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布线基板制造技术

技术编号:40332979 阅读:12 留言:0更新日期:2024-02-09 14:24
本发明专利技术的布线基板,包括绝缘层和位于绝缘层上的布线导体。布线导体包括:位于绝缘层上的含磷无电解镀铜层;位于含磷无电解镀铜层上的含镍无电解镀铜层;位于含镍无电解镀铜层上的电解镀铜层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及布线基板


技术介绍

1、近年来,随着布线基板所包含的绝缘层的低热膨胀系数化(低cte化)、布线导体的微细化等,布线导体的粘附性(镀覆粘附性)的降低成为问题。为了消除这样的问题,例如,在专利文献1和2中记载有在绝缘层的表面设置凹凸,利用凹凸所产生的锚定效果,使镀覆粘附性提高。

2、但是,若加大设于绝缘层表面的凹凸(使之粗糙),则难以形成微细布线导体。另一方面,若减小凹凸(使之平滑),则无法发挥充分的锚定效果,绝缘层与布线导体的粘附性不足。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1:日本特开平6-196856号公报

6、专利文献2:日本特开2000-323815号公报


技术实现思路

1、本专利技术的布线基板,包括绝缘层和位于绝缘层上的布线导体。布线导体包括:位于绝缘层上的含磷无电解镀铜层;位于含磷无电解镀铜层上的含镍无电解镀铜层;位于含镍无电解镀铜层上的电解镀铜层。

【技术保护点】

1.一种布线基板,其包括:

2.根据权利要求1所述的布线基板,其中,所述含磷无电解镀铜层和所述含镍无电解镀铜层的至少一部分,具有非晶质结构。

3.根据权利要求1或2所述的布线基板,其中,所述含磷无电解镀铜层,以0.5原子%以上且1原子%以下的比例含有磷。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的布线基板,其中,所述含镍无电解镀铜层,以0.5原子%以上且0.8原子%以下的比例含有镍。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的布线基板,其中,所述含镍无电解镀铜层,在该含镍无电解镀铜层的厚度方向上,两表层部的镍含量少于中央部的镍含量。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的布线基板,其中,所述绝缘层还包括贯通孔,在该贯通孔内具备所述布线导体。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种布线基板,其包括:

2.根据权利要求1所述的布线基板,其中,所述含磷无电解镀铜层和所述含镍无电解镀铜层的至少一部分,具有非晶质结构。

3.根据权利要求1或2所述的布线基板,其中,所述含磷无电解镀铜层,以0.5原子%以上且1原子%以下的比例含有磷。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的布线基板,其中,所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:汤川英敏
申请(专利权)人:京瓷株式会社
类型:发明
国别省市:

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