镀膜设备制造技术

本发明专利技术公开了一种镀膜设备，镀膜设备包括定位部、供给单元以及驱动部。定位部用于定位样品，供给单元用于对样品供给气体，驱动部用于驱动定位部和/或供给单元运动。供给单元包括第一气体单元、第二气体单元以及隔板，隔板设于第一气体单元与第二气体单元之间，以便对第一气体单元喷出的气体与第二气体单元喷出的气体起到物理隔离作用，有效提高了样品的镀膜质量。隔板设有排气通道，排气通道的设置能够使第一气体单元和/或第二气体单元供给的气体及时排出，避免气体长时间停留于镀膜设备内，造成多种气体混合而使得样品受到气体污染，因此本方案提高了镀膜设备的镀膜质量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及原子层沉积，特别涉及一种镀膜设备。

技术介绍

1、现有技术中，原子层沉积技术传统设计为时间型单片式ald设备：样品台上只承载一个样品，第一反应物和第二反应物按照上述顺序进入样品所在的反应空间中进行沉积(1个循环大约3-20s)。另一种设备为时间型炉式ald设备：样品架可以是立式或者卧式，其承载样品数大约为25-150片，样品架置于反应腔室里(该反应腔比单片式要大得多的腔室)，第一反应物和第二反应物按照上述顺序进入样品所在的反应空间中进行沉积。由于反应腔室很大，在第一反应物和第二反应物之间，需要充足的时间冲洗完全，所以完成一个循环的时间要比单片式长(60s-360s)，但由于每次样片装载量比单片式要多，所以提高了生产效率。现有技术中，还存在一种采用惰性气体分隔第一反应物和第二反应物，使反应室内同时具有第一反应物与第二反应物的设备，该设备能够省去第一反应物与样品反应后进行样品冲洗的时间，有效提高了原子层沉积效率。但由于反应室内同时具有第一反应物与第二反应物，即使具有惰性气体对其进行分隔，也容易导致第一反应物与第二反应物掺杂在一起，不利于提高产品的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种镀膜设备，用于给样品进行镀膜，其特征在于，所述镀膜设备包括：

2.如权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，

3.如权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，

4.如权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，

5.如权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，

6.如权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，

7.如权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，

8.如权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，

9.如权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，

10.如权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，<...

【技术特征摘要】

1.一种镀膜设备，用于给样品进行镀膜，其特征在于，所述镀膜设备包括：

2.如权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，

3.如权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，

4.如权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，

5.如权利要求3所述的镀膜设备，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，请求不公布姓名，请求不公布姓名，请求不公布姓名，
申请(专利权)人：深圳市原速科技有限公司，
类型：发明
国别省市：