IC框架卷对卷自动曝光机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种IC框架卷对卷自动曝光机，包括机架，机架的两端分别设有卷对卷放料机构和卷对卷收料机构，卷对卷放料机构的右侧设有卷对卷粘尘机构，机架的中部设有三层双旋转CCD对位平台，三层双旋转CCD对位平台的四个拐角处设有伺服电机同时升降机构，三层双旋转CCD对位平台上设有四组上下菲林对位CCD；本实用新型专利技术应用于IC框架，FPC金属蚀刻解决卷材上无孔的产品，对产品高精度要求的图形转移；由于图形精度高要求，配套安装了四组上下菲林对位CCD，四组上下菲林对位CCD分别解决上下菲林对位精度及料卷图形对位精度，上、下面曝光光源配备平行光LED光源，提供更高解析度。提供更高解析度。提供更高解析度。

【技术实现步骤摘要】
IC框架卷对卷自动曝光机


[0001]本技术涉及曝光机
，具体为一种IC框架卷对卷自动曝光机。

技术介绍

[0002]曝光机应用于IC框架，FPC金属蚀刻解决卷材上无孔的产品，对产品高精度要求的图形转移，由于图形精度高要求，普通的曝光机无法实现上下菲林对位精度及料卷图形对位精度，且无法提供更高解析度。为此，我们推出一种IC框架卷对卷自动曝光机。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种IC框架卷对卷自动曝光机，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种IC框架卷对卷自动曝光机，包括机架，所述机架的两端分别设有卷对卷放料机构和卷对卷收料机构，所述卷对卷放料机构的右侧设有卷对卷粘尘机构，所述机架的中部设有三层双旋转CCD对位平台，所述三层双旋转CCD对位平台的前端设有放料纠偏光电传感器、辅助入料滚轮组和曝光前夹料装置，所述三层双旋转CCD对位平台的后端设有后托料机构、出料端压料装置、出料端张力机构机限位机构、夹料台及水平拉料滑台；
[0005]所述三层双旋转CCD对位平台的四个拐角处设有伺服电机同时升降机构，所述三层双旋转CCD对位平台上设有四组上下菲林对位CCD；
[0006]所述三层双旋转CCD对位平台上方设有平行光遮光镜、平行光复眼、平行光LED光源和上凹面反光镜，所述三层双旋转CCD对位平台下方设有下凹面反光镜。
[0007]所述辅助入料滚轮组上设有伺服限位机构。所述三层双旋转CCD对位平台的前端设有呈上下分布的米思米导柱导套轴承组和前托料机构。
[0008]卷材由放料机构端的卷对卷放料机构放料，依次经过张力轮，卷对卷粘尘机构、辅助入料滚轮组、出料端张力机构机限位机构、曝光段、水平拉料段、然后由收料端的卷对卷收料机构控制收料。
[0009]与现有技术相比，本技术的有益效果是：本技术应用于IC框架，FPC金属蚀刻解决卷材上无孔的产品，对产品高精度要求的图形转移；由于图形精度高要求，配套安装了四组上下菲林对位CCD，四组上下菲林对位CCD分别解决上下菲林对位精度及料卷图形对位精度，上、下面曝光光源(即上凹面反光镜和下凹面反光镜)配备平行光LED光源，提供更高解析度。
附图说明
[0010]图1为本技术整体的结构示意图；
[0011]图2为本技术三层双旋转CCD对位平台的设置结构示意图。
[0012]图中：1、卷对卷放料机构；2、卷对卷粘尘机构；3、伺服限位机构；4、曝光前夹料装
置；5、下凹面反光镜；6、三层双旋转CCD对位平台；7、伺服电机同时升降机构；8、出料端张力机构机限位机构；9、夹料台；10、卷对卷收料机构；11、上凹面反光镜；12、平行光LED光源；13、平行光复眼；14、平行光遮光镜；15、放料纠偏光电传感器；16、辅助入料滚轮组；17、米思米导柱导套轴承组；18、前托料机构；19、上下菲林对位CCD；20、出料端压料装置；21、后托料机构；22、水平拉料滑台。
具体实施方式
[0013]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0014]请参阅图1
‑
2，本技术提供一种技术方案：一种IC框架卷对卷自动曝光机，包括机架，所述机架的两端分别设有卷对卷放料机构1和卷对卷收料机构10，所述卷对卷放料机构1的右侧设有卷对卷粘尘机构2，所述机架的中部设有三层双旋转CCD对位平台6，所述三层双旋转CCD对位平台6的前端设有放料纠偏光电传感器15、辅助入料滚轮组16和曝光前夹料装置4，所述三层双旋转CCD对位平台6的后端设有后托料机构21、出料端压料装置20、出料端张力机构机限位机构8、夹料台9及水平拉料滑台22；
[0015]所述三层双旋转CCD对位平台6的四个拐角处设有伺服电机同时升降机构7，所述三层双旋转CCD对位平台6上设有四组上下菲林对位CCD 19；
[0016]所述三层双旋转CCD对位平台6上方设有平行光遮光镜14、平行光复眼13、平行光LED光源12和上凹面反光镜11，所述三层双旋转CCD对位平台6下方设有下凹面反光镜5。
[0017]所述辅助入料滚轮组16上设有伺服限位机构3。所述三层双旋转CCD对位平台6的前端设有呈上下分布的米思米导柱导套轴承组17和前托料机构18。
[0018]具体的，使用时，该IC框架卷对卷自动曝光机应用于IC框架，FPC金属蚀刻解决卷材上无孔的产品，对产品高精度要求的图形转移；
[0019]由于图形精度高要求，配套安装了四组上下菲林对位CCD 19，四组上下菲林对位CCD 19分别解决上下菲林对位精度及料卷图形对位精度，上、下面曝光光源(即上凹面反光镜11和下凹面反光镜5)配备平行光LED光源12，提供更高解析度；
[0020]运作流程：
[0021]卷材由放料机构端的卷对卷放料机构1放料，依次经过张力轮，卷对卷粘尘机构2、辅助入料滚轮组16、出料端张力机构机限位机构8、曝光段、水平拉料段、然后由收料端的卷对卷收料机构10控制收料。
[0022]尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种IC框架卷对卷自动曝光机，包括机架，其特征在于：所述机架的两端分别设有卷对卷放料机构(1)和卷对卷收料机构(10)，所述卷对卷放料机构(1)的右侧设有卷对卷粘尘机构(2)，所述机架的中部设有三层双旋转CCD对位平台(6)，所述三层双旋转CCD对位平台(6)的前端设有放料纠偏光电传感器(15)、辅助入料滚轮组(16)和曝光前夹料装置(4)，所述三层双旋转CCD对位平台(6)的后端设有后托料机构(21)、出料端压料装置(20)、出料端张力机构机限位机构(8)、夹料台(9)及水平拉料滑台(22)；所述三层双旋转CCD对位平台(6)的四个拐角处设有伺服电机同时升降机构(...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘保华，徐小龙，管燕彬，
申请(专利权)人：昆山建高远自动化科技有限公司，
类型：新型
国别省市：