一种曝光式光管理膜制备工艺制造技术

本发明专利技术涉及的一种曝光式光管理膜制备工艺，其特征在于包括如下步骤：A、准备基材；B、在基材涂布一层乳剂涂层；C、通过定向光照射曝光的方式照射步骤B中乳剂涂层使其感光，为若干均匀纵向间隔或/和若干均匀横向间隔，两相邻纵向间隔和两相邻横向间隔之间形成间隔线；D、将步骤C中做好的材料经过显影剂显影变色；E、将步骤D做好材料经过定影剂洗去多余未曝光组分。通过上述步骤制作防窥膜操作较为简单，同时制作的防窥膜透光度更好，由此通过上述步骤制作的防窥膜在提升防窥膜透光性能的同时简化了制作设备，基本不需要大型设备便可以完成制作。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光管理膜领域，具体地说，是涉及一种曝光式光管理膜制备工艺。

技术介绍

1、目前光控膜领域包括防窥膜领域在制作防窥膜时，首先是将透明固化胶层上进行压印，形成光栅结构的透光部分，再将印压完成的光栅结构的白色部分之间充分涂布遮光胶水，进一步通过紫外光照射的烘箱进行热处理的方式制作，如申请号为202211373387.6，名称为一种防窥膜的制备方法的专利申请，通过该工艺方法制作防窥膜，工艺较为复杂，同时制作的防窥膜稳定性不佳。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于针对上述现有技术的技术问题，提供一种曝光式光管理膜制备工艺。

2、为解决上述技术问题提供的一种曝光式光管理膜制备工艺，包括如下步骤：

3、a：准备透明材质的tpu、cpi、pet、pc或玻璃基材；

4、b：在基材(1)涂布一层乳剂涂层；

5、c：通过定向光照射曝光的方式照射步骤b中乳剂涂层使其感光，为若干均匀纵向间隔或/和若干均匀横向间隔，两相邻纵向间隔和两横向间隔之间构成间隔线；

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【技术保护点】

1.一种曝光式光管理膜制备工艺，其特征在于包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种曝光式光管理膜制备工艺，其特征在于：所述的乳剂层(2)含有银盐。

3.根据权利要求2所述的一种曝光式光管理膜制备工艺，其特征在于：步骤B中乳剂涂层(2)的厚度(c)为30-70um，所述乳剂涂层(2)包含的银盐为卤化银。

4.根据权利要求1所述的一种曝光式光管理膜制备工艺，其特征在于：所述纵向间隔(a1)的间距和横向间隔(a2)的间距均为2-100um。

5.根据权利要求1-4任一所述的一种曝光式光管理膜制备工艺，其特征在于：所述两相邻纵向间隔(a1)及两...

【技术特征摘要】

1.一种曝光式光管理膜制备工艺，其特征在于包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种曝光式光管理膜制备工艺，其特征在于：所述的乳剂层(2)含有银盐。

3.根据权利要求2所述的一种曝光式光管理膜制备工艺，其特征在于：步骤b中乳剂涂层(2)的厚度(c)为30-70um，所述乳剂涂层(2)包含的银盐为卤化银。

4.根据权利要求1所述的一种曝光式光管理膜制备工艺，其特征在于：所述纵向间隔(a1)的间距和横向间隔...

【专利技术属性】
技术研发人员：王祖超，
申请(专利权)人：苏州莱科光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：