System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种高灵敏度的微环传感芯片及其制备方法技术_技高网

一种高灵敏度的微环传感芯片及其制备方法技术

技术编号:40369626 阅读:6 留言:0更新日期:2024-02-20 22:14
本发明专利技术涉及一种高灵敏度的微环传感芯片,包括:硅衬底,所述硅衬底外延生长二氧化硅层作为波导的下包层,所述下包层设有一去除区域,在下包层的基础上再次外延的波导层,在波导层制备有用于光输入以及输出接口的光栅耦合器、微环谐振腔以及氮化硅直波导。本发明专利技术通过下包层的局部去除,制备了上下悬空的TM偏振态微环谐振腔,实现了光波与待测物充分接触,提高了灵敏度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及生物传感检测,具体涉及一种基于温控的级联双环谐振腔传感器的控制方法。


技术介绍

1、光学传感器是基于光信号的变化来进行检测的器件,具有无标记、非接触性和高灵敏度等优点,被广泛应用于医疗诊断、食品检测和环境检测等领域,其中,微环传感器是一种基于波导倏逝波传感的器件,能量高度集中于波导与空气界面附近,光信号对器件表面折射率的扰动特别敏感,可以实现对表面吸附物微小变化的检测,硅基衬底的微环传感器以其集成度高、尺寸小、与微电子工艺相兼容、样品量少、灵敏度高、抗干扰能力强、可实现对检测物实时定量检测等优势,显现出巨大的商业价值。

2、现有技术方案:专利申请号:cn101706424b、cn107727611b微环传感器的灵敏度主要由其波导结构决定,由于通常微环下方是低折射率介质(如二氧化硅)构成的下包层,只有微环上方可以与被测物质接触,其传感灵敏度有限。通常需要采用复杂的设计来提高微环传感其的灵敏度。

3、在cn101706424b中,采用了级联微环的形势,借助游标效应,放大了谐振峰随着环境折射率变化而导致的位移量,提高了整个传感芯片的灵敏度。在cn107727611b中,通过在波导中制作一维光子晶体,增强了波导中光波与周围环境的相互作用,提高了传感灵敏度。

4、但是,以上方案都需要增加芯片的复杂度:cn101706424b中增加了微环谐振腔的数量,还需要精确设计两个微环的半径差;cn107727611b中加入了一维光子晶体,需要高精度的微纳加工工艺。这些因素都导致了成本的提高、可靠性的下降。


技术实现思路

1、要解决的技术问题

2、本专利技术基于硅光技术,在硅衬底上外延生长二氧化硅层作为波导的下包层,再外延氮化硅层作为波导层。在波导层制作微环谐振器作为核心传感器件,制作偏振敏感的光栅耦合器,将tm偏振态的光波耦合进入波导。

3、采用湿法刻蚀技术,去除掉微环谐振腔下方的二氧化硅下包层,提高微环波导中光波与波导周围物质的相互作用,进而提高传感灵敏度。

4、技术方案

5、为了实现本专利技术的目的,本专利技术所采用的技术方案为:一种高灵敏度的微环传感芯片,包括:硅衬底,所述硅衬底外延生长二氧化硅层作为波导的下包层,所述下包层设有一去除区域,在下包层的基础上再次外延的波导层,在波导层制备有用于光输入以及输出接口的光栅耦合器、微环谐振腔以及氮化硅直波导。

6、优选的,波导层采用氮化硅层。

7、优选的,光栅耦合器都是tm偏振态光栅耦合器。

8、优选的,微环谐振腔是支持tm偏振态的微环谐振腔,所述微环谐振腔由非对称波导构成。

9、优选的,一种用于高灵敏度的微环传感芯片的制备方法,包括:

10、准备一个硅晶圆;

11、在所述的硅晶圆上通过外延生长工艺制备二氧化硅层;

12、在所述的二氧化硅层上通过外延生长工艺制备氮化硅层;

13、通过光刻工艺,在氮化硅层表面制备光栅耦合器、直波导、微环谐振腔,刻蚀深度小于氮化硅层厚度;

14、通过光刻工艺,将微环谐振腔内环处剩余的氮化硅去除,露出下层的二氧化硅层;

15、通过湿法刻蚀工艺,选择性的去除掉微环谐振腔下方的二氧化硅,完成下包层局部去除,芯片制作完成。

16、优选的,微环谐振腔的波导截面是非对称结构,其一侧未将氮化硅层全刻蚀掉,留了一层较薄的氮化硅平板,另一侧则全部刻蚀到露出下包层。

17、与现有技术相比,本专利技术的有益效果是:

18、1.本专利技术通过下包层的局部去除,制备了上下悬空的tm偏振态微环谐振腔,实现了光波与待测物充分接触,提高了灵敏度。

19、2.tm偏振态的光波,相比于te偏振态,其有效折射率更容易受到波导上下方折射率影响而改变。

20、3.微环谐振腔的波导截面是非对称结构,其一侧未将氮化硅全刻蚀掉,留了一层较薄的氮化硅平板,另一侧则全部刻蚀到露出下包层,因此留下一侧的氮化硅平板是为了给微环谐振腔提供机械支撑。

21、4.采用湿法刻蚀工艺,对微环谐振腔下方的二氧化硅做了局部去除,去除下方的二氧化硅,可以让波导上下两面都与待测物溶液接触,提高灵敏度。

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【技术保护点】

1.一种高灵敏度的微环传感芯片,其特征在于,包括:硅衬底,所述硅衬底外延生长二氧化硅层作为波导的下包层,所述下包层设有一去除区域,在下包层的基础上再次外延的波导层,在波导层制备有用于光输入以及输出接口的光栅耦合器、微环谐振腔以及氮化硅直波导。

2.根据权利要求1所述的高灵敏度的微环传感芯片,其特征在于,所述波导层采用氮化硅层。

3.根据权利要求1所述的高灵敏度的微环传感芯片,其特征在于,所述光栅耦合器都是TM偏振态光栅耦合器。

4.根据权利要求1所述的高灵敏度的微环传感芯片,其特征在于,所述微环谐振腔是支持TM偏振态的微环谐振腔,所述微环谐振腔由非对称波导构成。

5.一种用于权利要求1至4任一一项所述高灵敏度的微环传感芯片的制备方法,其特征在于,包括:

6.根据权利要求5所述的高灵敏度的微环传感芯片的制备方法,其特征在于,所述微环谐振腔的波导截面是非对称结构,其一侧未将氮化硅层全刻蚀掉,留了一层较薄的氮化硅平板,另一侧则全部刻蚀到露出下包层。

【技术特征摘要】

1.一种高灵敏度的微环传感芯片,其特征在于,包括:硅衬底,所述硅衬底外延生长二氧化硅层作为波导的下包层,所述下包层设有一去除区域,在下包层的基础上再次外延的波导层,在波导层制备有用于光输入以及输出接口的光栅耦合器、微环谐振腔以及氮化硅直波导。

2.根据权利要求1所述的高灵敏度的微环传感芯片,其特征在于,所述波导层采用氮化硅层。

3.根据权利要求1所述的高灵敏度的微环传感芯片,其特征在于,所述光栅耦合器都是tm偏振态光栅耦合器。

【专利技术属性】
技术研发人员:张赞马鑫苏国帅
申请(专利权)人:苏州微光电子融合技术研究院有限公司
类型:发明
国别省市:

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