IC引线框架光刻机双光源控制机构制造技术

本技术公开了一种IC引线框架光刻机双光源控制机构，包括机体、上平行光源反射镜、下平行光源反射镜，所述机体上部通过隔板分隔有操控区，所述机体下部通过隔板分隔有扫描区，所述上平行光源反射镜设于机体上且位于操控区左侧，所述上平行光源反射镜底部设有上平行光源且位于上平行光源反射镜和上平行光源之间设有上扫描光源，所述下平行光源反射镜设于扫描区内且下平行光源反射镜顶部设有下平行光源且下平行光源顶部设有下扫描光源，所述机体上设有上扫描轨道，所述上扫描光源顶部滑动连接于上扫描轨道上，通过操作面板根据芯片基片保护层上的不同材料，控制保护层所需要的光源，对光源进行独立控制。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于ic引线框架光刻机，具体涉及一种ic引线框架光刻机双光源控制机构。

技术介绍

1、ic引线框架光刻机是用于半导体芯片制造工艺中的关键设备之一。它主要于将光刻胶层上的图形模式投影到芯片基片上，形成引线框架以连接芯片器件，ic引线框架光刻机通过使用光刻胶和光源进行曝光和显影的过程来实现。首先，在光刻胶层上涂覆一层光刻胶液，然后使用掩膜或掩模板上的图形模式进行曝光。光刻机会利用高能紫外光源或激光光源，将光刻胶层所需的图形模式投射到芯片基片上的保护层上。

2、现有的，在ic引线框架光刻机通过光源将图形模式投射到保护层上时，由于，保护层的不同材料可分为干膜或湿膜，且干膜和湿膜所需要的光源不同，现有的，只有在干膜或湿膜一组在进行曝光时，通过提前设定好合适的光源，对其进行曝光，无法独立的控制对干膜或湿膜曝光所需要的光源，较为不便。

技术实现思路

1、本技术的目的在于提供一种ic引线框架光刻机双光源控制机构，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。

2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种ic引线框架光刻机双光源控制机构，包括：

3、机体，所述机体上部通过隔板分隔有操控区，所述机体下部通过隔板分隔有扫描区；

4、上平行光源反射镜，所述上平行光源反射镜设于机体上且位于操控区左侧，所述上平行光源反射镜底部设有上平行光源且位于上平行光源反射镜和上平行光源之间设有上扫描光源；

5、下平行光源反射镜，所述下平行光源反射镜设于扫描区内且下平行光源反射镜顶部设有下平行光源且下平行光源顶部设有下扫描光源。

6、优选的，所述操控区上设有用于操控不同光源的操作面板，通过操作面板上的多组按钮，可对光源进行独立控制。

7、优选的，所述机体上设有上扫描轨道，所述上扫描光源顶部滑动连接于上扫描轨道上。

8、优选的，所述扫描区设有下扫描轨道，所述下扫描光源底部滑动连接于下扫描轨道上。

9、优选的，所述上平行光源、上扫描光源、下平行光源、下扫描光源均为led光源，led光源可以提供较好的光学性能和稳定性，同时降低能耗、减少维护成本。

10、本技术的技术效果和优点：该ic引线框架光刻机双光源控制机构，包括机体，机体上部通过隔板分隔有操控区，机体下部通过隔板分隔有扫描区，上扫描光源顶部滑动连接于上扫描轨道上，下扫描光源底部滑动连接于下扫描轨道上，通过操作面板根据芯片基片保护层上的不同材料，控制保护层所需要的光源，对光源进行独立控制，使上扫描光源在上扫描轨道上来回移动，以及下扫描光源在下扫描轨道上来回移动，通过调节后的光源对芯片基片进行曝光处理。

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【技术保护点】

1.一种IC引线框架光刻机双光源控制机构，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种IC引线框架光刻机双光源控制机构，其特征在于：所述操控区(2)上设有用于操控不同光源的操作面板(10)。

3.根据权利要求1所述的一种IC引线框架光刻机双光源控制机构，其特征在于：所述机体(1)上设有上扫描轨道(11)，所述上扫描光源(6)顶部滑动连接于上扫描轨道(11)上。

4.根据权利要求1所述的一种IC引线框架光刻机双光源控制机构，其特征在于：所述扫描区(3)设有下扫描轨道(12)，所述下扫描光源(9)底部滑动连接于下扫描轨道(12)上。

5.根据权利要求1所述的一种IC引线框架光刻机双光源控制机构，其特征在于：所述上平行光源(5)、上扫描光源(6)、下平行光源(8)、下扫描光源(9)均为LED光源。

【技术特征摘要】

1.一种ic引线框架光刻机双光源控制机构，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种ic引线框架光刻机双光源控制机构，其特征在于：所述操控区(2)上设有用于操控不同光源的操作面板(10)。

3.根据权利要求1所述的一种ic引线框架光刻机双光源控制机构，其特征在于：所述机体(1)上设有上扫描轨道(11)，所述上扫描光源(6)顶部滑动连接于上扫描轨...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘保华，徐小龙，管燕彬，
申请(专利权)人：昆山建高远自动化科技有限公司，
类型：新型
国别省市：