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【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及布线基板。
技术介绍
1、近年来,随着布线基板所包含的绝缘层的低热膨胀系数化(低cte化)、布线导体的微细化等,布线导体的粘附性(镀覆粘附性)的降低成为问题。为了消除这样的问题,例如,在专利文献1和2中记载有在绝缘层的表面设置凹凸,利用凹凸所产生的锚定效果,使镀覆粘附性提高。
2、但是,若加大设于绝缘层表面的凹凸(使之粗糙),则难以形成微细布线导体。另一方面,若减小凹凸(使之平滑),则无法发挥充分的锚定效果,绝缘层与布线导体的粘附性不足。
3、现有技术文献
4、专利文献
5、专利文献1:日本特开平6-196856号公报
6、专利文献2:日本特开2000-323815号公报
技术实现思路
1、本专利技术的布线基板,包括绝缘层和位于绝缘层上的布线导体。布线导体包括:位于绝缘层上的含磷无电解镀铜层;位于含磷无电解镀铜层上的含镍无电解镀铜层;位于含镍无电解镀铜层上的电解镀铜层。
【技术保护点】
1.一种布线基板,其包括:
2.根据权利要求1所述的布线基板,其中,所述含磷无电解镀铜层和所述含镍无电解镀铜层的至少一部分,具有非晶质结构。
3.根据权利要求1或2所述的布线基板,其中,所述含磷无电解镀铜层,以0.5原子%以上且1原子%以下的比例含有磷。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的布线基板,其中,所述含镍无电解镀铜层,以0.5原子%以上且0.8原子%以下的比例含有镍。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的布线基板,其中,所述含镍无电解镀铜层,在该含镍无电解镀铜层的厚度方向上,两表层部的镍含量少于中央部的镍含量。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的布线基板,其中,所述绝缘层还包括贯通孔,在该贯通孔内具备所述布线导体。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种布线基板,其包括:
2.根据权利要求1所述的布线基板,其中,所述含磷无电解镀铜层和所述含镍无电解镀铜层的至少一部分,具有非晶质结构。
3.根据权利要求1或2所述的布线基板,其中,所述含磷无电解镀铜层,以0.5原子%以上且1原子%以下的比例含有磷。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的布线基板,其中,所述...
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