System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺制造技术_技高网

一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺制造技术

技术编号:40213315 阅读:6 留言:0更新日期:2024-02-02 22:22
本发明专利技术涉及引线框架蚀刻液回收技术领域,尤其是一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺,该工艺包括以下步骤:步骤一:将使用后的蚀刻液抽取至回收装置中的电解槽内,然后将盖板封盖在电解槽上,对电解槽内的蚀刻液通电以进行电解工作;本发明专利技术通过中和箱和空气循环组件的设置,空气循环组件将电解槽内的气体抽取至中和箱中,随后通过气泵和固定管吹回至电解槽中,在此过程中,利用中和箱中的碱性溶液实现对酸性物质的中和工作,使得溶液中易挥发的酸性物质,如硫酸、盐酸等酸性物质进行中和反应,降低酸性物质对技术人员的伤害和对环境的污染。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及引线框架蚀刻液回收领域,尤其涉及一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺


技术介绍

1、蚀刻液,是一种铜版画雕刻用原料,常用于引线框架的生产中,蚀刻主要是指将线路板上不需要的金属铜除去。一般情况下,线路板的蚀刻是一个化学蚀刻过程,蚀刻完后的蚀刻液含有很高浓度的铜离子和其他化学物质,具有一定的回收价值。

2、在公开号为cn113969404b的专利中便公开了一种集成电路引线框架蚀刻液回收装置,包括回收槽,所述回收槽侧面靠低端的位置固定连通有回收管,所述回收槽的内壁上从上至下依次设置有第一分隔板、第二分隔板和过滤板。

3、但是上述回收装置在使用时仍具有一定的缺陷,现有技术中,由于蚀刻液中往往存在一些酸性物质,如硫酸、盐酸等,酸性物质易挥发,容易因挥发导致空气中弥漫着酸性物质,而酸性物质附着在空气中,在被技术人员呼吸进入体内之后易造成不可逆转的损伤,其次,现有技术中电铜往往是在阴极获得,在阴极存在浓差极化的情况,会因浓茶极化导致电解过程更加费电。


技术实现思路

1、本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺。

2、为达到以上目的,本专利技术采用的技术方案为:一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺,该工艺包括以下步骤:

3、步骤一:将使用后的蚀刻液抽取至回收装置中的电解槽内,然后将盖板封盖在电解槽上,对电解槽内的蚀刻液通电以进行电解工作;

4、步骤二:开启气泵,利用气泵对电解槽内的空气进行循环,在循环的过程中,对蚀刻液中含有的酸性物质进行中和,开启水泵,利用水泵对电解槽内的水进行循环,利用水循环实现对蚀刻液的搅拌;

5、步骤三:在电解的过程中,通过灯泡观察反应是否进行,通过电阻加热丝对蚀刻液进行加热,加快酸性物质的挥发;

6、所述回收装置包括电解槽,还包括:

7、盖板,升降安装在电解槽的顶部,用于实现对电解槽的封堵;

8、中和箱,固定连接在盖板的顶部,其内预先添加有碱性溶液;

9、空气循环组件,用以实现对电解槽内的空气循环,并且空气流经中和箱;

10、水循环组件,设置在电解槽的一侧,用于实现对电解槽内蚀刻液的循环;

11、导电加热组件,用于实现对蚀刻液的电解和对蚀刻液的加热工作;

12、在电解的过程中,通过盖板将电解槽密封起来,空气循环组件利用中和箱实现对酸性物质的中和工作,空气循环组件将空气吹在蚀刻液上,引起蚀刻液波动,通过水循环组件实现对蚀刻液的搅拌,进一步实现蚀刻液的波动,进而蚀刻液起到搅拌的作用,导电加热组件在工作的过程中,能够加快电解反应的进行,加快酸性物质的挥发。

13、优选的,还包括密封组件,所述密封组件包括:

14、橡胶垫,固定连接在盖板的底部,橡胶垫与电解槽的顶部壁板抵接;

15、气囊,嵌设在电解槽的顶部壁板内,气囊与橡胶垫抵接;

16、在电解的过程中,空气循环组件会将导电加热组件散发的热量传导至蚀刻液上,进而引起蚀刻液温度升高,然后使得电解槽内的温度升高,气囊内的气体受热膨胀,进而使得气囊与橡胶垫的抵接更加紧密,进一步实现对电解槽的密封。

17、优选的,所述空气循环组件包括:

18、气泵,固定连接在电解槽的一侧,气泵设置有两个吸气端,分别连通有伸缩管和进气管,气泵的输出端连通有固定管;

19、气槽,开设在电解槽的底部;

20、多个气孔,其两端分别与气槽和电解槽的内部腔室连通;

21、多个单向阀,分别设置在多个气孔内;

22、其中,伸缩管与中和箱连通;

23、在空气循环的过程中,通过气泵从中和箱内抽取空气输送至气槽中,随后通过气孔进入到电解槽中,然后通过电解槽再回到中和箱中,以此实现空气的循环,在循环的过程中,利用中和箱内的碱性溶液对蚀刻液中挥发的酸性物质进行中和。

24、优选的,所述中和箱内设置有分散单元,所述分散单元包括:

25、出气管,出气管贯穿盖板的顶部和中和箱的底部壁板;

26、分散盒,固定连接在中和箱的底部,且分散盒内部中心处开设有中空槽;

27、多个分散孔,开设在分散盒上且分散孔与中空槽连通,分散孔的顶部设置有止逆阀;

28、在空气循环的过程中,进入到电解槽内的空气会通过出气管进入到中空槽中,随后通过分散孔回到中和箱中,通过分散孔对气流进行分割,加大气流与中和箱中碱性溶液的接触面积,使得碱性溶液对电解槽中挥发的酸性物质进行充分的中和工作。

29、优选的,所述水循环组件包括:

30、水泵,固定连接在电解槽的一侧;

31、两个循环水管,分别与水泵的输出端和输入端连通,两个循环水管远离水泵的一端均与电解槽连通,与水泵输入端连通的循环水管上设置有防堵单元,防堵单元设置在电解槽内;

32、弧形导流板,固定连接在电解槽的内壁上,与水泵输出端连通的循环水管位于弧形导流板的一侧;

33、在水循环的过程中,水泵抽出的水流会冲击在弧形导流板上,利用弧形导流板对水流的引导,使得水流在电解槽内形成旋涡,利用水流形成的旋涡,进而实现搅拌的作用。

34、优选的,所述防堵单元包括:

35、滤板,滤板设置在与水泵输入端连通的循环水管中,滤板位于该循环水管远离水泵的一端;

36、刷板,转动安装在电解槽内,且刷板与滤板抵接;

37、扇叶,转动安装在电解槽内,用于对刷板的转动提供动力;

38、在水泵工作的过程中,滤板将电解生成的铜过滤下来,而电解槽内蚀刻液的流动会带动扇叶转动,扇叶进而带动刷板转动,刷板实现对滤板的防堵。

39、优选的,所述导电加热组件包括分别设置在电解槽两端的阴极柱和阳极柱,还包括:

40、灯泡,与阴极柱远离阳极柱的一端电性连接;

41、多个电阻加热丝,与灯泡远离电流检测传感器的一端电性连接;

42、在电解开始时,对电解槽内的溶液通电,通过观察灯泡是否发亮来检测蚀刻液导电是否接通,通过电阻加热丝对溶气槽进行加热,热量经过气槽和电解槽的底部壁板传导至电解槽内的蚀刻液上,电解的过程中,蚀刻液在阴极柱上通过电解反应得到阴极铜。

43、优选的,所述电阻加热丝设置在气槽内,电阻加热丝在加热的过程中,空气循环组件将电阻加热丝发出的热量通过气流传导至电解槽内的蚀刻液上。

44、优选的,所述导电加热组件还包括:

45、控制器,固定连接在电解槽上;

46、电磁开关,与阳极柱远离阴极柱的一端电性连接;

47、电流检测传感器,设置在阴极柱与灯泡之间,电流检测传感器的两端分别与灯泡和阴极柱电性连接;

48、在电解的过程中,蚀刻液的导电性会随着溶液中铜离子的减少而降低,在蚀刻液的导电性低于一定值本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺,其特征在于,该工艺包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺,其特征在于:还包括密封组件,所述密封组件包括:

3.根据权利要求1所述的一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺,其特征在于:所述空气循环组件包括:

4.根据权利要求3所述的一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺,其特征在于:所述中和箱(3)内设置有分散单元,所述分散单元包括:

5.根据权利要求1所述的一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺,其特征在于:所述水循环组件包括:

6.根据权利要求5所述的一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺,其特征在于:所述防堵单元包括:

7.根据权利要求1所述的一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺,其特征在于:所述导电加热组件包括分别设置在电解槽(1)两端的阴极柱和(8)阳极柱(9),还包括:

8.根据权利要求7所述的一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺,其特征在于:所述电阻加热丝(17)设置在气槽(16)内,电阻加热丝(17)在加热的过程中,空气循环组件将电阻加热丝(17)发出的热量通过气流传导至电解槽(1)内的蚀刻液上。

9.根据权利要求7所述的一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺,其特征在于:所述导电加热组件还包括:

10.根据权利要求9所述的一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺,其特征在于:所述控制器(6)在电解过程中的工作方法具体为:

...

【技术特征摘要】

1.一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺,其特征在于,该工艺包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺,其特征在于:还包括密封组件,所述密封组件包括:

3.根据权利要求1所述的一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺,其特征在于:所述空气循环组件包括:

4.根据权利要求3所述的一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺,其特征在于:所述中和箱(3)内设置有分散单元,所述分散单元包括:

5.根据权利要求1所述的一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺,其特征在于:所述水循环组件包括:

6.根据权利要求5所述的一种集成电路引线框架蚀刻液回收再利用工艺,其特征在于:所述防堵单元包括:...

【专利技术属性】
技术研发人员:康亮李军强李小虎
申请(专利权)人:天水华洋电子科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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