一种羟胺插层氧基氯化铁材料及其制备方法与应用技术

本发明专利技术涉及一种羟胺插层氧基氯化铁材料及其制备方法与应用，属于插层氧基氯化铁领域，本发明专利技术的制备方法所制得羟胺插层氧基氯化铁材料，羟胺有效插层至氧基氯化铁的层间，氧基氯化铁材料层间距有效扩大，主衍射峰前移；所得的羟胺插层氧基氯化铁材料，可有效提高氧基氯化铁中二价铁含量，提高氧基氯化铁催化活性，实现对双酚A的高效降解，且可在较宽pH范围内均可以起到降解作用，同时还可以降解废水时所需过一硫酸盐浓度低，不会产生二次污染。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于插层氧基氯化铁领域，具体的说，涉及一种羟胺插层氧基氯化铁材料及其制备方法与应用。

技术介绍

1、高级氧化技术能够产生具有强氧化能力的活性自由基(如·oh和so4–)，常被用于处理水中难降解的有机污染物，过硫酸根离子具有一定的氧化性，其氧化还原电位为2.1v，但经活化后产生的硫酸根自由基具有更高的氧化还原电位(2.5～3.1v)，对难降解有机污染物有更好的去除效果。且与羟基自由基相比，硫酸根自由基氧化能力更强，能够更快、更彻底地降解有机污染物，因此过硫酸盐常用于氧化处理污水。

2、氧基氯化铁是一种高效的fenton催化剂，表现出比其它铁基催化剂更好的性能，但在温和条件(中性溶液、自然光和室温)下使用时，feocl催化剂仍然远远不能令人满意。在非均相fenton反应中，以氧基氯化铁化合物为催化剂，过一硫酸盐为氧化剂，对有机物的降解效率低下，且只能在酸性条件下对有机物起到有效分解。

技术实现思路

1、针对
技术介绍
中存在的问题，本专利技术提供了一种羟胺插层氧基氯化铁材料及其制备方法与应用，所本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种羟胺插层氧基氯化铁材料，其特征在于，所述的羟胺插层氧基氯化铁材料为层间插有羟胺的氯氧化铁。

2.一种羟胺插层氧基氯化铁材料的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤（2）中，氯氧化铁与羟胺的摩尔比为1:4-8。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）的羟胺溶液为羟胺的甲醇溶液，浓度为0.30-0.60mol/L 。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，步骤（4）所述的洗涤是指用乙醇洗涤。

6.如权利要求1至5任一项所述的羟胺插层氧基氯化铁材料在污水...

【技术特征摘要】

1.一种羟胺插层氧基氯化铁材料，其特征在于，所述的羟胺插层氧基氯化铁材料为层间插有羟胺的氯氧化铁。

2.一种羟胺插层氧基氯化铁材料的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤（2）中，氯氧化铁与羟胺的摩尔比为1:4-8。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）的羟胺溶液为羟胺的甲醇溶液，浓度为0.30-0.60mol/l 。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐西蒙，张舒静，王御豪，杨盈，
申请(专利权)人：昆明理工大学，
类型：发明
国别省市：