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本技术涉及用于熔断器的熔体以及具有其的熔断器。该熔体包括：基片，其由具有第一熔点的导电材料制成并且构造成具有沿长度方向延伸的平整表面的细长形状；至少一排狭窄部段，其沿该基片的长度方向彼此间隔地形成在该基片上；辅助层，其由具有低于第一熔点的第...
该专利属于库柏西安熔断器有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过库柏西安熔断器有限公司授权不得商用。

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