【技术实现步骤摘要】
:本专利技术涉及电磁屏蔽材料,具体涉及一种银纳米颗粒/多孔石墨烯电磁屏蔽材料及其制备与应用。
技术介绍
0、
技术介绍
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1、电磁辐射污染是世界三大污染源之一,其不仅会导致电子设备故障、机密信息的泄露,甚至还会威胁人类的健康。因此,消除电磁干扰和污染具有极其重要的意义。随着移动通信技术的发展进入到第五代(5g),通信行业发生了新一轮变革,同时也衍生出了各种创新技术。5g通信与前几代通信技术的主要区别在于工作频率,5g频谱主要分为两个区域:fr1,也称为sub-6ghz的频率范围;fr2,也称为毫米波频率范围。虽然更高频率的通信使得网络速率增快,但伴随而来的还有更为严峻的电磁干扰和污染问题。因此,如何设计和研发新的emi屏蔽材料来避免5g天线所产生的电磁信号干扰到其它敏感电子系统,进而推动5g技术与其它新技术的共存,这仍是一大挑战。
2、金属由于其高导电性被广泛用作emi屏蔽材料,但其存在密度高、耐腐蚀性差和可加工性受限等缺点。因此,近年来,为满足小型化和可穿戴设备的要求,一系列新的emi屏蔽材料得到了广泛的研究,并
...【技术保护点】
1.一种银纳米颗粒/多孔石墨烯复合材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述聚合物薄膜为仅由聚合物制成的薄膜,或为由聚合物与含碳物质制成的薄膜;
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述首次激光照射为虚焦激光照射,虚焦时焦平面高于聚合物薄膜表面的距离为0.5~3mm;其激光参数为:激光功率4~10W、扫描速度100~600mm/s、空跳速度100~1000mm/s、Q频1~10KHz、扫描线间距0.06~0.12mm、激光光斑大小60~100μm。
4.根据权利要求1~3
...【技术特征摘要】
1.一种银纳米颗粒/多孔石墨烯复合材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述聚合物薄膜为仅由聚合物制成的薄膜,或为由聚合物与含碳物质制成的薄膜;
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述首次激光照射为虚焦激光照射,虚焦时焦平面高于聚合物薄膜表面的距离为0.5~3mm;其激光参数为:激光功率4~10w、扫描速度100~600mm/s、空跳速度100~1000mm/s、q频1~10khz、扫描线间距0.06~0.12mm、激光光斑大小60~100μm。
4.根据权利要求1~3任意一项所述的制备方法,其特征在于:所述多孔石墨烯膜中石墨烯的孔径为0.1nm~20μm。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述银盐为硝酸银、硫酸银、...
【专利技术属性】
技术研发人员:李年,王振洋,宋彦平,张淑东,刘翠,
申请(专利权)人:安徽格兰科新材料技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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