一种采用不可逆光致变色基质的光管理膜制备工艺制造技术

本发明专利技术涉及一种采用不可逆光致变色基质的光管理膜制备工艺，包括如下步骤，A：光致变色膜基膜制备；a：通过透明基质制成平整透明基膜，再往透明基膜上制成一层平整不可逆光致变涂层形成光致变色膜基膜；或b：在透明基质中添加不可逆光致变涂料制成平整的光致变色膜基膜；并将步骤a或步骤b中的光致变色膜基膜绕制成卷状；B：制成掩膜板；C：通过光致变色装置照射制成光管理膜。与现有技术相比，经过激光照射并通过掩膜板控制的方式使光致变色膜基膜中的不可逆光致变涂料发生不可逆色变形成间隔的色变基质，从而改变光管理膜的光线传播特性。性。性。

A preparation process of light management film using non reversible photochromic substrate

【技术实现步骤摘要】
一种采用不可逆光致变色基质的光管理膜制备工艺


[0001]本专利技术属于光管理膜领域，具体地说，是涉及一种采用不可逆光致变色基质的光管理膜制备工艺。

技术介绍

[0002]目前很多领域都需要用到光管理膜来改变光线传播特性。比如汽车智能设备屏幕上面贴上光管理膜，防止智能设备屏幕夜间在车挡风玻璃上形成投影；又比如商场扶梯的透明玻璃上贴上光管理膜，防止不良分子通过透明玻璃窥视穿裙子女士，防止走光事件发生。然而目前光管理膜生产工艺基本都是在生产时首先在透明基膜上面预制不透明基质填充凹槽，然后再将不透明基质填充于凹槽之内，从而形成改变光线传播特性的光管理膜，采用这种方式制成光管理膜往往会导致透明基膜和不透明基质边界不清晰分辨率不高等，也容易导致不透明基质长期使用后与透明基膜发生剥离等问题。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于针对上述现有技术的技术问题，提供一种采用不可逆光致变色基质的光管理膜制备工艺。
[0004]为解决上述技术问题提供的一种采用不可逆光致变色基质的光管理膜制备工艺，包括如下步骤：
[0005]A：光致变色膜基膜制备；
[0006]a：通过透明基质制成平整透明基膜，再往透明基膜上制成一层平整不可逆光致变涂层形成光致变色膜基膜；
[0007]或b：在透明基质中添加不可逆光致变涂料制成平整的光致变色膜基膜；
[0008]并将步骤a或步骤b中的光致变色膜基膜绕制成卷状；
[0009]B：制成掩膜板；
[0010]C：通过光致变色装置照射制成光管理膜。
[0011]进一步的，步骤C中光致变色装置包括激光器、能量控制器、光束形成装置、遮光器、掩膜台以及光致变色膜传输装置；激光器发生的激光进行方向调整后通过能量控制器进行能量控制后再经过光束形成装置和遮光器传输至掩膜台，掩膜台上设置掩膜板，激光经过掩膜台上面设置的掩膜板和下面设置的物镜后传输至光致变色膜传输装置位置，并对光致变色膜基膜进行照射制成不可逆光致变色基质的光管理膜。
[0012]更进一步的，所述光致变色膜传输装置包括放卷机构和收卷机构，所述放卷机构和收卷机构之间设置若干传动辊，将步骤a或步骤b中的成卷光致变色膜基膜设置在放卷机构上经过若干传动辊后与收卷机构连接，所述放卷机构和收卷机构之间的光致变色膜基膜经过物镜位置。
[0013]更进一步的，所述激光器光源波长小于500纳米，分辨率小于1微米。
[0014]更进一步的，所述掩膜板设置若干相互间隔透光区域和非透光区域，并且一个周
期中透光区域宽度为10
‑
150um，透光区域和非透光区域组合宽度为 20
‑
250um。
[0015]更进一步的，步骤a中透明基膜厚度为10
‑
100um，光致变色涂层厚度为 10
‑
150um；步骤b中光致变色膜基膜厚度为20
‑
250um。
[0016]本专利技术涉及为解决上述技术问题提供的一种采用不可逆光致变色基质的光管理膜制备工艺，包括如下步骤，A：光致变色膜基膜制备；a：通过透明基质制成平整透明基膜，再往透明基膜上制成一层平整不可逆光致变涂层形成光致变色膜基膜；或b：在透明基质中添加不可逆光致变涂料制成平整的光致变色膜基膜；并将步骤a或步骤b中的光致变色膜基膜绕制成卷状；B：制成掩膜板；C：通过光致变色装置照射制成光管理膜。与现有技术相比，经过激光照射并通过掩膜板控制的方式使光致变色膜基膜中的不可逆光致变涂料发生不可逆色变形成间隔的色变基质，从而改变光管理膜的光线传播特性。
附图说明
[0017]图1为光管理膜工艺流程图；
[0018]图2为光致变色装置结构示意图；
[0019]图3为掩膜板结构示意图；
[0020]图4和图5为光管理膜结构示意图。
具体实施方式
[0021]如在说明书及权利要求当中使用了某些词汇来指称特定组件。本领域技术人员应可理解，硬件制造商可能会用不同名词来称呼同一个组件。本说明书及权利要求并不以名称的差异来作为区分组件的方式，而是以组件在功能上的差异来作为区分的准则。如在通篇说明书及权利要求当中所提及的“包括”为一开放式用语，故应解释成“包括但不限定于”。说明书后续描述为实施本专利技术的较佳实施方式，然所述描述乃以说明本专利技术的一般原则为目的，并非用以限定本专利技术的范围。本专利技术的保护范围当视所附权利要求所界定者为准。
[0022]以下结合附图对本专利技术作进一步详细说明，但不作为对专利技术的限定。
[0023]实施例
[0024]如图1所示，一种采用不可逆光致变色基质的光管理膜制备工艺，包括如下步骤：
[0025]A：光致变色膜基膜9制备；
[0026]a：通过透明基质制成平整透明基膜9a，再往透明基膜9a上制成一层平整不可逆光致变涂层9b形成光致变色膜基膜9；
[0027]或b：在透明基质中添加不可逆光致变涂料制成平整的光致变色膜基膜 9；
[0028]并将步骤a或步骤b中的光致变色膜基膜绕制成卷状；
[0029]B：制成掩膜板5，掩膜板5具体制作包括：
[0030]1)选择一个一定大小的熔融石英板；
[0031]2)在熔融石英板上溅射一层铬层，溅射铬层时，边溅射边进行旋转涂抹，使熔融石英板上形成一定厚度的铬层；
[0032]3)在铬层上旋涂一层电子束光刻胶；
[0033]4)通过电子束对步骤3)上的熔融石英板进行照射，使熔融石英板上形成多个横向
或横向排列的竖条；
[0034]5)通过曝光、显影后利用干法刻蚀去掉铬薄层；
[0035]6)去除电子束光刻胶并在熔融石英板上粘保护膜；
[0036]C：通过光致变色装置照射制成光管理膜。
[0037]优选的，如图2所示，步骤C中光致变色装置包括激光器1、能量控制器2、光束形成装置3、遮光器4、掩膜台6以及光致变色膜传输装置8；激光器1发生的激光进行方向调整后通过能量控制器2进行能量控制后在经过光束形成装置3和遮光器4传输至掩膜台6，掩膜台6上设置掩膜板5，激光经过掩膜台6上面设置的掩膜板5和下面设置的物镜7后传输至光致变色膜传输装置8位置，并对光致变色膜基膜进行照射制成不可逆光致变色基质的光管理膜。
[0038]更优选的，所述光致变色膜传输装置8包括放卷机构8a和收卷机构8b，所述放卷机构8a和收卷机构8b之间设置若干传动辊8c，将步骤a或步骤b 中的成卷光致变色膜基膜设置在放卷机构8a上经过若干传动辊8c后与收卷机构8b连接，所述放卷机构8a和收卷机构8b之间的光致变色膜基膜经过物镜7位置。
[0039]如图2所示，光致变色装置工作过程及原理为：
[0040]激光器1发生的激光(紫外光)进行方向调整后通过能量控制器2进行能量控制后再经过光束形成装置3和遮光器4传输至掩膜台6，掩膜台6上设置掩膜板5，激光经过掩膜台6上面设置的掩膜本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种采用不可逆光致变色基质的光管理膜制备工艺，其特征在于包括如下步骤：A：光致变色膜基膜(9)制备；a：通过透明基质制成平整透明基膜(9a)，再往透明基膜(9a)上制成一层平整不可逆光致变涂层(9b)形成光致变色膜基膜(9)；或b：在透明基质中添加不可逆光致变涂料制成平整的光致变色膜基膜(9)；并将步骤a或步骤b中的光致变色膜基膜绕制成卷状；B：制成掩膜板(5)；C：通过光致变色装置照射制成光管理膜。2.根据权利要求1所述的一种采用不可逆光致变色基质的光管理膜制备工艺，其特征在于：步骤C中光致变色装置包括激光器(1)、能量控制器(2)、光束形成装置(3)、遮光器(4)、掩膜台(6)以及光致变色膜传输装置(8)；激光器(1)发生的激光进行方向调整后通过能量控制器(2)进行能量控制后再经过光束形成装置(3)和遮光器(4)传输至掩膜台(6)，掩膜台(6)上设置掩膜板(5)，激光经过掩膜台(6)上面设置的掩膜板(5)和下面设置的物镜(7)后传输至光致变色膜传输装置(8)位置，并对光致变色膜基膜进行照射制成不可逆光致变色基质的光管理膜。3.根据权利要求2所述的一种采用不可逆光致变色基质的光管理膜制备工艺，其特征在于：所述光致变色膜传输装置(8)包括放...

【专利技术属性】
技术研发人员：王祖超，
申请(专利权)人：苏州莱科光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：