本技术公开了一种真空镀膜装置，属于真空镀膜技术领域，其包括镀膜装置本体，所述镀膜装置本体内壁的底部沿其周向的等距装配有支撑丝杆，所述镀膜装置本体的内部沿其周向等距装配有升降部件，所述升降部件的边缘处卡接有置物架，所述升降部件包括套装在支撑丝杆外壁顶端的螺母座，所述螺母座的两侧均对称铰接有两个连接臂，所述连接臂的底端铰接有剪式伸缩架。本技术能够通过传动部件和升降部件的配合使用，在工件镀膜过程中和其之后，实现传动部件带动升降部件进行往复升降运动，增加工件的水平表面与正空离子的接触概率，达到提高工件的整体镀膜均匀性，使用者能够通过升降部件来调节置物架的高度，便于使用者放取工件。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空镀膜，具体为一种真空镀膜装置。
技术介绍
1、真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，mbe分子束外延，pld激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
2、现有专利（cn216614834u）公开了一种真空镀膜腔室及真空镀膜设备，该装置在使用过程中，能够使得柱杆通过料架带动工件进行旋转镀膜加工，极大的提升了工件镀膜的均匀性和加工效率，提升柱杆插接固定后的稳定性，而承接盘通过弹簧对柱杆进行顶持，进而方便柱杆进行拆卸安装。在上述现有技术中，该装置在镀膜时，其仅能够带动工件在水平方向转动，而难以增加工件的水平表面与真空离子的接触概率，导致镀膜均匀性和效率均相对较差。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供真空镀膜装置，以解决上述
技术介绍
中提出的而难以增加工件的水平表面与真空离子的接触概率，导致镀膜均匀性和效率均相对较差的问题。
2、为实现上述技术目的，本技术采用如下技术方案：
>3、本技术提供的一本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种真空镀膜装置，包括镀膜装置本体（1），所述镀膜装置本体（1）内壁的底部沿其周向的等距装配有支撑丝杆（4），其特征在于，所述镀膜装置本体（1）的内部沿其周向等距装配有升降部件（5），所述升降部件（5）的边缘处卡接有置物架（6）；
2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述支撑座（504）顶部的两端均沿其宽度方向开设有限位槽（508），所述限位槽（508）的内部形状和大小与置物架（6）外壁两侧的形状和大小相配合。
3.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述剪式伸缩架（503）处于条形槽（509）的正上方，且每两个剪式伸缩架（503）与四...
【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜装置，包括镀膜装置本体（1），所述镀膜装置本体（1）内壁的底部沿其周向的等距装配有支撑丝杆（4），其特征在于，所述镀膜装置本体（1）的内部沿其周向等距装配有升降部件（5），所述升降部件（5）的边缘处卡接有置物架（6）；
2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述支撑座（504）顶部的两端均沿其宽度方向开设有限位槽（508），所述限位槽（508）的内部形状和大小与置物架（6）外壁两侧的形状和大小相配合。
3.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述剪式伸缩架（503）处于条形槽（509）的正上方，且每两个剪式伸缩架（503）与四个条形槽（509）为一组。
4.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述拉簧（506）的两端分别与导向槽（505）内壁的一侧和连接杆（507）外壁的中间处固定连接，且拉簧（506）的轴线与连接杆（507）的轴线垂直。
5.根...
【专利技术属性】
技术研发人员：丁梦希，
申请(专利权)人：东莞市德隆保纳米科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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