【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体设备，特别涉及一种晶圆检测系统。
技术介绍
1、在现有技术中，晶圆检测设备包括光学膜厚检测，晶圆表面分析，晶圆缺陷检测等功能的设备。有些设备是只是具有单一功能，有些设备集合多种功能。
2、其中，晶圆检测膜厚的主要原理是采用光谱仪读取类太阳光谱的能量值来分析镀膜厚度。在实际应用中，用作晶圆检测膜厚系统中的类太阳光谱的能量一般都很高；为了保护设备和晶圆，在不需要光谱仪分析能量的时候，希望类太阳光束不要长时间照射在晶圆上。另外，在晶圆检测设备对晶圆表面进行缺陷分析或者其它需要图案采集功能时，也不需要光源的光束照射在晶圆。
3、所以这类设备中，需要有切换机构能够切换光源照射的状态。
4、目前市场中的晶圆检测系统中，大都采用的气缸或伺服电机带动光源切换机构运转，以切换晶圆检测膜厚模块中光束照射在晶圆上的状态。
5、而在一般情况下，气缸工作频率是2次/秒，寿命则为200万次。若用作光源切换机构的驱动装置，其响应速度不够快，寿命也比较短。并且若缸径选小了，输出力不够，气缸不能正常工作；缸径过大，必然占用空间大、成本高，同时耗气量较大，造成能源消耗较大。另外，当气缸在工作位移中，若遇到阻力大于气压压力时缸则停止动作，难以保证工作到位。
6、而若采用电机作为光源切换机构的驱动装置的话，由于电机的工作角度是不固定，会绕着360度一直进行圆周旋转。需要一套非常精密复杂的控制系统和驱动系统，才能使得电机在一定角度范围内稳定且精准的往复旋转。这样使得若采用电机作为光源切换机构的驱
技术实现思路
1、本技术的目的是提供一种晶圆检测系统，能够快速，稳定且精准的控制切换光源的光照射到检测晶圆上的状态。
2、为了解决上述技术问题，本技术提出了一种晶圆检测系统，包括：
3、光源，光纤传输装置，光源控制开关；
4、所述光源通过光纤传输装置传递光给待检测晶圆；
5、所述光源控制开关包括电磁单元和挡片，
6、在所述晶圆检测系统需要避免所述光源的光传输至所述待测晶圆时，
7、所述电磁单元适于带动所述挡片挡住所述光源的光。
8、优选地，所述电磁单元还包括控制单元，所述控制单元适于：
9、在所述第一分析模块工作时候，让所述电磁单元带动所述挡片弹开，以让所述光纤传输装置传递所述光源的光束给所述待检测晶圆；
10、在所述第二分析模块工作的时候，让所述电磁单元带动所述挡片关闭，以挡住所述光纤传输装置。
11、优选地，所述电磁单元包括：
12、旋转电磁铁和角度限位组件，
13、所述挡片与所述旋转电磁铁的转子相连，以使得所述旋转电磁铁能够带动所述挡片进行转动，所述角度限位组件适于限定所述旋转电磁铁的转子在设定角度范围内转动。
14、优选地，包括：
15、位置感应组件，设置于所述挡片的上下两侧或者左右两侧的限位位置，以检测所述挡片移动路径的位置信息，并将所述挡片的位置信息反馈至所述电磁控制单元；
16、所述控制单元根据所述挡片的位置信息判断所述光源控制开关的开关状态。
17、优选地，包括：所述控制单元适于根据所述第一分析模块或第二分析模块的工作指令，和所述挡片的位置信息判断提供给所述旋转电磁铁的电流大小和方向。
18、优选地，所述旋转电磁铁包括外壳，所述外壳内部设置所述旋转电磁铁的动子和定子；
19、所述角度限位组件包括：顶套，弧形开窗和转轴，所述顶套套设于所述外壳的一端，所述弧形开窗设置于所述顶套的顶面，所述转轴与所述动子连接，并于所述弧形开窗中转动。
20、优选地，所述弧形开窗的角度为：30°、60°、90°或100°。
21、优选地，所述弧形开窗的角度根据所述挡片的尺寸选择。
22、优选地，所述位置感应组件包括两个相对设置的槽型光电感应器，分别对应所述挡片的上下或者左右两侧的限位位置；
23、所述槽型光电感应器包括一个开口槽，所述开口槽位于所述挡片的转动方向上，并适于容纳所述挡片的部分或者全部；
24、所述开口槽的一侧壁设置有光电感应器，另一侧与所述光电感应器对应的位置设置有发光器件，所述控制单元根据所述光电感应器能否接收到所述发光器件的光来判断所述挡片是否位于所述开口槽中。
25、优选地，所述两个相对设置的位置感应组件的光电感应器均接收到所述发光器件的光，所述控制单元发送报警指令。
26、优选地，所述挡片两侧设置有凸起部，所述凸起部位于对应侧的所述开口槽中，以挡住所述发光器件的光。
27、优选地，所述挡片为吸光挡片。
28、优选地，所述第一分析模块为光谱仪分析模块。
29、优选地，所述第二分析模块为测暗噪声分析模块或者图案采集系统模块。
30、优选地，所述光纤传输装置包括：
31、聚光透镜组、光纤组件和光纤固定座；
32、所述聚光透镜组适于将光源的光汇聚成小光斑，传输至所述光纤组件；
33、所述光纤组件包括多花卡槽调节结构，所述多花卡槽调节结构与所述光纤固定座螺纹连接。
34、相对于现有技术，本技术中晶圆检测系统具有以下有益效果：
35、本技术的技术方案中所提供的实施例中，所述晶圆检测系统在需要切换光源的光进入或者不进入检测区域的时候，采用包括电磁单元的光源控制开关响应速度快，控制准确，可以有效控制光源的开关，并且整体结构简单，占用空间小，成本低，寿命长。
36、进一步的，本实施例的技术方案所提供的实施例中，所述晶圆检测系统的光源控制开关中，对所述电磁单元的转动角度采用角度限位组件进行硬限位，这样采用简单的结构就能够精准的控制所述电磁单元中挡片的转动角度，控制简单，成本低。
37、进一步的，本实施例的技术方案所提供的实施例中，所述晶圆检测系统的光源控制开关中，通过设置多个位置感应组件以检测所述挡片移动路径的位置信息，能够确保系统对当前光源的光束的准确控制，确保不同状态下检测的顺利进行，避免对检测的干扰。
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1.一种晶圆检测系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的晶圆检测系统，其特征在于，所述电磁单元还包括控制单元、第一分析模块和第二分析模块，所述控制单元适于：
3.根据权利要求1所述的晶圆检测系统，其特征在于，所述电磁单元包括：
4.根据权利要求2所述的晶圆检测系统，其特征在于，包括：
5.根据权利要求4所述的晶圆检测系统，其特征在于，包括：所述控制单元适于根据所述第一分析模块或第二分析模块的工作指令，和所述挡片的位置信息判断提供给所述电磁单元的电流大小和方向。
6.根据权利要求3所述的晶圆检测系统，其特征在于，
7.根据权利要求6所述的晶圆检测系统，其特征在于，所述弧形开窗的角度为：30°、60°、90°或100°。
8.根据权利要求6所述的晶圆检测系统，其特征在于，所述弧形开窗的角度根据所述挡片的尺寸选择。
9.根据权利要求4所述的晶圆检测系统，其特征在于，所述位置感应组件包括两个相对设置的槽型光电感应器，分别对应所述挡片的上下或者左右两侧的限位位置；
10.根
11.根据权利要求9所述的晶圆检测系统，其特征在于，所述挡片两侧设置有凸起部，所述凸起部位于对应侧的所述开口槽中，以挡住所述发光器件的光。
12.根据权利要求1所述的晶圆检测系统，其特征在于，所述挡片为吸光挡片。
13.根据权利要求2所述的晶圆检测系统，其特征在于，所述第一分析模块为光谱仪分析模块。
14.根据权利要求2所述的晶圆检测系统，其特征在于，所述第二分析模块为测暗噪声分析模块或者图案采集系统模块。
15.根据权利要求1所述的晶圆检测系统，其特征在于，所述光纤传输装置包括：
...【技术特征摘要】
1.一种晶圆检测系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的晶圆检测系统，其特征在于，所述电磁单元还包括控制单元、第一分析模块和第二分析模块，所述控制单元适于：
3.根据权利要求1所述的晶圆检测系统，其特征在于，所述电磁单元包括：
4.根据权利要求2所述的晶圆检测系统，其特征在于，包括：
5.根据权利要求4所述的晶圆检测系统，其特征在于，包括：所述控制单元适于根据所述第一分析模块或第二分析模块的工作指令，和所述挡片的位置信息判断提供给所述电磁单元的电流大小和方向。
6.根据权利要求3所述的晶圆检测系统，其特征在于，
7.根据权利要求6所述的晶圆检测系统，其特征在于，所述弧形开窗的角度为：30°、60°、90°或100°。
8.根据权利要求6所述的晶圆检测系统，其特征在于，所述弧形开窗的角度根据所述挡片的尺寸选择。
9.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员：李巧英，张海，
申请(专利权)人：匠岭科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：
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