【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体低温泵,具体为一种应用于半导体低温泵冷凝装置。
技术介绍
1、在半导体元器件的制造工艺中,许多需要高真空、高清洁度或低温的环境,在这些方面半导体低温泵具有非常明显的优势。半导体低温泵在设备的真空腔体内部没有运动部件,无需润滑和密封,不会给真空腔体带入任何外来物质,因此可以获得高清洁度的真空环境。
2、现有的半导体低温泵有如下缺陷:
3、现有半导体低温泵设备中,低温泵运转过程中出现超低温,使气体中的分子冷凝,且气体流通时会出现反流现象,这就需要给低温泵一个合理的冷凝装置。
技术实现思路
1、(一)解决的技术问题
2、针对现有技术的不足,本技术提供了一种应用于半导体低温泵冷凝装置,解决了现有有半导体低温泵设备中,低温泵运转过程中出现超低温,使气体中的分子冷凝,且气体流通时会出现反流现象,这就需要给低温泵一个合理的冷凝装置的技术问题。
3、(二)技术方案
4、为实现以上目的,本技术通过以下技术方案予以实现:一种应用于半导
...【技术保护点】
1.一种应用于半导体低温泵冷凝装置,其特征在于:包括装置本体(1),所述装置本体(1)包括冷凝盖板(2)、流通块组(3)和流通口组(4),所述流通块组(3)设有三个,三个所述流通块组(3)和流通口组(4)呈环状等距方式安装在冷凝盖板(2)底部;
2.根据权利要求1所述的一种应用于半导体低温泵冷凝装置,其特征在于:所述冷凝盖板(2)顶部和底部均设有一组呈对称方式分布的坐标标识(11)和宣传标识(12)。
3.根据权利要求1所述的一种应用于半导体低温泵冷凝装置,其特征在于:所述冷凝盖板(2)底部设有两组呈环状等距方式分布的定位块(13),所述定位块
...【技术特征摘要】
1.一种应用于半导体低温泵冷凝装置,其特征在于:包括装置本体(1),所述装置本体(1)包括冷凝盖板(2)、流通块组(3)和流通口组(4),所述流通块组(3)设有三个,三个所述流通块组(3)和流通口组(4)呈环状等距方式安装在冷凝盖板(2)底部;
2.根据权利要求1所述的一种应用于半导体低温泵冷凝装置,其特征在于:所述冷凝盖板(2)顶部和底部均设有一组呈对称方式分布的坐标标识(11)和宣...
【专利技术属性】
技术研发人员:崔汉博,
申请(专利权)人:上海优尊真空设备有限公司,
类型:新型
国别省市:
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