜片防雾的微波等离子处理工艺方法，可以解决现有技术中存在的产生有害物质、持续时间短的问题，实现防雾效果好、无有害物质生成且持续时间长的目的。具体而言，本专利技术通过使用微波等离子在镜片表面形成一层亲水性极强的硅氧聚合物纳米膜，使水滴无法在镜片表面凝聚，使镜片表面水滴角低于8度，以达到长效亲水的效果，使镜片表面雾气无法凝结成水珠，从而能有效地实现优良的防雾效果。
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1.一种用于镜片防雾的微波等离子处理工艺，其特征在于，至少包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的用于镜片防雾的微波等离子处理工艺，其特征在于：所述硅氧化合物单体为C6H18OSi2或HOSi。
3.根据权利要求1所述的用于镜片防雾的微波等离子处理工艺，其特征在于：第三步得到的镜片表面的水滴角低于8度。
4.根据权利要求1所述的用于镜片防雾的微波等离子处理工艺，其特征在于：在通入药水蒸汽之前，先从微波系统通入工艺气体，工艺气体被微波电离后对镜片表面进行活化处理，提升镀膜附着力。
5.根据权利要求4所述的用于镜片防雾的微波等离子处理工艺，其特征在于：所述工艺气体为Ar、O2和N2中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的用于镜片防雾的微波等离子处理工艺，其特征在于：所述微波系统包括依次连接的微波发生器、隔离器、环形水负载、三销钉阻抗匹配器、离子激励腔、馈口模块和匀气盘，微波发生器启动产生微波，经过隔离器、环形水负载、三销钉阻抗匹配器器、离子激励腔和馈口模块，并从匀气盘馈入到真空腔体内；所述馈口模块上设置有短路器和工艺进气口。
7.根据权利要求1所述的用于镜片防雾的微波等离子处理工艺，其特征在于：所述加药机构包括药罐、注液口、电磁控制阀、输送泵和药水输出管，所述药罐内设置有加热结构，药水从注液口注入之后，在药罐中被加热，然后在电磁控制阀处于打开的状态下，由输送泵从药水输出管输入到真空腔体内。
8.根据权利要求7所述的用于镜片防雾的微波等离子处理工艺，其特征在于：所述药水输出管上设置有高温流量计；所述药罐的底部设置有排液口，所述药罐上还设置有液位计。
9.根据权利要求7所述的用于镜片防雾的微波等离子处理工艺，其特征在于：所述注液口上设置有真空计。
10.根据权利要求1所述的用于镜片防雾的微波等离子处理工艺，其特征在于：硅氧聚合物纳米膜层的厚度为5～3000nm，微波系统中微波功率为0～3000W，处理时间为0～3600S。
...【技术特征摘要】
1.一种用于镜片防雾的微波等离子处理工艺，其特征在于，至少包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的用于镜片防雾的微波等离子处理工艺，其特征在于：所述硅氧化合物单体为c6h18osi2或hosi。
3.根据权利要求1所述的用于镜片防雾的微波等离子处理工艺，其特征在于：第三步得到的镜片表面的水滴角低于8度。
4.根据权利要求1所述的用于镜片防雾的微波等离子处理工艺，其特征在于：在通入药水蒸汽之前，先从微波系统通入工艺气体，工艺气体被微波电离后对镜片表面进行活化处理，提升镀膜附着力。
5.根据权利要求4所述的用于镜片防雾的微波等离子处理工艺，其特征在于：所述工艺气体为ar、o2和n2中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的用于镜片防雾的微波等离子处理工艺，其特征在于：所述微波系统包括依次连接的微波发生器、隔离器、环形水负载、三销钉阻抗匹配器、离子激励腔、馈口模块和匀气盘，微波发生器启动产生微波，经过隔离器、环形...
【专利技术属性】
技术研发人员：冼健威，岳行山，
申请(专利权)人：东莞市晟鼎精密仪器有限公司，
类型：发明
国别省市：
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