System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种具有凹凸效果的陶瓷岩板及制备方法技术_技高网

一种具有凹凸效果的陶瓷岩板及制备方法技术

技术编号:40356908 阅读:8 留言:0更新日期:2024-02-09 14:42
本发明专利技术公开了一种具有凹凸效果的陶瓷岩板及制备方法,属于陶瓷岩板技术领域,所述具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法包括:制备生坯,生坯上施底釉,预喷下陷墨水,喷亮光磨具釉,二次过喷墨机喷下陷墨水,进窑炉烧成缓慢降温并保温,最后缓慢降至室温。本发明专利技术含稀有金属无机材料功能墨水更加稳定,色系丰富,扩散梯度均匀、达到层次感更强更具立体感的效果;区别于采用“物理排开”的方式形成立体模具纹理,具有深刻凹凸纹理的陶瓷表面,其表面具有深层次的凹凸纹理,图案更清晰,硬度高,防污耐酸强。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于陶瓷岩板,涉及一种具有凹凸效果的陶瓷岩板及制备方法


技术介绍

1、当前,随着全球陶瓷行业进入飞速发展的大时代以及家装行业全屋定制的盛行,全国兴起岩板热潮,由此国内岩板形成百家争鸣的局势。目前模具面陶瓷岩板主要通过以下三种工艺实现:1、在平面坯体表面辊筒印刷凸釉,该装饰效果相对单一,模纹精细程度局限;2、喷墨打印雕刻墨水后施加保护釉,其虽然可以形成立体雕刻纹理,但会导致保护釉剥开,由此保护釉烧成温度相对高且高温黏度大的特点使得保护釉施加量高会导致透感和发色较差,保护釉施加量少会导致雕刻深度低;3、采用传统模具压制成型来制备模具面岩板,存在开模成本高、优等率低的缺陷并严重限制了该工艺在工业生产上的应用。因此避免以上劣势,进一步优化具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备工艺是当前陶瓷岩板行业亟待解决的问题。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种具有凹凸效果的陶瓷岩板及制备方法,采用制备生坯,生坯上施底釉,预喷下陷墨水,喷亮光磨具釉,二次过喷墨机喷下陷墨水,进窑炉烧成并保温缓慢降温的制备步骤,具体通过以下技术方案实现:

2、一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法,所述制备方法包括以下步骤:

3、m1:制备生坯,生坯上施底釉,所述底釉包括如下重量份原料:8~13份霞石、25~35份钠长石、5~10份高岭土、2~5份球土、5~10份煅烧氧化铝、10~15份石英、5~10份碳酸钡、15~25份钾长石、3份氧化锌、15~20份低温熔块;

4、m2:预喷墨:先设计花纹和颜色,过喷墨机喷下陷墨水;

5、m3:喷亮光磨具釉;

6、m4:二次过喷墨机喷下陷墨水;

7、m5:进窑炉烧成,缓慢降温至中温,保温,最后再缓慢降温至室温。

8、作为本专利技术的优选技术方案,所述底釉的制备包括如下步骤:按照底釉原料及其重量份数称取原料,搅拌混合均匀,并加入去离子水、三聚磷酸钠、羧甲基纤维素球磨6~10h,过筛,除铁制得底釉。

9、作为本专利技术的优选技术方案,所述底釉的制备步骤中的去离子水、三聚磷酸钠、羧甲基纤维素占所述底釉原料的重量百分比分别为35~45%、0.2~0.5%、0.1~0.3%。

10、作为本专利技术的优选技术方案,所述亮光磨具釉包括如下重量份的化学成分:8~12份氧化铝、45~55份氧化硅、9~15份氧化钙、2~6份氧化镁、5~7份氧化钡、1~3份氧化钠、4~6份氧化钾、0.2~1份氧化硼、6~8份氧化锌。

11、作为本专利技术的优选技术方案,所述低温熔块包含如下重量份的化学成分:

12、8~10份氧化铝、40~50份氧化硅、12~18份氧化钙、3~5份氧化镁、10~12份氧化钡、3~5份氧化钠、0.2~1份氧化硼。

13、作为本专利技术的优选技术方案,所述下陷墨水包含如下重量份的化学成分:

14、4~6份氧化铝、60~65份氧化硅、13~18份氧化钙、1~2份氧化镁、1~5份氧化钾、5~8份氧化锌、0.5~2份氧化钇、2~5份五氧化二钽。

15、作为本专利技术的优选技术方案,所述底釉和亮光磨具釉施釉工艺均为喷釉,所述底釉喷釉的工艺参数为:400~500g/m2,所述亮光磨具釉喷釉的工艺参数为:300~400g/m2。

16、作为本专利技术的优选技术方案,所述窑炉温度为1100~1140℃,烧成时间为30~60min,中温温度为500~600℃,保温时间为1~3h,缓慢降温速率为10~15℃/min。

17、一种具有凹凸效果的陶瓷岩板,所述具有凹凸效果的陶瓷岩板由上述制备方法制备得到。

18、本专利技术的有益效果:

19、本专利技术含稀有金属无机材料功能墨水更加稳定,色系丰富,扩散梯度均匀、达到层次感更强更具立体感的效果。

20、本专利技术的技术方案区别于采用“物理排开”的方式形成立体模具纹理,采用底釉和磨具釉穿插二次喷墨的技术方法,使釉料和墨水油水分离,有墨水的区域釉料被排开,形成具有深刻凹凸纹理的陶瓷表面,釉面不易剥开裂开,且图案更清晰,防污耐酸强;并采用保温缓慢降温步骤,提高了釉面的致密性,进一步保护釉面的稳定性。

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【技术保护点】

1.一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法,其特征在于,所述底釉的制备包括如下步骤:按照底釉原料及其重量份数称取原料,搅拌混合均匀,并加入去离子水、三聚磷酸钠、羧甲基纤维素球磨6~10h,过筛,除铁制得底釉。

3.根据权利要求2所述的一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法,其特征在于,所述底釉的制备步骤中的去离子水、三聚磷酸钠、羧甲基纤维素占所述底釉原料的重量百分比分别为35~45%、0.2~0.5%、0.1~0.3%。

4.根据权利要求1所述的一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法,其特征在于,所述亮光磨具釉包括如下重量份的化学成分:8~12份氧化铝、45~55份氧化硅、9~15份氧化钙、2~6份氧化镁、5~7份氧化钡、1~3份氧化钠、4~6份氧化钾、0.2~1份氧化硼、6~8份氧化锌。

5.根据权利要求1所述的一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法,其特征在于,所述低温熔块包含如下重量份的化学成分:

6.根据权利要求1所述的一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法,其特征在于,所述下陷墨水包含如下重量份的化学成分:

7.根据权利要求1所述的一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法,其特征在于,所述底釉和亮光磨具釉施釉工艺均为喷釉,所述底釉喷釉的工艺参数为:400~500g/m2,所述亮光磨具釉喷釉的工艺参数为:300~400g/m2。

8.根据权利要求1所述的一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法,其特征在于,所述窑炉温度为1100~1140℃,烧成时间为30~60min,中温温度为500~600℃,保温时间为1~3h,缓慢降温速率为10~15℃/min。

9.一种具有凹凸效果的陶瓷岩板,其特征在于,所述具有凹凸效果的陶瓷岩板由权利要求1~8任一项所述制备方法制备得到。

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【技术特征摘要】

1.一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法,其特征在于,所述底釉的制备包括如下步骤:按照底釉原料及其重量份数称取原料,搅拌混合均匀,并加入去离子水、三聚磷酸钠、羧甲基纤维素球磨6~10h,过筛,除铁制得底釉。

3.根据权利要求2所述的一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法,其特征在于,所述底釉的制备步骤中的去离子水、三聚磷酸钠、羧甲基纤维素占所述底釉原料的重量百分比分别为35~45%、0.2~0.5%、0.1~0.3%。

4.根据权利要求1所述的一种具有凹凸效果的陶瓷岩板的制备方法,其特征在于,所述亮光磨具釉包括如下重量份的化学成分:8~12份氧化铝、45~55份氧化硅、9~15份氧化钙、2~6份氧化镁、5~7份氧化钡、1~3份氧化钠、4~6份氧化钾、0.2~1份氧化硼、6~8份氧化锌。

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【专利技术属性】
技术研发人员:方贵喜潘镇明程壹敏李志远
申请(专利权)人:佛山市陶莹新型材料有限公司
类型:发明
国别省市:

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