【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光伏制造领域，具体而言，涉及一种曝光装置。
技术介绍
1、在太阳电池的制备过程中，电镀铜技术的图形化方案主要以曝光为主，目前的图形化技术方案先将待打印的电池片放置在打印平台上，通过定位相机识别电池片的偏移角度和位置，然后通过内部算法对平台进行微调，最后移动平台移动到激光打印镜头下方进行曝光，通过掩膜将图形转印在硅片上，完成一张电池片的打印，整个流程下来，耗时较长，转印效率低，不满足太阳电池规模化生产的要求。
技术实现思路
1、本申请实施例的目的在于提供一种曝光装置，其能够改善现有基片曝光耗时较长，转印效率低的技术问题。
2、本申请实施例提供一种曝光装置，其包括传送组件、掩膜版以及曝光组件。
3、传送组件具有用于沿输送路径输送基片的承载面，承载面开设有多个吸附部件，吸附部件用于吸附基片；掩膜版具有掩膜版图形，掩膜版被配置为与传送组件的相对位置及相对角度可调；曝光组件位于掩膜版背离传送组件的一侧，曝光组件被配置在曝光组件的运行状态下与传送组件之间的相对位置保持不变，曝光组件用于将掩膜版图形转印于基片背离吸附部件的一侧。
4、在上述实现过程中，利用传送组件沿输送路径持续输送多个基片，实现基片运输的连续性，输送过程中基片可能会发生偏移但偏移较小，因此在曝光组件的运行过程中，通过传送组件和曝光组件的相对位置不变，只需调节掩膜版的位置和角度即可快速校准其与待曝光的基片位置，在校准后采用曝光组件将掩膜版图形转印于基片即可，实现基片输送及转印的连续性，
5、在一种可能的实施方案中，传送组件具有与曝光组件对应的目标位置，以输送至目标位置的基片作为目标基片；曝光装置包括：对准相机，对准相机配置为在目标基片曝光之前，对准相机对掩膜版及目标基片进行摄影并获得摄影数据，掩膜版被配置为根据摄影数据，调节并校准掩膜版相对于目标基片的中心位置及角度。
6、在上述实现过程中，利用对准相机对掩膜版及目标基片进行摄影并获得摄影数据，从而确定掩膜版及目标基片的相对位置以及角度，然后掩膜版被配置为根据摄影数据，调节并校准掩膜版相对于目标基片的中心位置及角度，直至掩膜版和目标基片的角度和中心位置重合完成校准，实现转印的精准度，满足规模化生产。
7、在一种可能的实施方案中，掩膜版和基片均呈矩形，对准相机的数量为两个，两个对准相机沿掩膜版的对交线布置。
8、在上述实现过程中，由于掩膜版和基片均呈矩形，二者均具有四条边，此时利用两个对准相机沿掩膜版的对交线布置，每个对准相机可以精准的获得掩膜版相邻的两个边与基片的边缘的中心位置及角度偏移量，设置简单，且有利于提高曝光的精准度，提高产品良率。
9、在一种可能的实施方案中，曝光装置还包括传感器，传感器配置为在对准相机进行摄影之前，传感器监测传送组件在目标位置是否吸附有目标基片，对准相机配置为当目标位置吸附有目标基片后，再对掩膜版及目标基片进行摄影。
10、在上述实现过程中，利用传感器的设置，可在监测到传送组件在目标位置吸附有目标基片，对准相机才对掩膜版及目标基片进行摄影，进行后续校准及曝光，在未监测到目标位置吸附有目标基片时，不进行后续作业，有利于节省能耗，以及有利于曝光装置实现精准、自动且连续的转印操作。
11、在一种可能的实施方案中，掩膜版位于传送组件的下方。
12、在上述实现过程中，采用自下向上的方式进行打印，便于操作。
13、在一种可能的实施方案中，传送组件包括具有承载面的传送带以及步进式驱动机构，步进式驱动机构与传送带传动连接以驱动传送带步进式移动。
14、在上述实现过程中，采用步进式移动方式进行输送基片，有利于通过控制步进速率，使每个基片在曝光前后，具有足够的时间进行校准及曝光，实现掩膜版图形精准且连续的转印于基片上，提高转印效率。
15、在一种可能的实施方案中，吸附部件为开设于承载面上的真空吸附孔。
16、在上述实现过程中，采用真空吸附孔的设置方式，可避免输送过程中损坏基片，可实现基片在转印过程中经真空吸附力的作用与承载面保持相对静止，提高转印的稳定性，提升转印质量。
17、在一种可能的实施方案中，曝光装置包括：第一驱动机构以及第二驱动机构，第一驱动机构与掩膜版传动连接，第一驱动机构用于驱动掩膜版平移；第二驱动机构与掩膜版传动连接，第二驱动机构用于驱动掩膜版旋转。
18、在上述实现过程中，利用第一驱动机构以及第二驱动机构的配合实现掩膜版被配置为与传送组件在平面上的相对位置及相对角度可调。
19、在一种可能的实施方案中，曝光装置还包括：第三驱动机构，第三驱动机构与掩膜版传动连接，第三驱动机构用于驱动掩膜版升降。
20、在上述实现过程中，利用第三驱动机构实现掩膜版被配置为与传送组件在高度方向上的相对距离可调。
21、在一种可能的实施方案中，基片为电池片。
22、在上述实现过程中，利用基片为电池片，实现太阳电池的制备过程中，电镀铜技术的图形化。
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1.一种曝光装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述传送组件具有与所述曝光组件对应的目标位置，以输送至所述目标位置的所述基片作为目标基片；
3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述掩膜版和基片均呈矩形，所述对准相机的数量为两个，两个所述对准相机沿所述掩膜版的对交线布置。
4.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，还包括传感器，所述传感器配置为在所述对准相机进行摄影之前，所述传感器监测所述传送组件在所述目标位置是否吸附有所述目标基片，所述对准相机配置为当所述目标位置吸附有所述目标基片后，再对所述掩膜版及所述目标基片进行摄影。
5.根据权利要求1-4任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述掩膜版位于所述传送组件的下方。
6.根据权利要求1-4任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述传送组件包括具有所述承载面的传送带以及步进式驱动机构，所述步进式驱动机构与所述传送带传动连接以驱动所述传送带步进式移动。
7.根据权利要求1-4任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述吸附部件
8.根据权利要求1-4任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置包括：
9.根据权利要求8所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置还包括：第三驱动机构，与所述掩膜版传动连接，所述第三驱动机构用于驱动所述掩膜版升降。
10.根据权利要求1-4任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述基片为电池片。
...【技术特征摘要】
1.一种曝光装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述传送组件具有与所述曝光组件对应的目标位置，以输送至所述目标位置的所述基片作为目标基片；
3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述掩膜版和基片均呈矩形，所述对准相机的数量为两个，两个所述对准相机沿所述掩膜版的对交线布置。
4.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，还包括传感器，所述传感器配置为在所述对准相机进行摄影之前，所述传感器监测所述传送组件在所述目标位置是否吸附有所述目标基片，所述对准相机配置为当所述目标位置吸附有所述目标基片后，再对所述掩膜版及所述目标基片进行摄影。
5.根据权利要求1-4任一项所述的曝光装置，其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员：廖海瑞，周华，章伟冠，杨小宇，蒋晓龙，戢瑞凯，
申请(专利权)人：通威太阳能成都有限公司，
类型：新型
国别省市：
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