一种可稳定镀膜的镀膜机制造技术

本发明专利技术公开了一种可稳定镀膜的镀膜机，结合传感器技术和智能控制技术，实现镀膜的智能控制，从而有效提高镀膜的均匀性，并使得光学膜厚均匀性得到有效控制，包括公转夹具（1）、真空室腔体（6）、真空室门（9）、总控系统，在真空室腔体（6）内设置有电子束蒸发源（4）、修正板系统，所述修正板系统包括可独立工作的内侧修正系统和外侧修正系统，所述电子束蒸发源（4）通过升降系统设置在真空室腔体（6）内，电子束蒸发源（4）所在蒸发平面（5）能够根据镀膜膜厚形成状况进行升降；在所述镀膜机上还设置有用于监测膜厚情况和蒸发平面（5）工作位置的监测系统，且监测系统分别与内侧修正系统、外侧修正系统及升降系统相连接。系统及升降系统相连接。系统及升降系统相连接。

【技术实现步骤摘要】
一种可稳定镀膜的镀膜机


[0001]本专利技术涉及光学薄膜制备技术等领域，具体的说，是一种可稳定镀膜的镀膜机。

技术介绍

[0002]光学薄膜的膜厚均匀性是衡量镀膜机性能的一项重要指标，它影响着光学元件的光谱特性，决定了能达到要求的实际有效镀膜面积。薄膜厚度分布均匀性是指在公转夹具上放置的待镀膜镜片表面所沉积的薄膜厚度的分布情况。对于高精度、高性能的光学系统，或大口径的光学元件和批量生产的光学元件，膜厚的均匀分布尤其重要。
[0003]电子束蒸发镀膜机一般由真空室腔体、修正板、公转夹具、真空室门等所组成，且真空室腔体侧的内侧门闭合面与真空室门侧的外侧门闭合面相配合可使真空室腔体和真空室门形成一个有机的整体，对于几乎所有的电子束蒸发镀膜机，的需要在镀膜机内添加修正板对膜厚分布进行严格的校正。这是真空镀膜中改善膜厚分布均匀性的一种重要方法。在以往的理论研究和实际生产中，当涉及到改善均匀性分布时，最常见的做法是将修正板置于蒸发源的正上方[唐晋发，顾培夫，刘旭，等. 现代光学薄膜技术．杭州：浙江大学出版社，2006:271
‑ꢀ
278]。大部分情况下，光学介质薄膜由交替沉积的高低折射率材料组成，由于高低折射率材料蒸发特性不同，很难用一块修正板同时改善两种材料的膜厚分布均匀性。此时，通常采用双蒸发源，双修正板，修正板置于对应材料正上方的做法，来改善多层膜的膜厚分布。但在实际应用中，考虑到成本和效率等因素，也存在着数量不少的单一蒸发源配置的真空镀膜设备，一般皆采用单一电子束蒸发源对应一个修正板的设计形式，从而往往会导致镀膜不均匀的情况发生。
[0004]但申请人和专利技术人在工作过程中，发觉申请名称为“一种单一电子束蒸发源的镀膜机”所公开的技术依然存在诸多需要改进的地方，特别是在对修正系统如何智能控制从而更好的达到镀膜效果方面，更是需要进行大量的创新，因此，在不断的创造中，诞生了本申请所要求保护的技术方案。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种可稳定镀膜的镀膜机，结合传感器技术和智能控制技术，实现镀膜的智能控制，从而有效提高镀膜的均匀性，并使得光学膜厚均匀性得到有效控制。
[0006]本专利技术通过下述技术方案实现：一种可稳定镀膜的镀膜机，包括公转夹具、真空室腔体、真空室门、总控系统，在真空室腔体内设置有电子束蒸发源、修正板系统，所述修正板系统包括可独立工作的内侧修正系统和外侧修正系统，所述电子束蒸发源通过升降系统设置在真空室腔体内，电子束蒸发源所在蒸发平面能够根据镀膜膜厚形成状况进行升降；在所述镀膜机上还设置有用于监测膜厚情况和蒸发平面工作位置的监测系统，且监测系统分别与内侧修正系统、外侧修正系统及升降系统相连接。
[0007]进一步为更好地实现本专利技术所述的一种可稳定镀膜的镀膜机，特别采用下述设置结构：所述监测系统包括单片机、信号处理电路A、第一红外传感器、信号处理电路B、第二红外传感器、信号处理电路C及第三红外传感器，所述单片机分别连接信号处理电路A、信号处理电路B及信号处理电路C，信号处理电路A连接第一红外传感器，信号处理电路B连接第二红外传感器，信号处理电路C连接第三红外传感器，单片机连接总控系统；所述第一红外传感器设置在公转夹具的中心顶点；所述第二红外传感器设置在公转夹具上，且位于内侧修正系统的上方；所述第三二红外传感器设置在公转夹具上，且位于外侧修正系统的上方。
[0008]进一步为更好地实现本专利技术所述的一种可稳定镀膜的镀膜机，特别采用下述设置结构：所述内侧修正系统包括内侧修正板、驱动电机及转接轴，驱动电机的输出轴连接转接轴，转接轴连接内侧修正板，驱动电机通过第一电机驱动控制电路连接总控系统；所述外侧修正系统包括外侧修正板、驱动电机及转接轴，驱动电机的输出轴连接转接轴，转接轴连接外侧修正板，驱动电机（10通过第一电机驱动控制电路连接总控系统。
[0009]进一步为更好地实现本专利技术所述的一种可稳定镀膜的镀膜机，特别采用下述设置结构：所述内侧修正板和外侧修正板在蒸发平面的投影位于真空室腔体的半径方向上，且在膜厚相对待镀膜样品到真空室腔体中心距离最不敏感的角度。
[0010]进一步为更好地实现本专利技术所述的一种可稳定镀膜的镀膜机，特别采用下述设置结构：所述内侧修正板和外侧修正板能同步升降或异步升降或一升一降；所述电子束蒸发源在蒸发两种不同折射率的材料时，内侧修正板和外侧修正板交替升降。当所述电子束蒸发源在蒸发高折射率材料时，所述内侧修正板升起，低折射率材料对应的外侧修正板降落；当所述电子束蒸发源蒸发低折射率材料时，外侧修正板升起，高折射率材料对应的内侧修正板降落。
[0011]进一步为更好地实现本专利技术所述的一种可稳定镀膜的镀膜机，特别采用下述设置结构：所述内侧修正板和外侧修正板可进行材料更换。
[0012]进一步为更好地实现本专利技术所述的一种可稳定镀膜的镀膜机，特别采用下述设置结构：所述内侧修正板和外侧修正板在蒸发平面的投影与起始线的夹角，是膜厚分布相对样品到真空腔体中心距离最不敏感的角度。起始线和角度的定义如下：以电子束蒸发源所在平面为蒸发平面，以真空室腔体中心为原点，以电子束蒸发源与真空室腔体中心连线为起始线，内侧修正板投影与起始线夹角小于90
°
，外侧修正板投影与起始线夹角大于270
°
。
[0013]进一步为更好地实现本专利技术所述的一种可稳定镀膜的镀膜机，特别采用下述设置结构：在所述真空室腔体内，所述内侧修正板远离真空室门设置，所述外侧修正板靠近真空室门设置。
[0014]进一步为更好地实现本专利技术所述的一种可稳定镀膜的镀膜机，特别采用下述设置结构：所述升降系统包括升降器、气源系统及升降机控制电路，升降机控制电路连接气源系统，气源系统连接升降器，升降器连接电子束蒸发源，升降机控制电路连接总控系统。
[0015]进一步为更好地实现本专利技术所述的一种可稳定镀膜的镀膜机，特别采用下述设置结构：所述升降器包括缸体及轴杆，轴杆连接电子束蒸发源，气源系统通过进气管和出气管连接缸体。
[0016]本专利技术与现有技术相比，具有以下优点及有益效果：（1）本专利技术通过联动控制模式，在进行镀膜时，利用红外传感器实时监测膜厚情
除非另有明确具体的限定。
[0030]在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也 可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0031]在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种可稳定镀膜的镀膜机，包括公转夹具（1）、真空室腔体（6）、真空室门（9）、总控系统，在真空室腔体（6）内设置有电子束蒸发源（4）、修正板系统，其特征在于：所述修正板系统包括可独立工作的内侧修正系统和外侧修正系统，所述电子束蒸发源（4）通过升降系统设置在真空室腔体（6）内，电子束蒸发源（4）所在蒸发平面（5）能够根据镀膜膜厚形成状况进行升降；在所述镀膜机上还设置有用于监测膜厚情况和蒸发平面（5）工作位置的监测系统，且监测系统分别与内侧修正系统、外侧修正系统及升降系统相连接。2.根据权利要求1所述的一种可稳定镀膜的镀膜机，其特征在于：所述监测系统包括单片机、信号处理电路A、第一红外传感器、信号处理电路B、第二红外传感器、信号处理电路C及第三红外传感器，所述单片机分别连接信号处理电路A、信号处理电路B及信号处理电路C，信号处理电路A连接第一红外传感器，信号处理电路B连接第二红外传感器，信号处理电路C连接第三红外传感器，单片机连接总控系统；所述第一红外传感器设置在公转夹具（1）的中心顶点；所述第二红外传感器设置在公转夹具（1）上，且位于内侧修正系统的上方；所述第三二红外传感器设置在公转夹具（1）上，且位于外侧修正系统的上方。3.根据权利要求1所述的一种可稳定镀膜的镀膜机，其特征在于：所述内侧修正系统包括内侧修正板（2）、驱动电机（10）及转接轴（11），驱动电机（10）的输出轴（12）连接转接轴（11），转接轴（11）连接内侧修...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢成，王伟，
申请(专利权)人：成都金鸿泰医疗设备有限公司，
类型：发明
国别省市：