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本发明涉及的一种曝光式光管理膜制备工艺，其特征在于包括如下步骤：A、准备基材；B、在基材涂布一层乳剂涂层；C、通过定向光照射曝光的方式照射步骤B中乳剂涂层使其感光，为若干均匀纵向间隔或/和若干均匀横向间隔，两相邻纵向间隔和两相邻横向间隔之间...
该专利属于苏州莱科光学科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州莱科光学科技有限公司授权不得商用。

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