用于熔断器的熔体以及具有其的熔断器制造技术

技术编号:40156218 阅读:7 留言:0更新日期:2024-01-26 23:31
本技术涉及用于熔断器的熔体以及具有其的熔断器。该熔体包括:基片,其由具有第一熔点的导电材料制成并且构造成具有沿长度方向延伸的平整表面的细长形状;至少一排狭窄部段,其沿该基片的长度方向彼此间隔地形成在该基片上;辅助层,其由具有低于第一熔点的第二熔点的导电材料制成并且附接至该基片的沿长度方向延伸的平整表面,该辅助层在该基片的长度方向上邻近该至少一排狭窄部段中最接近该基片的长度方向上的中心位置的目标狭窄部段并且相对于该目标狭窄部段在该基片的长度方向上错位布置。由此,本技术中的熔体以及熔断器的适用范围更广且成本较低。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及电力或电动汽车的电路保护器件,尤其涉及用于熔断器的熔体以及具有其的熔断器


技术介绍

1、熔断器作为电流保护器凭借其可快速分断的优点被广泛应用于高低压配电系统和控制系统以及用电设备,比如半导体整流元件或整流装置。熔断器通常可包括绝缘壳体、安装至绝缘壳体两端的接线端子和内置于绝缘壳体内且两端分别连接至对应接线端子的熔体,使得熔体经由接线端子串联至外部被保护电路。

2、由此,当被保护电路中的电流超过规定值即出现故障电流时,故障电流经由接线端子通过熔体,熔体会在经过一段时间后因累计的热效应熔断,从而分断被保护电路以对其进行保护。然而,现有技术中的熔体通常仅被设计成分断短路电流或者为了能够同时具备分断短路故障电流和低倍过载电流的能力而导致结构十分复杂,这就会造成要么电流保护范围较窄要么制作成本较高的缺陷。

3、因此,在本领域内对于电流保护范围较广且成本较低的熔体以及熔断器存在需求。


技术实现思路

1、本技术旨在提供一种至少能够解决上述部分问题的熔体。

2、本技术还旨在提供一种应用上述改进的熔体的熔断器。

3、根据本技术的一个方面,提供了一种用于熔断器的熔体,所述熔体包括:基片,其由具有第一熔点的导电材料制成并且构造成具有沿长度方向延伸的平整表面的细长形状;至少一排狭窄部段,其沿所述基片的长度方向彼此间隔地形成在所述基片上;辅助层,其由具有低于第一熔点的第二熔点的导电材料制成并且附接至所述基片的沿长度方向延伸的平整表面,所述辅助层在所述基片的长度方向上邻近所述至少一排狭窄部段中最接近所述基片的长度方向上的中心位置的目标狭窄部段并且相对于所述目标狭窄部段在所述基片的长度方向上错位布置;其中在所述至少一排狭窄部段构造成多排狭窄部段的情况下,所述辅助层构造成在所述基片的长度方向上与所述目标狭窄部段之间相距第一距离,并且所述多排狭窄部段中在所述基片的长度方向上相对于所述目标狭窄部段位于所述辅助层的对侧的另一狭窄部段与所述目标狭窄部段之间相距第二距离,所述第一距离小于所述第二距离的一半;在所述至少一排狭窄部段构造成一排狭窄部段的情况下,所述辅助层构造成在所述基片的长度方向上与所述一排狭窄部段之间相距第一距离。

4、与现有技术相比,本技术中的熔体通过在其上设置熔点低于基片的辅助层,可在故障电流通过熔体时与基片之间发生冶金效应,以降低目标狭窄部段的熔点而加速熔断。辅助层相对于基片的贴合布置可便于熔化后的辅助层在基片上的流动,特别是在目标狭窄部段的较高温度下被引导至目标狭窄部段,这可以避免基片表面上任何可能的凹部对流动造成阻碍。此外,辅助层在基片的长度方向上相对于目标狭窄部段的中心位置的错位布置可尤其有利于熔体在低倍过载电流下的应用,以允许本技术中的熔体在通过低倍过载故障电流时可在期望时间内不熔断。

5、优选地,所述辅助层在所述基片的长度方向上邻接所述目标狭窄部段。

6、优选地,所述熔体还包括在所述基片上沿所述基片的长度方向相对于所述至少一排狭窄部段间隔布置的灭弧胶。

7、优选地,在所述至少一排狭窄部段构造成至少三排狭窄部段的情况下,所述熔体还包括在所述基片上沿所述基片的长度方向布置在其间未设有所述辅助层的两个相邻狭窄部段之间的至少一个灭弧胶。

8、优选地,所述灭弧胶在所述基片的厚度方向上相对布置。

9、优选地,各狭窄部段均包括分别从所述基片的宽度方向上的两端侧向另一端侧延伸的两个边孔和居中定位在两个所述边孔之间以与两侧的所述边孔配合形成两个狭径的中间孔。

10、优选地,所述辅助层沿所述基片的宽度方向的两末端在所述基片的宽度方向上分别延伸至两个所述狭径内。

11、优选地,所述辅助层设计成沿所述基片的厚度方向的投影图案为圆形、矩形或长腰形。

12、根据本技术的另一方面,提供了一种熔断器,所述熔断器包括前述的熔体。

13、本技术的其它特征和优点的一部分将会是本领域技术人员在阅读本申请后显见的,另一部分将在下文的具体实施方式中结合附图描述。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于熔断器的熔体(100),其特征在于,所述熔体(100)包括:

2.根据权利要求1所述的用于熔断器的熔体(100),其特征在于,所述辅助层(30)在所述基片(10)的长度方向上邻接所述目标狭窄部段(20a)。

3.根据权利要求1所述的用于熔断器的熔体(100),其特征在于,所述熔体(100)还包括在所述基片(10)上沿所述基片(10)的长度方向相对于所述至少一排狭窄部段(20)间隔布置的灭弧胶(40)。

4.根据权利要求1所述的用于熔断器的熔体(100),其特征在于,在所述至少一排狭窄部段(20)构造成至少三排狭窄部段(20)的情况下,所述熔体(100)还包括在所述基片(10)上沿所述基片(10)的长度方向布置在其间未设有所述辅助层(30)的两个相邻狭窄部段(20)之间的至少一个灭弧胶(40)。

5.根据权利要求3或4所述的用于熔断器的熔体(100),其特征在于,所述灭弧胶(40)在所述基片(10)的厚度方向上相对布置。

6.根据权利要求1所述的用于熔断器的熔体(100),其特征在于,各狭窄部段(20)均包括分别从所述基片(10)的宽度方向上的两端侧向另一端侧延伸的两个边孔(21)和居中定位在两个所述边孔(21)之间以与两侧的所述边孔(21)配合形成两个狭径(23)的中间孔(22)。

7.根据权利要求6所述的用于熔断器的熔体(100),其特征在于,所述辅助层(30)沿所述基片(10)的宽度方向的两末端在所述基片(10)的宽度方向上分别延伸至两个所述狭径(23)内。

8.根据权利要求1所述的用于熔断器的熔体(100),其特征在于,所述辅助层(30)设计成沿所述基片(10)的厚度方向的投影图案为圆形、矩形或长腰形。

9.一种熔断器,其特征在于,所述熔断器包括根据权利要求1至8中任一项所述的熔体(100)。

...

【技术特征摘要】

1.一种用于熔断器的熔体(100),其特征在于,所述熔体(100)包括:

2.根据权利要求1所述的用于熔断器的熔体(100),其特征在于,所述辅助层(30)在所述基片(10)的长度方向上邻接所述目标狭窄部段(20a)。

3.根据权利要求1所述的用于熔断器的熔体(100),其特征在于,所述熔体(100)还包括在所述基片(10)上沿所述基片(10)的长度方向相对于所述至少一排狭窄部段(20)间隔布置的灭弧胶(40)。

4.根据权利要求1所述的用于熔断器的熔体(100),其特征在于,在所述至少一排狭窄部段(20)构造成至少三排狭窄部段(20)的情况下,所述熔体(100)还包括在所述基片(10)上沿所述基片(10)的长度方向布置在其间未设有所述辅助层(30)的两个相邻狭窄部段(20)之间的至少一个灭弧胶(40)。

5.根据权利要求3或4所述的用于熔断器的熔体(100...

【专利技术属性】
技术研发人员:廖启航张磊杜磊康帆范刚鹏
申请(专利权)人:库柏西安熔断器有限公司
类型:新型
国别省市:

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