真空镀膜设备及工艺制造技术

技术编号：40324973 阅读：6 留言：0更新日期：2024-02-09 14:19

本发明专利技术公开了真空镀膜设备及工艺，设置有镀膜机主机、水塔、冷却水联动系统、PLC控制系统及与PLC控制系统相连接的上位机监控系统，PLC控制系统连接冷却水联动系统和镀膜机主机，冷却水联动系统连接镀膜机主机，利用冷却水循环系统形成并常温水更冷的水体来对镀膜机主机进行水冷，并结合传感器技术，实时监测水温、水位状态，使得水冷效果更优，从而有效的提高产品良率，并且还结合远程控制技术，实现对多个系统或部件进行远程控制，从而能够使得操作员远离镀膜机主机亦可智能化的对真空镀膜设备进行控制，使得操作员具有更大的自由空间，同时可以使得一个操作员监控多个镀膜机主机，从而有效的节约人力成本。

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【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及真空镀膜设备，具体地说，是真空镀膜设备及工艺。

技术介绍

1、真空镀膜，指在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀三种形式。

2、现有的真空镀膜设备，如图1所示，包括镀膜机主机4、开关阀（为一种手动阀门）14、进水侧水泵10、水塔11、出水侧水泵7、真空控制系统、工艺气体配气系统、离子源、镀膜机温控系统，镀膜机主机4从外到内设置有外保护层2、水冷管道组3和镀膜腔（真空腔），在镀膜机主机4上设置有与水冷管道组3向连接的出水口6和进水口8；真空控制系统连接镀膜腔，操作控制镀膜腔形成工作所需真空状态；工艺气体配气系统连接镀膜机主机4为其提供所需工业气体，镀膜机温控系统设置在镀膜机主机4上，实现镀膜机主机4的温度控制。如图2所示为现有的真空镀膜设备的电气控制图，现有的真空镀膜设备在对离子源、镀膜机温控系统、真空控制系统、进水侧水泵10、出水侧水泵7、供水系统及工艺气体配气系统进行控制时，都是通过设置在镀膜机主机4上的控制平台进行控制，在生产过程中，操作员必须守在镀膜机主机4处，如此，将极大的限制了操作员的活动区域，也不方便智能化的控制；由于采用常温水进行水冷，将导致水冷效果差，且不能实时的监测出水水温，无法进行循环水水量的自动控制，从而使得在生产时，产品的不良率居高不下，造成产品实际成本偏高，为此需要一种更加智能的真空镀膜设备来降低产品的不良率。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于设计真空镀膜设备及工艺，所述真空镀膜机设备，利用冷却水循环系统形成并常温水更冷的水体来对镀膜机主机进行水冷，并结合传感器技术，实时监测水温、水位状态，使得水冷效果更优，从而有效的提高产品良率，并且还结合远程控制技术，实现对多个系统或部件进行远程控制，从而能够使得操作员远离镀膜机主机亦可智能化的对真空镀膜设备进行控制，使得操作员具有更大的自由空间，同时可以使得一个操作员监控多个镀膜机主机，从而有效的节约人力成本；所述真空镀膜工艺采用智能化的水冷控制工艺模式，使得水冷效果一直处于最佳区间，从而有效的提高产品镀膜成功率，降低不良率，达到降低产品实际成本的目的。

2、本专利技术通过下述技术方案实现：真空镀膜设备，设置有镀膜机主机、水塔、冷却水联动系统、plc控制系统及与plc控制系统相连接的上位机监控系统，所述plc控制系统连接冷却水联动系统和镀膜机主机，冷却水联动系统连接镀膜机主机；所述冷却水联动系统设置有温度传感器、出水侧水泵、流量控制阀及进水侧水泵及冷却水循环系统，所述镀膜机主机的出水口通过设置有出水侧水泵的水管连接在冷却水循环系统的进水侧，冷却水循环系统的出水侧通过水管连接在水塔的进水口上，水塔的出水口通过设置有进水侧水泵、流量控制阀的水管连接在镀膜机主机的进水口上，所述温度传感器设置在出水上；所述plc控制系统分别连接温度传感器、出水侧水泵、流量控制阀及进水侧水及冷却水循环系统。

3、进一步为更好地实现本专利技术所述的真空镀膜设备，特别采用下述设置结构：所述镀膜机主机包括镀膜腔，设置在镀膜腔外侧的水冷管道组，包覆在水冷管道组外侧的外保护层，水冷管道组的一端连接出水口，水冷管道组的另一端连接进水口。

4、进一步为更好地实现本专利技术所述的真空镀膜设备，特别采用下述设置结构：所述真空镀膜设备还包括离子源、真空控制系统、镀膜机温控系统及工艺气体配气系统，且plc控制系统分别连接离子源、真空控制系统、镀膜机温控系统及工艺气体配气系统。

5、进一步为更好地实现本专利技术所述的真空镀膜设备，特别采用下述设置结构：在水塔上还连接有供水系统，且供水系统还与plc控制系统相连接。

6、进一步为更好地实现本专利技术所述的真空镀膜设备，特别采用下述设置结构：所述冷却水联动系统还包括设置在水塔内的水位传感器，且水位传感器与plc控制系统相连接。

7、真空镀膜工艺，基于真空镀膜设备实现，特别采用下述设置方式：包括真空镀膜水冷控制工艺，具体为：

8、1）上位机监控系统开机启动并通过plc控制系统启动接于水塔上的供水系统为水塔内供水至符合循环水水量后，通过plc控制系统启动镀膜机温控系统，并继续供水直至水位传感器监测水（11）内水高于水位上限，则停止供水；

9、2）镀膜机温控系统监测镀膜机主机内温度，并将监测的温度信息传输给plc控制系统并上传至上位机监控系统，上位机监控系统根据监测数据，调用预制的启动策略，通过plc控制系统启动冷却水循环系统工作；

10、3）冷却水循环系统工作后，反馈信息通过plc控制系统上传至上位机监控系统，上位机监控系统下方控制指令到plc控制系统，plc控制系统打开流量控制阀、启动进水侧水泵、出水侧水泵，进水侧水泵将水塔内的水从进水口泵入水冷管道组，水体在水冷管道组内流动进行热交换，形成的热水从出水口流出后通过出水侧水泵泵入冷却水循环系统内进行制冷，制冷后的水塔被回收到水塔内，完成一次水冷循环。

11、进一步为更好地实现本专利技术所述的真空镀膜工艺，特别采用下述设置方式：在水冷循环过程中，温度传感器实时监测水冷管道组（3）出口水温，当监测温度低于温度下限值时，上位机监控系统下发控制指令到plc控制系统，plc控制系统根据控制指令降低冷却水循环系统工作效率或/和调小流量控制阀的开度，直至温度传感器实时监测的温度攀升为正常值；当监测温度高于温度上限值时，上位机监控系统下发控制指令到plc控制系统，plc控制系统根据控制指令提高冷却水循环系统工作效率或/和调大流量控制阀的开度，直至温度传感器实时监测的温度降低为正常值。

12、在水冷循环过程中，水位传感器实时监测水塔内水量，当低于水位下限时，上位机监控系统下发控制指令到plc控制系统，plc控制系统根据控制指令再次启动供水系统为水塔供水；当供水高于水位上限后，上位机监控系统下发控制指令到plc控制系统，plc控制系统根据控制指令关闭供水系统，停止为水塔供水。

13、进一步为更好地实现本专利技术所述的真空镀膜工艺，特别采用下述设置方式：还包括离子源辅助控制工艺、镀膜机温控系统辅助控制工艺、真空控制系统辅助控制工艺及工艺气体配气系统辅助控制工艺，其中，离子源辅助控制工艺为上位机监控系统远程通过plc控制系统控制离子源工作；镀膜机温控系统辅助控制工艺为上位机监控系统远程通过plc控制系统控制镀膜机温控系统工作；真空控制系统辅助控制工艺为上位机监控系统远程通过plc控制系统控制镀膜机温控系统控制真空控制系统工作；工艺气体配气系统辅助控制工艺为上位机监控系统远程通过plc控制系统控制工艺气体配气系统。

14、本专利技术与现有技术相比，具有以下优点及有益效果：

15、本专利技术利用冷却水循环系统形成并常温水更冷的水体来对镀膜机主机进行水冷，并结合传感器技术，实时监测水温、水位状态，使得水冷效果更优，从而本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.真空镀膜设备，其特征在于：设置有镀膜机主机（4）、水塔（11）、冷却水联动系统、PLC控制系统及与PLC控制系统相连接的上位机监控系统，所述PLC控制系统连接冷却水联动系统和镀膜机主机（4），冷却水联动系统连接镀膜机主机（4）；所述冷却水联动系统设置有温度传感器（5）、出水侧水泵（7）、流量控制阀（9）及进水侧水泵（10）及冷却水循环系统（13），所述镀膜机主机（4）的出水口（6）通过设置有出水侧水泵（7）的水管（12）连接在冷却水循环系统（13）的进水侧，冷却水循环系统（13）的出水侧通过水管（12）连接在水塔（11）的进水口上，水塔（11）的出水口通过设置有进水侧水泵（10）、流量控制阀（9）的水管（12）连接在镀膜机主机（4）的进水口（8）上，所述温度传感器（5）设置在出水口（6）上；所述PLC控制系统分别连接温度传感器（5）、出水侧水泵（7）、流量控制阀（9）及进水侧水泵（10）及冷却水循环系统（13）。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述镀膜机主机（4）包括镀膜腔，设置在镀膜腔外侧的水冷管道组（3），包覆在水冷管道组（3）外侧的外保护

3.根据权利要求1或2所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述真空镀膜设备还包括离子源、真空控制系统、镀膜机温控系统及工艺气体配气系统，且PLC控制系统分别连接离子源、真空控制系统、镀膜机温控系统及工艺气体配气系统。

4.根据权利要求1或2所述的真空镀膜设备，其特征在于：在水塔（11）上还连接有供水系统，且供水系统还与PLC控制系统相连接。

5.根据权利要求1或2所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述冷却水联动系统还包括设置在水塔（11）内的水位传感器（1），且水位传感器（1）与PLC控制系统相连接。

6.真空镀膜工艺，基于如权利要求1~5任一项所述的真空镀膜设备实现，其特征在于：包括真空镀膜水冷控制工艺，具体为：

7.根据权利要求6所述的真空镀膜工艺，其特征在于：在水冷循环过程中，温度传感器（5）实时监测水冷管道组（3）出口水温，当监测温度低于温度下限值时，上位机监控系统下发控制指令到PLC控制系统，PLC控制系统根据控制指令降低冷却水循环系统（13）工作效率或/和调小流量控制阀（9）的开度，直至温度传感器（5）实时监测的温度攀升为正常值；当监测温度高于温度上限值时，上位机监控系统下发控制指令到PLC控制系统，PLC控制系统根据控制指令提高冷却水循环系统（13）工作效率或/和调大流量控制阀（9）的开度，直至温度传感器（5）实时监测的温度降低为正常值；

8.根据权利要求6或7所述的真空镀膜工艺，其特征在于：还包括离子源辅助控制工艺、镀膜机温控系统辅助控制工艺、真空控制系统辅助控制工艺及工艺气体配气系统辅助控制工艺，其中，离子源辅助控制工艺为上位机监控系统远程通过PLC控制系统控制离子源工作；镀膜机温控系统辅助控制工艺为上位机监控系统远程通过PLC控制系统控制镀膜机温控系统工作；真空控制系统辅助控制工艺为上位机监控系统远程通过PLC控制系统控制镀膜机温控系统控制真空控制系统工作；工艺气体配气系统辅助控制工艺为上位机监控系统远程通过PLC控制系统控制工艺气体配气系统。

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【技术特征摘要】

1.真空镀膜设备，其特征在于：设置有镀膜机主机（4）、水塔（11）、冷却水联动系统、plc控制系统及与plc控制系统相连接的上位机监控系统，所述plc控制系统连接冷却水联动系统和镀膜机主机（4），冷却水联动系统连接镀膜机主机（4）；所述冷却水联动系统设置有温度传感器（5）、出水侧水泵（7）、流量控制阀（9）及进水侧水泵（10）及冷却水循环系统（13），所述镀膜机主机（4）的出水口（6）通过设置有出水侧水泵（7）的水管（12）连接在冷却水循环系统（13）的进水侧，冷却水循环系统（13）的出水侧通过水管（12）连接在水塔（11）的进水口上，水塔（11）的出水口通过设置有进水侧水泵（10）、流量控制阀（9）的水管（12）连接在镀膜机主机（4）的进水口（8）上，所述温度传感器（5）设置在出水口（6）上；所述plc控制系统分别连接温度传感器（5）、出水侧水泵（7）、流量控制阀（9）及进水侧水泵（10）及冷却水循环系统（13）。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述镀膜机主机（4）包括镀膜腔，设置在镀膜腔外侧的水冷管道组（3），包覆在水冷管道组（3）外侧的外保护层（2），水冷管道组（3）的一端连接出水口（6），水冷管道组（3）的另一端连接进水口（8）。

3.根据权利要求1或2所述的真空镀膜设备，其特征在于：所述真空镀膜设备还包括离子源、真空控制系统、镀膜机温控系统及工艺气体配气系统，且plc控制系统分别连接离子源、真空控制系统、镀膜机温控系统及工艺气体配气系统。

4.根据权利要求1或2所述的真空镀膜设备，其特征在于：在水塔（11）上还连接有供水系统，且供水系统...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢成，王伟，
申请(专利权)人：成都金鸿泰医疗设备有限公司，
类型：发明
国别省市：

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