【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光伏生产设备，具体涉及一种具有杆结构的处理设备。
技术介绍
1、在太阳能光伏电池pn结扩散掺杂设备—处理设备和半导体制造业中对硅晶圆片进行热生长氧化的高温氧化处理设备中，桨杆是设备中晶圆装载系统的关键部件，可以保证晶圆与炉管的同心度，进而使扩散、氧化更均匀。
2、现有技术中，桨杆一般为碳化硅桨杆，其由反应烧结工艺制成，成分包括大部分碳化硅、少量的游离硅以及微量杂质，碳化硅桨杆具有高强度、高纯度、高导热、无气孔、耐酸碱腐蚀、高温下无污染、不变形及良好的抗热震稳定性、载重量大等特点，避免了与炉管的直接接触，延长了炉管的使用寿命，解决了其它材质桨杆易断裂，载重量小，成本高的问题。
3、但是，在高温扩散工艺过程中，微量杂质会由桨杆的内外表面扩散出来，工艺气体与扩散出来的微量杂质产生反应，微量杂质及其反应生成物会到达基片，造成基片工艺均匀性及效率等质量指标下降。
技术实现思路
1、因此，本技术所要解决的技术问题在于克服高温扩散环境下碳化硅桨杆上的微量杂质与工艺气体产生反应后到达基片，造成基片工艺均匀性及效率等质量指标下降的缺陷。
2、为此，本技术提供一种具有杆结构的处理设备，包括：
3、炉体结构，所述炉体结构具有处理腔；
4、连通件，所述连通件的两端分别与工艺气体源和所述处理腔连接，以向所述处理腔内注入工艺气体；
5、至少一个杆结构和基片，所述杆结构和所述基片相互连接，所述基片设置在所述处理腔内，所述杆结构与所
6、可选地，上述的具有杆结构的处理设备，还包括开关件，所述开关件安装在所述连通部上，所述开关件用于控制外界惰性气体源和所述流通空腔之间的通断。
7、可选地，上述的具有杆结构的处理设备，还包括第一密封件，所述第一密封件设置在所述杆结构和所述开关件之间，所述第一密封件适于密封所述杆结构和所述开关件之间的空隙。
8、可选地，上述的具有杆结构的处理设备，所述杆结构还包括致密薄膜，所述致密薄膜设置在所述杆结构的表面，所述致密薄膜用于阻隔工艺气体与所述杆结构的表面接触，所述致密薄膜的材料为不与处理气体相互作用的材料；
9、其中，所述致密薄膜的材料为al2o3或sic。
10、可选地，上述的具有杆结构的处理设备，所述炉体结构上开设有连接部，所述连接部适于连通外界与所述处理腔；
11、还包括密封结构，所述密封结构包括第二密封件和连接件，所述第二密封件的两端分别与所述连接部和所述连接件连接，所述杆结构适于穿过所述连接部和所述第二密封件与所述连接件连接。
12、可选地，上述的具有杆结构的处理设备，所述杆结构还包括承载段和夹持段，所述承载段和所述夹持段间隔设置在所述杆结构上，所述承载段和所述夹持段均具有所述流通空腔，所述承载段设置在所述处理腔内、且适于与所述基片连接，所述夹持段设置在所述处理腔外、且适于与外界夹持装置连接，以在外界夹持装置的作用下移动所述处理设备。
13、可选地，上述的具有杆结构的处理设备，所述杆结构还包括若干散热孔，任一所述散热孔开设在所述承载段上，任一所述散热孔与所述流通空腔相互连通。
14、可选地，上述的具有杆结构的处理设备，所述杆结构还包括：
15、第一封堵件，所述第一封堵件设置在所述承载段远离所述夹持段的一端，所述第一封堵件适于封堵所述流通空腔；
16、第二封堵件，所述第二封堵件设置在所述夹持段远离所述承载段的一端，所述第二封堵件适于封堵所述流通空腔。
17、可选地，上述的具有杆结构的处理设备，所述连通部开设在所述夹持段上；
18、和/或，所述连通部开设在所述第二封堵件上。
19、可选地，上述的具有杆结构的处理设备，还包括排气件，所述排气件的两端分别与外界真空泵和所述处理腔连接，以将所述处理腔内的气体抽出至外界。
20、可选地，上述的具有杆结构的处理设备，所述炉体结构还包括检测件，所述检测件的检测端设置在所述处理腔内，以检测所述处理腔内的温度。
21、本技术提供的技术方案，具有如下优点：
22、1.本技术提供的具有杆结构的处理设备，包括炉体结构、连通件、至少一个杆结构和基片，炉体结构具有处理腔；连通件的两端分别与工艺气体源和处理腔连接，以向处理腔内注入工艺气体；杆结构和基片相互连接，基片设置在处理腔内、且用于参加反应，杆结构与基片连接的部分设置在处理腔内，杆结构具有流通空腔，至少部分流通空腔与基片相对应设置，杆结构设置在处理腔外的部分上开设有连通部，连通部与流通空腔连通，连通部适于与外界惰性气体源连接以向流通空腔内注入惰性气体。
23、此结构的处理设备，通过设置在炉体结构上的连通件、部分设置在炉体结构内的杆结构和设置在炉体结构内的基片，炉体结构具有一个处理腔，使得基片能够设置在处理腔内，并与注入到处理腔内的工艺气体进行反应，连通件的两端则分别与工艺气体源和处理腔连接，从而使得工艺气体能够通过连通件注入到处理腔内，杆结构与基片连接、且与基片连接的部分设置在处理腔内，其余部分则设置在处理腔外，同时，杆结构具有流通空腔，且部分流通空腔开设在杆结构与基片连接的部分，杆结构设置在处理腔外的部分上开设有连通部，连通部与流通空腔连通、且连通部与外界惰性气体源连接，从而使得惰性气体能够通过连通部注入到流通空腔内，从而增大流通空腔内的气压，并使流通空腔内的气压大于处理腔内的气压，进而使得工艺气体无法进入到流通空腔内与杆结构的内表面发生反应，避免了工艺气体与杆结构的内表面发生反应产生的微量杂质扩散到基片上，从而降低基片的工艺均匀性和反应效率。
24、2.本技术提供的具有杆结构的处理设备，还包括开关件，开关件安装在连通部上，开关件用于控制外界惰性气体源和流通空腔之间的通断。第一密封件设置在杆结构和开关件之间，第一密封件适于密封杆结构和开关件之间的空隙。杆结构还包括致密薄膜，致密薄膜设置在杆结构的外表面，致密薄膜用于阻隔工艺气体与杆结构的外表面接触，致密薄膜的材料为不与处理气体相互作用的材料；其中，致密薄膜的材料为al2o3或sic。
25、此结构的处理设备，通过设置在连通部上的开关件，开关件在本实施列中为密封接头，密封接头能够控制外界惰性气体源和流通空腔的连通状态，从而在处理设备工作时，将惰性气体注入到流通空腔内，在处理设备闲置时，断开惰性气体源与连通空腔的连通。通过设置在开关件和杆结构之间的第一密封件，第一密封件在本实施列中为密封圈，密封圈能够将开关件与杆结构之间的空隙进行密封，避免惰性气体发生泄漏，造成浪费和污染。通过设置在杆结构外表面上的致密薄本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种具有杆结构的处理设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的具有杆结构的处理设备，其特征在于，至少部分所述流通空腔与所述基片(2)相对应设置。
3.根据权利要求2所述的具有杆结构的处理设备，其特征在于，还包括开关件(5)，所述开关件(5)安装在所述连通部(41)上，所述开关件(5)用于控制外界惰性气体源和所述流通空腔之间的通断。
4.根据权利要求3所述的具有杆结构的处理设备，其特征在于，还包括第一密封件(6)，所述第一密封件(6)设置在所述杆结构(4)和所述开关件(5)之间，所述第一密封件(6)适于密封所述杆结构(4)和所述开关件(5)之间的空隙。
5.根据权利要求1所述的具有杆结构的处理设备，其特征在于，所述杆结构(4)还包括致密薄膜(42)，所述致密薄膜(42)设置在所述杆结构(4)的表面，所述致密薄膜(42)用于阻隔气体与所述杆结构(4)的表面接触,所述致密薄膜的材料为不与处理气体相互作用的材料。
6.根据权利要求5所述的具有杆结构的处理设备，其特征在于，其中，所述致密薄膜(42)的材料为Al2O3或
7.根据权利要求4或5所述的具有杆结构的处理设备，其特征在于，所述炉体结构(1)上开设有连接部，所述连接部适于连通外界与所述处理腔(11)；
8.根据权利要求1-6中任一项所述的具有杆结构的处理设备，其特征在于，所述杆结构(4)还包括承载段(43)和夹持段(44)，所述承载段(43)和所述夹持段(44)间隔设置在所述杆结构(4)上，所述承载段(43)和所述夹持段(44)均具有所述流通空腔，所述承载段(43)设置在所述处理腔内、且适于与所述基片(2)连接，所述夹持段(44)设置在所述处理腔外、且适于与外界夹持装置连接，以在外界夹持装置的作用下移动所述处理设备。
9.根据权利要求8所述的具有杆结构的处理设备，其特征在于，所述杆结构(4)还包括若干散热孔(45)，任一所述散热孔(45)开设在所述承载段(43)上，任一所述散热孔(45)与所述流通空腔相互连通。
10.根据权利要求9所述的具有杆结构的处理设备，其特征在于，所述杆结构(4)还包括：
11.根据权利要求10所述的具有杆结构的处理设备，其特征在于，
12.根据权利要求11所述的具有杆结构的处理设备，其特征在于，还包括排气件(7)，所述排气件(7)的两端分别与外界真空泵和所述处理腔(11)连接，以将所述处理腔(11)内的气体抽出。
13.根据权利要求12所述的具有杆结构的处理设备，其特征在于，所述炉体结构(1)还包括检测件(12)，所述检测件(12)的检测端设置在所述处理腔(11)内，以检测所述处理腔(11)内的温度。
...【技术特征摘要】
1.一种具有杆结构的处理设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的具有杆结构的处理设备，其特征在于，至少部分所述流通空腔与所述基片(2)相对应设置。
3.根据权利要求2所述的具有杆结构的处理设备，其特征在于，还包括开关件(5)，所述开关件(5)安装在所述连通部(41)上，所述开关件(5)用于控制外界惰性气体源和所述流通空腔之间的通断。
4.根据权利要求3所述的具有杆结构的处理设备，其特征在于，还包括第一密封件(6)，所述第一密封件(6)设置在所述杆结构(4)和所述开关件(5)之间，所述第一密封件(6)适于密封所述杆结构(4)和所述开关件(5)之间的空隙。
5.根据权利要求1所述的具有杆结构的处理设备，其特征在于，所述杆结构(4)还包括致密薄膜(42)，所述致密薄膜(42)设置在所述杆结构(4)的表面，所述致密薄膜(42)用于阻隔气体与所述杆结构(4)的表面接触,所述致密薄膜的材料为不与处理气体相互作用的材料。
6.根据权利要求5所述的具有杆结构的处理设备，其特征在于，其中，所述致密薄膜(42)的材料为al2o3或sic。
7.根据权利要求4或5所述的具有杆结构的处理设备，其特征在于，所述炉体结构(1)上开设有连接部，所述连接部适于连通外界与所述处理腔(11)；
8.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员：荒见淳一，毛文瑞，盛玉长，
申请(专利权)人：江苏微导纳米科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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